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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ハフニウムの意味・解説 > ハフニウムに関連した英語例文

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ハフニウムを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 526



例文

(五) 酸化ハフニウム例文帳に追加

5. Hafnium oxide  - 日本法令外国語訳データベースシステム

二十二 ハフニウム例文帳に追加

(xxii) Hafnium ore  - 日本法令外国語訳データベースシステム

ハフニウム及びその化合物例文帳に追加

Hafnium and its compounds  - 日本法令外国語訳データベースシステム

酸化ハフニウムのエッチング方法例文帳に追加

METHOD OF ETCHING HAFNIUM OXIDE - 特許庁

例文

高純度ハフニウムの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY HAFNIUM - 特許庁


例文

ハフニウム錯体の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HAFNIUM COMPLEX - 特許庁

ハフニウム含有膜被覆工具例文帳に追加

HAFNIUM CONTAINING FILM-COATED TOOL - 特許庁

ハフニウムアミド錯体の製造方法及びハフニウム含有酸化膜例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HAFNIUM AMIDE COMPLEX AND HAFNIUM-CONTAINING OXIDIZED FILM - 特許庁

ハフニウム材を製造するにあたり、酸化ハフニウムを塩化してハフニウム塩化物を得、次いで上記ハフニウム塩化物を活性金属により還元して金属ハフニウムとし、さらに上記金属ハフニウムを減圧下で精製する。例文帳に追加

At the time of producing a hafnium material, a hafnium oxide is chlorinated to obtain a hafnium chloride, next, the hafnium chloride is reduced with an active metal into metal hafnium, and further, the metal hafnium is refined under a reduced pressure. - 特許庁

例文

(二十三) ハフニウム若しくはハフニウム合金の地金若しくはくず若しくはハフニウム化合物又はこれらの半製品若しくは一次製品例文帳に追加

(xxiii) Metals, waste or scraps of hafnium or hafnium alloys, or hafnium compounds, or primary or semi-finished products thereof  - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

ハフニウム部材6U,6Lはシース9内に配置され、ハフニウム部材6Uはハフニウム部材6Lよりも上方に配置される。例文帳に追加

The hafnium members 6U, 6L are arranged in the sheath 9, and the hafnium member 6U is positioned higher than the hafnium member 6L. - 特許庁

ハフニウム化合物の製造方法、Zr不純物が50ppm以下のハフニウム化合物、及びハフニウム系膜の成膜方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCTION OF HAFNIUM COMPOUND, HAFNIUM COMPOUND WITH IMPURITY Zr OF 50 PPM OR LESS, AND METHOD OF FORMING HAFNIUM-BASED FILM - 特許庁

高純度ハフニウム、同ハフニウムからなるターゲット及び薄膜並びに高純度ハフニウムの製造方法例文帳に追加

HIGH-PURITY HAFNIUM, TARGET AND THIN FILM COMPRISING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE HIGH-PURITY HAFNIUM - 特許庁

ALCVDにおいてハフニウム酸化物を用いるための硝酸ハフニウム化合物を処方すること。例文帳に追加

To prescribe hafnium nitrate compound for the purpose of using a hafnium oxide in ALCVD as well. - 特許庁

ハフニウム含有膜形成材料及び該材料から作製されたハフニウム含有膜例文帳に追加

HAFNIUM-CONTAINING FILM FORMING MATERIAL AND HAFNIUM-CONTAINING FILM MANUFACTURED THEREFROM - 特許庁

ハフニウム層34の面密度は、ハフニウム層14の面密度より低い。例文帳に追加

The face density of the hafnium layer 34 is lower than the face density of the hafnium layer 14. - 特許庁

ハフニウムという原子番号72の金属元素例文帳に追加

a metallic element of atomic number 72 called hafnium  - EDR日英対訳辞書

イリジウム−ハフニウム被覆ニッケル基超合金例文帳に追加

IRIDIUM-HAFNIUM-COATED NICKEL BASED SUPERALLOY - 特許庁

ジルコニウム又はハフニウム及びマンガン含有酸化物例文帳に追加

OXIDE CONTAINING ZIRCONIUM OR HAFNIUM AND MANGANESE - 特許庁

一次酸化物はセリウム又はハフニウムを含む。例文帳に追加

The primary oxide comprises cerium or hafnium. - 特許庁

一次酸化物はセリウム及びハフニウムを含む。例文帳に追加

The primary oxide comprises cerium and hafnium. - 特許庁

高純度テトラキス(ジアルキルアミノ)ハフニウムの製造法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY TETRAKIS(DIALKYLAMINO)HAFNIUM - 特許庁

電極材料にはハフニウムやジルコニウムを用いる。例文帳に追加

Hafnium or zirconium is used for an electrode material. - 特許庁

ジルコニウム又はハフニウム含有酸化物例文帳に追加

OXIDE CONTAINING ZIRCONIUM OR HAFNIUM - 特許庁

ジルコニウムからハフニウムを分離する方法例文帳に追加

METHOD FOR SEPARATING HAFNIUM FROM ZIRCONIUM - 特許庁

高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR HIGH-PURITY ZIRCONIUM OR HAFNIUM POWDER - 特許庁

ジルコニウムとハフニウムの分離方法例文帳に追加

METHOD FOR SEPARATING ZIRCONIUM AND HAFNIUM - 特許庁

炭素ドープ酸化ハフニウム層を有する多機能材例文帳に追加

MULTIFUNCTIONAL MATERIAL HAVING CARBON-DOPED HAFNIUM OXIDE LAYER - 特許庁

ハフニウム含有酸化物のクリーニング方法例文帳に追加

CLEANING METHOD OF HAFNIUM CONTENT OXIDE - 特許庁

オキシ窒化ジルコニウム及び/又はハフニウム・ゲ—ト誘電体例文帳に追加

OXYZIRCONIUM NITRIDE AND/OR HAFNIUM GATE DIELECTRICS - 特許庁

ハフニウム含有複合酸化物及びその製造方法例文帳に追加

HAFNIUM-CONTAINING COMPOUND OXIDE AND ITS PRODUCTION - 特許庁

基板を加熱せずに炭化ハフニウム薄膜を形成する。例文帳に追加

To deposit a hafnium carbide thin film without heating a substrate. - 特許庁

ハフニウムアミド錯体の製造方法例文帳に追加

PROCESS FOR PRODUCING HAFNIUM AMIDE COMPLEX - 特許庁

ハフニウム含有酸化膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE FILM CONTAINING HAFNIUM - 特許庁

酸化ハフニウムエッチング剤及びエッチング方法例文帳に追加

HAFNIUM OXIDE ETCHANT AND ETCHING METHOD - 特許庁

ハフニウム化合物を利用した薄膜蒸着方法例文帳に追加

THIN FILM DEPOSITION METHOD UTILIZING HAFNIUM COMPOUND - 特許庁

酸化ハフニウム用エッチング組成物例文帳に追加

ETCHING COMPOUND FOR HAFNIUM OXIDE - 特許庁

高純度ハフニウム粉の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING POWDER OF HIGH PURITY HAFNIUM - 特許庁

ハフニウムシリサイドターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HAFNIUM SILICIDE TARGET - 特許庁

ハフニウム化合物薄膜の蒸着方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film deposition method utilizing a hafnium compound. - 特許庁

ハフニウム系酸化膜形成材料例文帳に追加

MATERIAL FOR FORMING HAFNIUM-BASED OXIDE FILM - 特許庁

二十八 ハフニウム若しくはハフニウム合金(ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。)の地金若しくはくず若しくはハフニウム化合物(ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。)又はこれらの半製品若しくは一次製品例文帳に追加

(xxviii) Metals, waste, or scrap of hafnium and hafnium alloys (limited to those with a hafnium content exceeding 60% of the total weight) or hafnium compounds (limited to those with hafnium content level exceeding 60% of the total weight), or primary or semi-finished products thereof  - 日本法令外国語訳データベースシステム

フッ化物、リン酸、さらに臭化物及び/又は塩化物を含んでなるエッチング用組成物では、酸化ケイ素等の他の半導体材料にダメージを与えることなく、ハフニウムシリケート、窒化ハフニウムシリケート、ハフニウムアルミネート、窒化ハフニウムアルミネートハフニウムシリケート、ハフニウムアルミネート等を選択的にエッチングできるとともに、不燃性である。例文帳に追加

The incombustible etching composition containing a fluoride, phosphoric acid, and bromide and/or chloride can selectively etch hafnium silicate, hafnium silicate nitride, hafnium aluminate, hafnium aluminate-hafnium silicate nitride, etc., without giving any damage to another semiconductor material, such as the oxidized silicon etc. - 特許庁

ハフニウム中に含まれるジルコニウムの含有量を低減させた高純度ハフニウム、同ハフニウムからなるターゲット及び薄膜並びに高純度ハフニウムの製造方法に関し、効率的かつ安定した製造技術及びそれによって得られた高純度ハフニウム、同ハフニウムからなるターゲット及び薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a high-purity hafnium which is obtained by an efficient, stable production method and in which the zirconium content contained in hafnium is reduced, and also to provide a target and a thin film comprising the hafnium, and a production method of the high-purity hafnium. - 特許庁

少なくとも表面層がハフニウムハフニウム合金、ハフニウム合金酸化物又は酸化ハフニウムからなる基体の表面を、炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ハフニウム層又は炭素ドープハフニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とする。例文帳に追加

A base body having a multifunctional layer made of carbon-doped hafnium oxide layer or carbon-doped hafnium alloy oxide layer is provided by thermally treating the surface of the base body, in which at least the surface layer is made of hafnium, hafnium alloy, hafnium alloy oxide or hafnium oxide, in the environment in which chemical species including carbon and oxygen are supplied to the surface. - 特許庁

またハフニウム酸化膜やハフニウムシリケート膜をアンモニアガスにより加熱雰囲気下でアニールする。例文帳に追加

The hafnium oxide film and the hafnium silicate film are annealed by ammonia gas under the heating atmosphere. - 特許庁

次に、第2ハフニウムシリケート膜22の第2窒化処理を行って、第2窒素添加ハフニウムシリケート膜22aを形成する。例文帳に追加

A second nitrogen-added hafnium silicate film 22a is formed by the second nitriding treatment of the second hafnium silicate film 22. - 特許庁

次に、第1ハフニウムシリケート膜21の第1窒化処理を行って、第1窒素添加ハフニウムシリケート(HfSiON)膜21aを形成する。例文帳に追加

A first nitrogen-added hafnium silicate (HfSiON) film 21a is formed by the first nitriding treatment of the first hafnium silicate film 21. - 特許庁

次に、第1窒素添加ハフニウムシリケート膜21a上に6nm以下の膜厚の第2ハフニウムシリケート膜22を形成する。例文帳に追加

A second hafnium silicate film 22 in the film thickness of 6 nm or less is formed on the first nitrogen-added hafnium silicate film 21a. - 特許庁

例文

有機ハフニウム化合物及び該化合物を含む溶液原料並びにハフニウム含有薄膜の成膜方法例文帳に追加

ORGANIC HAFNIUM COMPOUND, SOLUTION RAW MATERIAL CONTAINING THE COMPOUND AND METHOD FOR FORMING HAFNIUM-CONTAINING THIN FILM - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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