1016万例文収録!

「威圧」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 威圧に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

威圧の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 630



例文

The values (lattice spacings d/Å) of the X-ray diffraction pattern are 12.3±0.3, 9.0±0.3, 6.8±0.3, 3.9±0.2, 3.5±0.1 and 3.4±0.1.例文帳に追加

X線回折パターン 格子面間隔d/Å(オングストローム) 12.3±0.3 9.0±0.3 6.8±0.3 3.9±0.2 3.5±0.1 3.4±0.1 - 特許庁

The p-type contact layer 24 consists of a p-type GaN-based semiconductor layer having a thickness of about 500 Å which includes a connection layer 25 having a thickness of about 100to be connected to a p-side electrode 6.例文帳に追加

p型コンタクト層24は、p側電極6と接続される約100Åの接続層25を含む約500Åの厚みのp型GaN系半導体層からなる。 - 特許庁

An AlN buffer layer 81 of 350 Å is formed on a single-crystal sapphire substrate 60 at 65°C by supplying H2 at 3 liter/minute, NH3 at 2 liter/ minute, and TMA at 500 cc/minute.例文帳に追加

単結晶のサファイア基板60上に、温度650 ℃で、H_2 を3liter/分、NH_3 を 2liter /分、TMAを500cc/分で供給して350 ÅのAlNのバッファ層61を形成した。 - 特許庁

<Positions (lattice plane distance d/Å) by the lattice plane distance display of the peaks in the X-ray diffraction pattern>: 12.4±0.8, 10.8±0.5, 9.0±0.3, 6.0±0.3, 3.9±0.3, 3.4±0.1.例文帳に追加

<X線回折パターンにおけるピークの格子面間隔表示による位置(格子面間隔d/Å)>12.4±0.8、10.8±0.5、9.0±0.3、6.0±0.3、3.9±0.3、3.4±0.1 - 特許庁

例文

The above phyllosilicate has a length of one side of 0.002-1 μm and a thickness of 6-20 Å, and desirably each phyllosilicate is uniformly dispersed in the polyamide resin while maintaining an interlaminar distance of an average of20 Å.例文帳に追加

前記層状珪酸塩は、一辺の長さが0.002〜1μm、厚みが6〜20Åであり、それぞれが平均20Å以上の層間距離を保って、ポリアミド樹脂中に均一に分散していることが望ましい。 - 特許庁


例文

Its molded article satisfies the requirements (a), and the like, which are that the maximum height difference ΔHmax is ≤3,200and the average height difference ΔHave is ≤2,000 Å when the molded article, obtained by injection with a mirror surface mold, is measured with a surface roughness meter.例文帳に追加

(a)鏡面金型で射出して得た成形品について表面粗さ計で測定を行ったときの最大高低差ΔHmaxが3200Å以下、かつ平均高低差ΔHaveが2000Å以下であること。 - 特許庁

In each of the sliding surfaces 2a and 2b of a magnetic head slider, a very hard protective film 3 made of ZrO2-Y2O3 is formed to have a thickness of 100 to 500 Å (preferably, 175 to 225 Å).例文帳に追加

磁気ヘッドのスライダの摺動面2a、2bに、ZrO_2 −Y_2 O_3 の系からなる高硬度の保護膜3を 100〜500 オングストロームの厚み(好ましくは175〜225 オングストロームの厚み)で形成した。 - 特許庁

The glass substrate for a solar cell has an average surface roughness (Ra) of20 Å, preferably10 Å, and has the surface unpolished.例文帳に追加

本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ(Ra)が20Å以下、好ましくは10Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。 - 特許庁

A preferred 'blade' 14 has at least one cutting edge with a radius of curvature not more than about 1,000 Å, preferably not more than about 500 Å.例文帳に追加

好ましい「刃」14は、約1000オングストローム、好ましくは、約500オングストローム以下の曲率半径を有する少くとも1つの刃先を有する。 - 特許庁

例文

Thickness d of the well layer is set as thick as 160and a value of Γ/d is set as large as 2×10^-4 Å^-1, where Γ is the coefficient for confining light in one layer of the well layer.例文帳に追加

上記井戸層の層厚dを160Åと厚くし、上記井戸層の一層への光閉じ込め係数をΓとすると、Γ/dを2.2×10^−4Å^−1と大きくする。 - 特許庁

例文

The photothermal conversion layer 3 is a vapor-deposited film with a thickness of 40 to 400 Å, formed of CuS or a vapor-deposited film with a thickness of 20 to 150 Å, formed of In_2O_3.例文帳に追加

光熱変換層3はCuSで形成された厚さ40〜400オングストロームの蒸着膜か、In_2O_3で形成された厚さ20〜150オングストロームの蒸着膜である。 - 特許庁

X-ray diffraction pattern (lattice plane spacing d/Å): 13.2±0.6, 12.3±0.3, 9.0±0.3, 6.8±0.3, 3.9±0.2, 3.5±0.1, and 3.4±0.1.例文帳に追加

X線回折パターン格子面間隔d/Å(オングストローム)13.2±0.612.3±0.39.0±0.36.8±0.33.9±0.23.5±0.13.4±0.1 - 特許庁

An interface adjustment layer 42 made up of a plurality of continuously deposited atomic layers is formed on the inner wall of the contact hole and on the film 20 with a thickness of several to several tens of angstroms.例文帳に追加

コンタクトホールの内壁及び層間絶縁膜の上部に連続的に蒸着された複数の原子層よりなる界面調節層を数Åないし数十Åの厚さに形成する。 - 特許庁

The silica is characterized in that the profile obtained by the Guinier plot for small angle X-ray scattering spectra (X-ray scattering intensity-q^2 value) shows no inflection point in the region of ≤6×10^-3(Å^-2) of the q^2 value.例文帳に追加

小角X線散乱スペクトルのギニエプロット(X線散乱強度−q^2値)で得られるプロフィールにおいて、q^2値が6×10^−3(Å^−2)以下の領域には変曲点が存在しないことを特徴とする。 - 特許庁

The IrOx nanowire (110) has a diameter in the range of 100to 1,000 Å, a length in the range of 1,000 Å to 2 μm, an aspect ratio (length to width) of greater than 50:1.例文帳に追加

ナノワイヤ(110)は、直径が100〜1000Åの範囲にあり、長さが1000Å〜2マイクロメートルの範囲にあり、アスペクト比(幅に対する長さ)が50:1より高い。 - 特許庁

The optical member comprises a substrate and a photocatalytic film which is formed on the substrate, has a thickness of ≥5 Å and ≤50and is made of photocatalytic film, and thus the photocatalytic film is formed on the uppermost surface.例文帳に追加

本発明は、基板と、前記基板上に光触媒物質からなる厚さ5Å以上50Å以下の光触媒膜とからなり、前記光触媒膜が最表面に成膜されていることを特徴とする。 - 特許庁

The material is produced so as to have a fine crystal size of <200 Å, most preferably, of <100 Å and may be an LaNi5 type or a TiNi type.例文帳に追加

該材料は、200Å未満、最も好ましくは100Å未満の微結晶サイズを有するように製造され、改良されたLaNi5 型またはTiNi型のいずれであってもよい。 - 特許庁

A total thickness T3 for which the average thickness of the enhancement layer 12 and the average thickness of the first soft magnetic layer 13 is formed to be25 Å and ≤80 Å.例文帳に追加

前記エンハンス層12の平均膜厚と前記第1軟磁性層13の平均膜厚を足した総合膜厚T3は25Å以上80Å以下で形成される。 - 特許庁

The surface of a short-circuited part of a cathode 7 made of metal like aluminum or the like, is made easy to oxidize, by making the thickness of the cathode so thin as 700-1,000 Å, especially 700-900 Å.例文帳に追加

アルミニウム等の金属からなる陰極を700〜1000Å、特に700〜900Åと薄くし、短絡部位等の陰極の所要表面の酸化を容易にする。 - 特許庁

The silica is characterized in that the profile obtained by the Guinier plot for small angle X-ray scattering spectra (X-ray scattering intensity -q^2 value) shows no inflection point in the region of ≤6×10^-3 (Å^-2) of the q^2 value.例文帳に追加

小角X線散乱スペクトルのギニエプロット(X線散乱強度−q^2値)で得られるプロフィールにおいて、q^2値が6×10^-3(Å^-2)以下の領域には変曲点が存在しないことを特徴とする。 - 特許庁

The glass substrate for solar cell has an average surface roughness (Ra) of20 Å, preferably10 Å, and its surface is not yet polished.例文帳に追加

本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ(Ra)が20Å以下、好ましくは10Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。 - 特許庁

In the intermediate layer 3, a range from the center to the radius 30 mm of the glass substrate 1 has a film thickness of 30 Å, and a range from the radius 30 mm to an outermost periphery has a film thickness of 60 Å.例文帳に追加

中間層3では、ガラス基盤1の中心〜半径30mmまでの範囲を30Åの膜厚で、半径30mm〜最外周までの範囲を60Åの膜厚でそれぞれ成膜した。 - 特許庁

Average surface roughness on the substrate surface, in which the texture streak is formed, is in a range of ≥1 Å but ≤6 Å, and ratio for the maximum surface roughness to the average surface roughness on this surface is in the range of less than 10.例文帳に追加

テクスチャ条痕を形成した基板表面における平均表面粗さが1Å以上、6Å以下の範囲にあり、この表面における平均表面粗さに対する最大表面粗さの比が10未満の範囲にある。 - 特許庁

The adhesive layer is formed of the noble metal, such as Au, Pt, Pd, Ag or the like and can be formed into a thickness of about 500 to about 4,000 Å or preferably about 1,000 to about 2,000 Å.例文帳に追加

接着層は、Au、Pt、Pd、Agなどの貴金属から、約500Å〜約4000Å、好ましくは約1000Å〜約2000Åの厚さに形成することができる。 - 特許庁

The material is manufactured to have the crystallite size of <200 Å, most preperably <100 Å and can be any of LaNi5 type or TiNi type.例文帳に追加

該材料は、200Å未満、最も好ましくは100Å未満の微結晶サイズを有するように製造され、改良されたLaNi_5 型またはTiNi型のいずれであってもよい。 - 特許庁

Preferably, the lattice constant a axis length is 2.880≤a≤2.890 Å and c axis length is 14.29≤c≤14.32 Å.例文帳に追加

六方晶で帰属した場合の格子定数a軸長が2.880≦a≦2.890Åであり、且つ、c軸長が14.29≦c≦14.32Å、であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for forming a compound insulation film which is an extra-thin film of several tens to several hundreds Å whose acquisition has been difficult by the conventional sputtering process, and is convenient for the gap layer of a magnetic head and a tunnel joining type GMR (Giant Magneto-Resistance).例文帳に追加

従来のスパッタ法では困難であった数十〜数百Åの極薄で磁気ヘッドのギャップ層やトンネル接合型GMRに好都合な化合物絶縁膜を形成する方法を提案する - 特許庁

A preferred 'blade' 14 has at least one cutting edge with a radius of curvature not greater than about 1,000 Å, preferably not greater than about 500 Å.例文帳に追加

好ましい「刃」14は、約1000オングストローム、好ましくは、約500オングストローム以下の曲率半径を有する少なくとも1つの刃先を有する。 - 特許庁

The invention relates to the rhombic crystal comprising complex of glucocorticoid receptor ligand connecting domain with the ligand, belonging to 12_12_12_1 space group, having unit cells a=48.0±4.0 Å, b=116.5±4.0 Å, c=164.0±4.0 Å and α=β=γ=90°.例文帳に追加

グルココルチコイド受容体リガンド結合ドメインとリガンドとの複合体を含む斜方晶系の結晶であり、空間群がI2_12_12_1に属し、単位格子がa=48.0プラスマイナス4.0オングストローム、b=116.5プラスマイナス4.0オングストローム、c=164.0プラスマイナス4.0オングストローム、α=β=γ=90°であることを特徴とする結晶等。 - 特許庁

The oxide superconductive thin film composed of a copper oxide super conductor, in which the atomic ratio of Y:Ba:Cu is 1:2:3, and having crystallinity c-axis-oriented in a direction vertical to the substrate is formed through the platinum(Pt) buffer layer having40 Å, particularly140to <420 Å, particularly400thickness on the SiO2 substrate.例文帳に追加

SiO_2基板上に、40オングストローム以上、特に140オングストローム以上であって、420オングストローム未満、特に400オングストローム以下の厚みの白金(Pt)バッファー層を介して、Y:Ba:Cuの原子比が実質上1:2:3である銅酸化物超電導体から成り、且つ基板と垂直方向にc軸配向した結晶性を有する酸化物超電導薄膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

Future aberration-corrected electron microscopes will enable sub-Å spatial resolution and sub-eV energy resolution. 例文帳に追加

将来の収差補正電子顕微鏡は、サブオングストロームの空間分解能およびサブeVのエネルギー分解能を可能にするだろう。 - 科学技術論文動詞集

In order to elucidate the three-dimensional structure of solid objects, a sub-Å resolution TEM enabling tomography is required. 例文帳に追加

固体の三次元構造を(はっきりと)明らかにするために、トモグラフィーを可能とするサブオングストローム分解能のTEMが必要とされる。 - 科学技術論文動詞集

In the state that the four guanine molecules hydrogen bonds are formed, the distance between the donor and the acceptor is not greater than 100 Å.例文帳に追加

前記グアニン四分子水素結合体が形成された状態においては、前記ドナーと前記アクセプターとの距離は100Å以下である。 - 特許庁

This negative electrode active material is characterized by containing lithium-titanium composite oxide particles having an average pore diameter of 50-500 Å.例文帳に追加

平均細孔直径が50〜500Åであるリチウムチタン複合酸化物粒子を含むことを特徴とする負極活物質。 - 特許庁

Average pore diameter of zeolite is 3-5 Å, and the average particle size of zeolite is smaller than that of the conductive particles.例文帳に追加

該ゼオライトの平均細孔径は3〜5オングストロームであり、ゼオライトの平均粒子径は導電性粒子の平均粒子径より小さい。 - 特許庁

The lithium-titanium composite oxide particles have an average pore diameter of 50 to 500and a pore volume of 0.01 mL/g or greater.例文帳に追加

リチウムチタン複合酸化物粒子は、平均細孔直径が50〜500Åで、かつ細孔容積が0.01mL/g以上である。 - 特許庁

This rubber filler for tire molding characteristically comprises the acetylene black having 20-40 Å Lc and 10-500 μg/m2 oxygen content.例文帳に追加

Lc20〜40Å、酸素含有量10〜500μg/m^2 のアセチレンブラックからなることを特徴とするタイヤ成形用ゴム充填材。 - 特許庁

Porous inorganic fine particles having10 Å (100 nm) average pore diameter are preferably used as the porous inorganic fine particles.例文帳に追加

多孔性無機微粒子としては、平均細孔径が10オングストローム(100nm)以上ものが好ましく用いられる。 - 特許庁

In the glass for a dye-sensitized solar cell, the average ion radius of cations in a glass composition is ≤0.80 Å.例文帳に追加

本発明の色素増感型太陽電池用ガラスは、ガラス組成中のカチオンの平均イオン半径が0.80Å以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The light transmittance per 1,000 Å thickness of the silicon nitride film, with respect to light with a wavelength of 500 nm, is 85% or higher.例文帳に追加

波長500nmの光に対する厚さ1000Å当りの窒化シリコン膜の透過率は85%以上となる。 - 特許庁

This fluorine adsorbent consists of a polymer resin and a rare-earth element-containing hydroxide having 50-200 Å crystallite diameter and 0.1-5 wt.% thermal reduction in weight.例文帳に追加

高分子樹脂と、結晶子径が50〜200Å、熱減量が0.1〜5重量%の希土類元素含水酸化物とからなるフッ素吸着剤。 - 特許庁

The crystal structure of Ru is a dense hexagonal structure (hcp) and its (a) axis is about 2.70 Å long.例文帳に追加

Ruの結晶構造は稠密六方構造(hcp)であり、そのa軸の長さは約2.70Åである。 - 特許庁

The material is the one containing metallosilicate substantially having a fine hole having a diameter of 4.5-6.5 Å.例文帳に追加

前記原料は実質的に4.5〜6.5オングストローム径の細孔を有するメタロシリケートを含むものがある。 - 特許庁

The element having a trivalent ion radius of 0.70-1.00 Å is Sc, In, Er, Gd or Dy, for example.例文帳に追加

3価のイオン半径が0.70Å〜1.00Åである元素は、例えばSc、In、Er、Gd、Dyである。 - 特許庁

An etching rate of the hydrofluoric acid solution 12 for the SiO_2 film at the time of the etching is 150-3,000 Å/minute.例文帳に追加

このエッチング処理時のフッ酸水溶液12のSiO_2膜に対するエッチングレートは150〜3000Å/分である。 - 特許庁

The resultant crystal was succeedingly used for succeed crystal structure analysis with resolution of 2.2 Å by multiwavelength anomalous diffraction method (MAD method).例文帳に追加

得られた結晶を用いて、多波長異常分散法(MAD法)により分解能2.2Åの結晶構造解析に成功した。 - 特許庁

(2) Roughness of a surface (Ra), on which the insulator layer of the first ferromagnetic body layer is formed, is made to be2.5 Å.例文帳に追加

(2)第一の強磁性体層の絶縁体層を形成させる面の粗さを、Raにて2.5Å以下とする上記素子の製造方法。 - 特許庁

An electrode E2 and a stabilizing film ST2 are formed on the substrate S2 and the stabilizing film ST2 has 300-1,500film thickness.例文帳に追加

基板S2には電極E2、安定化膜ST2が形成されており、安定化膜ST2の膜厚を300Å〜1500Åの範囲とする。 - 特許庁

The tensile stress of the conductive film pattern is 300 MPa or less, and its film thickness is desirable to be 3,000-7,000 Å.例文帳に追加

導電膜パターンの引張応力は,300MPa以下であり,その膜厚さは,3000〜7000Åであることが好ましい。 - 特許庁

例文

The membrane layer (thickness: about 100-1,500 Å) is preferably formed by a sputtering method using silicon oxide (e.g.; silicon dioxide) as a target.例文帳に追加

該薄膜層(膜厚100〜1500Å程度)は酸化ケイ素(例えば二酸化ケイ素)をターゲットとしてスパッタリング法にて好ましく形成される。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
科学技術論文動詞集
Copyright(C)1996-2024 JEOL Ltd., All Rights Reserved.
  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS