「あつ乃」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

下地膜２の厚さは、０．１乃至０．３μｍである。例文帳に追加

The thickness of the base film 2 is 0.1 to 0.3 μm. - 特許庁

皮膜の厚さは０．１乃至１００μｍである。例文帳に追加

The thickness of the film is 0.1 to 100 μm. - 特許庁

また、膜厚が０．１乃至５０μｍであることが好ましい。例文帳に追加

Further, the thickness of the film is preferably 0.1-50 μm. - 特許庁

第１乃至第４検出電圧生成部３８Ａ乃至３８Ｄによる第１乃至第４検出信号Ｖ１乃至Ｖ４の生成が行なわれず、これにより第１乃至第４検出信号Ｖ１乃至Ｖ４の入力ポート４０１０、４０１２、４０１４、４０１６への供給が停止される。例文帳に追加

Then, first to fourth detection signals V1 to V4 are not generated by first to fourth detection voltage generators 38A to 38D, so that the first to fourth detection signals V1 to V4 are stopped from being supplied to input ports 4010, 4012, 4014 and 4016. - 特許庁

また、前記付加圧延工程の後に、２００乃至７００℃に０．５乃至１５時間加熱するか、又は３００乃至９５０℃に１０乃至１０００秒間加熱することにより、歪み取り焼鈍を実施することができる。例文帳に追加

Further, heating is performed at 200 to 700°C for 0.5 to 15 hr or at 300 to 950°C for 10 to 1,000 s after the additional rolling stage, so that stress relieving annealing can be performed. - 特許庁

本発明においては、超音波接合における接合条件は、加圧力Ｐを２９４乃至３４３０Ｎ、振幅を２０乃至８０μｍ、周波数を１０乃至５０ｋＨｚ、そして接合エネルギーを２００乃至８００Ｊに設定する。例文帳に追加

The joining condition in the ultrasonic joining is set so that the pressure P is 294 to 3,430 N, the amplitude is 20 to 80 μm, the frequency is 10 to 50 kHz, and the joining energy is 200 to 800 J. - 特許庁

電圧発生回路３０には、差動増幅回路１、Ｎｃｈ ＭＩＳトランジスタＮＴ１乃至３、Ｎｃｈ ＭＩＳトランジスタＮＴ１１乃至１３、Ｐｃｈ ＭＩＳトランジスタＰＴ１１乃至１３、抵抗Ｒ_Ａ１乃至Ｒ_Ａ４、及び抵抗Ｒ_Ｓ１乃至Ｒ_Ｓ４が設けられる。例文帳に追加

This voltage generating circuit 30 is provided with a differential amplifier circuit 1, Nch MIS transistors NT1-3, Nch MIS transistors NT11-13, and Pch MIS transistors PT11-13, resistances R_A1-R_A4, and resistances R_S1-R_S4. - 特許庁

前記薄鋼板の厚さは、通例０．１乃至０．５ｍｍとし、また、前記シール材の厚さは、通例０．１乃至０．２ｍｍとする。例文帳に追加

Thickness of the thin steel plate is usually 0.1 to 0.5 mm, and thickness of the seal material is usually 0.1 to 0.2 mm. - 特許庁

この箔地は、例えば、冷間圧延の総圧下率が８５乃至９５％であり、その箔地厚さは０.１８乃至０.３ｍｍである。例文帳に追加

The material for this aluminum alloy foil has, for example, the total draft percentage of cold rolling of 85-95%, and the thickness of this foil material of 0.18-0.3 mm. - 特許庁

Ｃ被覆層２ａの平均厚さは５乃至３０ｎｍである。例文帳に追加

The average thickness of the C-covered layer 2a is 5 to 30 nm. - 特許庁

電圧バイアス回路は、第１乃至第３のスイッチ回路を備える。例文帳に追加

The voltage bias circuit is provided with first to third switch circuits. - 特許庁

この電圧は５００Ｖ乃至２０００Ｖの範囲内とすることが可能である。例文帳に追加

This voltage may be within the range of 500 to 2,000 V. - 特許庁

圧力センサ３１_1乃至３１_28はユーザによる操作を受け付ける。例文帳に追加

A pressure sensor 31_1 to 31_28 accept an operation by a user. - 特許庁

皮膜の厚さは０．１乃至１００μｍとすることが好ましい。例文帳に追加

The thickness of the film is preferably 0.1-100 μm. - 特許庁

金属ガラス合金は、厚さが１０μｍ乃至２５μｍである。例文帳に追加

The glassy alloy has a thickness of 10-25 μm. - 特許庁

また、前記アルミニウム又はアルミニウム合金粉末の平均粒径は、１乃至２０μｍであり、前記樹脂皮膜の厚さは、０．５乃至５μｍである。例文帳に追加

Furthermore, the average grain size of the aluminum or aluminum alloy powder is 1 to 20 μm, and the thickness of the resin film is 0.5 to 5 μm. - 特許庁

この樹脂ペレットを１５０乃至２００℃で融解した後、厚さ２０乃至５０μｍのシート状に加工して成る食品保存用シートを製造する。例文帳に追加

The food storage sheet is produced by melting the resin pellet at 150-200°C to process the melt in a sheet form having a thickness of 20-50 μm. - 特許庁

この電着塗膜は膜厚５乃至２０μｍとし、電着塗料中の無機系微粉末の濃度は３乃至２５ｗｔ％とするのがよい。例文帳に追加

The thickness of the electrodeposition coating film is preferably controlled to 5-20 μm and the concentration of the inorganic fine powder in the electrodeposition coating material is preferably controlled to 3-25 wt.%. - 特許庁

サーバー用のラックシステムは、第１乃至第３のサーバーユニットの組と、電圧変換器１２と、第１乃至第３の電源供給回路を有する。例文帳に追加

The server rack system includes a set of first to third server units, a voltage converter 12, and first to third power supply circuits. - 特許庁

蒸着室１２乃至１５及び２２乃至２５の外部には、蒸着物５６の膜厚を計測するエリプソメータ７０がそれぞれ設けられる。例文帳に追加

At the outside of the vacuum deposition rooms from 12 to 15 and from 22 to 25, ellipsometers 70 for measuring thickness of the vacuum deposition material 56 are respectively installed. - 特許庁

坪量５０ｇ／ｍ^2乃至８０ｇ／ｍ^2、厚さが０．０７ｍｍ乃至０．１５ｍｍの範囲内にある介装紙とした。例文帳に追加

The intervenient paper has a basis weight of 50-80 g/m^2 and a thickness of 0.07-0.15 mm. - 特許庁

演算部５４において、初期電極温度ＴＰＩ１乃至ＴＰＩ３に応じた端子厚さ設定値ＸＳ１乃至ＸＳ３が演算される。例文帳に追加

A set value XS1 or XS3 of a terminal thickness corresponding to an initial temperature TPI1 or TPI3 is operated in an operation part 54. - 特許庁

蒸着室１２乃至１５及び２２乃至２５の外部には、蒸着物５６の膜厚を計測するエリプソメータ７０がそれぞれ設けられる。例文帳に追加

The outside of the evaporation rooms 12 or 15 and 22 or 25 are each provided with an ellipsometer 70 which measures the thickness of an evaporation object 56. - 特許庁

そして、ｐ型エミッタ層２の厚さを、５乃至５０μｍとし、不純物濃度を、２×１０^１６乃至１×１０^１８ｃｍ^−３とする。例文帳に追加

The thickness of the n-type emitter layer 2 is 5 to 50 μm, the impurity concentration of it is 2×10^16 to 1×10^18 cm^-3. - 特許庁

なお、低電圧バッテリ２０と高電圧バッテリ１０の電圧比は、１：２乃至１：４が好適である。例文帳に追加

The voltage ratio of the low-voltage battery 20 and the high- voltage battery 10 is preferably 1:2 to 1:4. - 特許庁

また、その板厚は０．２乃至０．５ｍｍであり、その表面には、直径が０．１乃至０．３ｍｍ、深さが０．００２乃至０．０１ｍｍである複数個の圧痕が形成されている。例文帳に追加

Moreover, its sheet thickness is 0.2 to 0.5 mm, and, on the surface, plural impressions of 0.1 to 0.3 mm diameter and 0.002 to 0.01 mm depth are formed. - 特許庁

横及び縦に並ぶよう穿孔された貫通孔２９乃至３５は、解体部２５の厚み方向に形成され、横及び縦の溝３９乃至４５は、貫通孔２９乃至３５を繋ぐよう解体部２５の表面に形成される。例文帳に追加

Lateral or vertical grooves from 39 to 45 are formed in a surface of the disassembling part 25 to communicate the through holes from 29 to 35 to each other. - 特許庁

外径がφ０．１ｍｍ乃至φ０．２ｍｍのシース熱電対の測温側先端から１０ｍｍ乃至１５０ｍｍの表面全体に、厚さが１μｍ乃至１０μｍのポリイミドをコーティングしたシース熱電対とした。例文帳に追加

This sheathed thermocouple is coated with a polyimide having 1-10 μm of thickness, on the whole surface ranging over from a temperature measuring side tip to 10-150 mm of length therefrom, in the sheathed thermocouple with ϕ 0.1-ϕ 0.2 mm of outside diameter. - 特許庁

電圧制御部２０には、低電流源５乃至７、Ｐｃｈ ＭＯＳトランジスタＰＭＴ１１乃至１４、及びＮｃｈ ＭＯＳトランジスタＮＭＴ１１乃至１３が設けられる。例文帳に追加

The voltage control section 20 prepares low current sources 5 to 7, Pch MOS transistors PMT 11 to 14, and Nch MOS transistors NMT 11 to 13. - 特許庁

Ｎｉ含有量を７乃至２５質量％、Ｆｅを８乃至３５質量％を含有し、残部がＣｕ及び不可避的不純物からなる組成の原料を、溶解鋳造した後、９５０乃至１１００℃で５乃至１０時間均質化処理し、更に異径圧延等冷間加工を行う。例文帳に追加

A raw material having a composition comprising, by mass, 7 to 25% Ni and 8 to 35% Fe, and the balance Cu with inevitable impurities is melted and cast, is thereafter subjected to homogenizing treatment at 950 to 1,100°C for 5 to 10 hr, and is further subjected to cold working such as different diameter rolling. - 特許庁

アルミニウム合金は、Ｆｅ：０．９０乃至１.６０質量％、Ｓｉ：０.０３乃至０.２０質量％及びＣｕ：０.０００５乃至０.０３０質量％を含有し、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成を有し、冷間圧延時に中間焼鈍を行わず、引張強度が１７０乃至２１０ＭＰａである。例文帳に追加

The aluminum alloy is composed of 0.90-1.60 mass % Fe, 0.03-0.20 mass % Si, 0.0005-0.030 mass % Cu and the balance Al with unavoidable impurities, wherein the tensile strength is 170-120 MPa without process annealing in cold rolling. - 特許庁

第１乃至第４検出スイッチ４４Ａ乃至４４Ｄに供給される制御信号Ｓ１が非アクティブ（「Ｌ」レベル）になると、第１乃至第４検出スイッチ４４Ａ乃至４４Ｄの全てが非導通となり、各電池２０の出力電圧が検出スイッチ４４で遮断される。例文帳に追加

When a control current S1 supplied to first to fourth detection switches 44A to 44D has become inactive (an "L" level), the first to fourth detection switches 44A to 44D all become nonconducting, so that an output voltage of each battery 20 is blocked off by a detection switch 44. - 特許庁

第２及び第３のアルミニウム合金層は、Ｓｉ：０．３乃至１．３質量％、Ｃｕ：０．３乃至１．０質量％及びＭｎ：０．３乃至１．５質量％を含有しＭｇ含有量が０．２質量％以下に規制され、その厚さは５０乃至１００μｍである。例文帳に追加

The second and third aluminum alloy layers contain 0.3 to 1.3 mass% Si, 0.3 to 1.0 mass% Cu and 0.3 to 1.5 mass% Mn and is regulated in the Mg content to ≤0.2 mass% and the thicknesses thereof are 50 to 100 μm. - 特許庁

厚み方向のレターデーション値が７０乃至３５０ｎｍであり、面内レターデーション値が２０乃至１００ｎｍであり、アセチル基の置換度が１．５乃至２．３かつプロピオニル基の置換度が０．５乃至０．９であるセルロースエステルフイルムを偏光板保護フイルムとして用いる。例文帳に追加

A cellulose ester film which has 70 to 350 nm retardation value in the thickness direction and 20 to 100 nm retardation value in the in-plane direction and whose substitutional degrees of an acetyl group and a propionyl group are 1.5 to 2.3 and 0.5 to 0.9, respectively, is used as the polarizing plate protection film. - 特許庁

塗工する際の接着剤５２の厚みは、ライナー５０の厚みの１／２乃至１／５であることが望ましい。例文帳に追加

The thickness of the adhesives 25 in coating is preferably 1/2 to 1/5 the thickness of the liner 50. - 特許庁

桜皮８は厚さ0.4乃至0.2mmに研磨仕上げされ、牛皮６は肉厚1mmのものが良しとされる。例文帳に追加

Preferably, the cherry tree bark 8 is polished and finished to a thickness of 0.4 to 0.2 mm, and the thickness of the cowhide 6 is 1 mm. - 特許庁

データ駆動部は、第１乃至第３色相の副画素に対応する映像信号をそれぞれ第１乃至第３基準電圧に基づいてデータ電圧に変換し、データ電圧を前記第１乃至第３色相の副画素にそれぞれ伝達する。例文帳に追加

The data driver converts video signals corresponding to sub-pixels of the first to third colors into data voltages based upon the first to the third reference voltages and transmits the data voltages to the sub-pixels of the first to the third colors respectively. - 特許庁

階調電圧発生回路１１は、抵抗Ｒ１乃至Ｒ３が設けられ、基準電圧Ｖｒｅｆ１と基準電圧Ｖｒｅｆ２が入力され、抵抗分割された４種類の階調電圧Ｖ０乃至Ｖ３を生成する。例文帳に追加

In the gradation voltage generation circuit 11, resistors R1-R3 are provided, reference voltages Vref1 and Vref 2 are input, and four kinds of resistance-divided gradation voltages V0-V3 are generated. - 特許庁

その御霊は拠点地付近に建立された伊曽乃神社に代々篤く奉られている。例文帳に追加

The spirit of Takekunikoriwake no mikoto has been revered for generations at Isono-jinja Shrine.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

クロメート皮膜は、クロム付着量換算で５乃至５０ｍｇ／ｍ^２の厚さを有する。例文帳に追加

The chromate coating film has 50 mg/m^2 thickness expressed by chromium deposit. - 特許庁

第２保護炭素層は、非常に薄く、例えば、０．１乃至１．０ｎｍの厚さを有する。例文帳に追加

The second protective carbon layer has very thin thickness, e.g. 0.1-1.0 nm thickness. - 特許庁

そして、セルロースアセテートフイルムは、厚みが３０乃至５０μｍの範囲に制御されている。例文帳に追加

The cellulose acetate film is controlled to have a thickness ranging from 30 to 50 μm. - 特許庁

第一のｐ−クラッド層６の層厚は０．０６μｍ乃至０．１４μｍとしている。例文帳に追加

The thickness of the p-type clad layer 6 is adjusted to 0.06-0.14 μm. - 特許庁

焼結体を、室温乃至８０℃で１ｋｖ／ｍｍの電圧で３０分間程度分極処理する。例文帳に追加

The sintered body is performed with the polarization treatment for about 30 minutes by 1 kv/mm voltage at an ambient temperature or 80°C. - 特許庁

第１乃至第ｎの電圧源１０−１〜１０−ｎはこの順に電位の絶対値が順に高くなる。例文帳に追加

The absolute values of potentials of first to n-th voltage sources 10-1 to 10-n are successively increased in this order. - 特許庁