例文 (411件) |
純未の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 411件
なお、不純物として、P:0.04%未満、Cr:0.1%未満に調整することが好ましい。例文帳に追加
Further, it is preferable that, as the impurities, the content of P is regulated to <0.04%, and the content of Cr is regulated to <0.1%. - 特許庁
なお、不純物として、P:0.04%未満、Cr:0.1%未満に調整することが好ましい。例文帳に追加
Further, as impurities, preferably, the content of P is controlled to <0.04%, and the content of Cr is controlled to <0.1%. - 特許庁
炭化水素の含有量が4質量ppm未満の高純度トリメチルガリウム。例文帳に追加
Provided is a high-purity trimethylgallium having a hydrocarbon content of <4 mass ppm. - 特許庁
気液分離手段2は、未使用の純水の取入口4を備える。例文帳に追加
The gas-liquid separating means 2 is provided with an intake 4 of unused pure water. - 特許庁
純度の高いカーボンナノチューブを製造する方法、及び未精製又は純度の低いカーボンナノチューブを精製する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for producing a carbon nanotube having high purity, and to provide a method for refining an unrefined carbon nanotube or a carbon nanotube having low purity. - 特許庁
酸素、炭素などのガス成分を除く不純物含有量が100ppm未満であることを特徴とする高純度ジルコニウム。例文帳に追加
The high-purity zirconium is characterized by containing less than 100 ppm of impurities other than gas components such as oxygen and carbon. - 特許庁
濃度の値が1ppb未満の場合には、そのまま、その超純水が、水洗リンスに用いる超純水として水洗リンス工程70に送られる。例文帳に追加
If the concentration is less than 1 ppb, the ultrapure water is fed as is to a water rinsing process 70 as an ultrapure water used for water rinsing. - 特許庁
単純換気運転を実行可能な換気装置において、単純換気運転に伴う問題の発生を未然に防ぐ。例文帳に追加
To prevent problems attendant on simple ventilation operation in regard to a ventilation device capable of performing simple ventilation operation. - 特許庁
それから、基体1上に純水供給管5から純水6を供給して、レジスト膜の未露光部分を除去する。例文帳に追加
Then, a pure water 6 is supplied onto the base body 1 from a pure water supply pipe 5, for removing a non-exposed part of the resist film. - 特許庁
ロ吸収合併対象純資産額が零未満であるときは、吸収合併対象純資産額例文帳に追加
(b) in the case where net assets subject to an Absorption-Type Merger are less than zero, the net assets subject to the Absorption-Type Merger. - 経済産業省
イ新設合併対象純資産額(当該新設合併対象純資産額が零未満である場合にあって は、零)例文帳に追加
(a) the amount of net assets subject to an Incorporation-Type Merger (in the case where said amount of net assets subject to the Incorporation-Type Merger is less than zero, the amount shall be zero); - 経済産業省
つまり、セラミック部(11)のうち、表面層(25)以外の大部分を占めるセラミック部本体(27)は、アルミナ純度が98%未満と低純度であるが、表面層(25)のアルミナ純度は98%以上と高純度とされている。例文帳に追加
Specifically, a ceramic portion body (27), which occupies a large part of the ceramic portion (11) other than the surface layer (25), has low alumina purity of less than 98%, while the surface layer (25) has high alumina purity of 98% or more. - 特許庁
酸化は、酸素、最も頻繁には純粋酸素を含む気体の存在下で、硫黄の露点未満のつまり200℃未満の温度で実施される。例文帳に追加
The oxidation is carried out in the presence of a gas containing oxygen, most frequently pure oxygen at a temperature below the dew point, that is <200°C. - 特許庁
(二) 金属不純物の含有量が全重量の〇・〇〇〇一パーセント未満のもの例文帳に追加
2. Optical glass the metal impurities content of which is less than 0.0001 % of the total weight - 日本法令外国語訳データベースシステム
ロ 金属不純物の含有量の全重量に占める割合が、次の数値未満のもの例文帳に追加
(b) Items in which the ratio of the content of metal impurities as a part of the total weight is less than following numeric values - 日本法令外国語訳データベースシステム
該アルミニウムの不純物含有量は、0.2%未満であることが好ましい。例文帳に追加
The content of impurities in aluminum is preferably lower than 0.2 wt.%. - 特許庁
半導体基板の表層の未エッチング領域からの汚染を防止して、不純物分析を行なう。例文帳に追加
Contamination from the non-etched area of the surface layer of the semiconductor substrate is prevented to perform impurity analysis. - 特許庁
不純物が濃縮された二酸化炭素は未透過ガス排出口4から排出される。例文帳に追加
Carbon dioxide with the impurities condensed is discharged from an unpermeated gas discharge port 4. - 特許庁
分離された未反応Mgを、低純度スポンジチタンの製造における還元剤にのみ使用する。例文帳に追加
The separated unreacted Mg is used only as the reducing agent in the manufacture of the low purity sponge titanium. - 特許庁
または高純度金にCoを1重量ppm 以上1000重量ppm 未満含有させる。例文帳に追加
Or, one to less than 1,000 wt.ppm of Co is contained in high purity gold. - 特許庁
その後,レジストパターン寸法縮小剤の未硬化部分を純水により洗浄除去する。例文帳に追加
Afterwards, an unhardened portion of the resist pattern dimension reduction agent is cleaned with the deionized water for removal. - 特許庁
ついで、精製された極低温流体は、100ppb未満の不純物、好ましくは10ppb未満の不純物を含む極低温流体として回収される。例文帳に追加
Then, the refined cryogenic fluid is recovered as cryogenic fluid containing impurities of lower than 100 ppb, more preferably lower than 10 ppb. - 特許庁
実質的に純粋で、特に99%以上の純度または0.05%未満の水分を有する高純度氷メタクリル酸(「HPMAA」)の高収率製造法の提供。例文帳に追加
To provide a method for producing essentially pure high-purity glacial methacrylic acid (HPMAA) especially having a purity of ≥99% or a water content of <0.05% in high yield. - 特許庁
この皮膜は、Mnを1.0乃至3.5質量%を含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなり、不可避的不純物のうちCuが0.1質量%未満、Feが0.35質量%未満、Siが0.5質量%未満に規制されている。例文帳に追加
The coating comprises 1.0 to 3.5 mass% Mn and the balance Al with unavoidable impurities among which Cu is regulated to less than 0.1 mass%, Fe to less than 0.35 mass%, and Si to less than 0.5 mass%. - 特許庁
Mg;1.0質量%を超えて4質量%未満、Sn;0.1質量%を超えて5質量%未満、Ni;0.1質量%を超えて7質量%未満を含み、残部がCu及び不可避不純物とされていることを特徴とする。例文帳に追加
The copper alloy has a composition containing, by mass, >1.0 to <4% Mg, >0.1 to <5% Sn and >0.1 to <7% Ni, and the balance Cu with inevitable impurities. - 特許庁
この粉末は、避け難い不純物含有量が0.25%未満であること、酸素含有量が0.05%未満であること、及びBET法で測定した比表面積が60m^2/kg未満であることを特徴とする。例文帳に追加
The powder is characterized in that the content of unavoidable impurities is <0.25%, the content of oxygen is <0.05%, and specific surface area measured by a BET method is <60 m^2/kg. - 特許庁
鋼材の成分組成を、 C:0.05wt%未満、 Si:0.05wt%未満、 Mn:0.1 〜4.0 wt%、 S:0.15wt%超え、0.5 wt%以下、 Ti:0.003 〜0.3 wt%および B:0.0003wt%以上、0.0040wt%未満 を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成に調整する。例文帳に追加
This steel has a componential composition containing, by weight, <0.05% C, <0.05% Si, 0.1 to 4.0% Mn, >0.15 to 0.5% S, 0.003 to 0.3% Ti, 0.0003 to <0.0040% B, and the balance Fe with inevitable impurities. - 特許庁
劣化度算出判定手段23a−2が、測定した純抵抗と純抵抗記憶手段23b−1に予め記憶した純抵抗を測定したときの充電状態に対応する未使用時及び寿命時の純抵抗とに基づいて、バッテリの劣化度を算出し判定する。例文帳に追加
A deterioration degree calculation determination means 23a-2 calculates and determines the deterioration degree of the battery based on the measured pure resistance and the pure resistances at the unused time and at the end of the service life corresponding to the charging state at the measuring time of the pure resistance stored beforehand in a pure resistance storage means 23b-1. - 特許庁
MnZn系フェライトコアにおいて、不可避的不純物のうち、リン、ホウ素、硫黄および塩素をそれぞれ、リン:3 mass ppm未満、ホウ素:3 mass ppm未満、硫黄:5 mass ppm未満および塩素:10 mass ppm未満に抑制し、かつ該MnZn系フェライトコアの理想比表面積に対する実測比表面積の比について、次式(1) を満足させる。例文帳に追加
In the MnZn-based ferrite core, among inevitable impurities, the contents of phosphorus, boron, sulfur, and chlorine are suppressed to be <3 mass ppm, <3 mass ppm, <5 mass ppm, and <10 mass ppm, respectively. - 特許庁
220nmで0.200未満のおよび250nmで0.075未満のおよび275nmで0.075未満の紫外吸収を有する、400ppm未満の全有機不純物の濃度を有する生物学的に生産された1,3−プロパンジオール。例文帳に追加
There is provided biologically-produced 1, 3-propanediol having ultraviolet absorption, such as an absorbance of less than 0.200 at a wavelength of 220 nm, an absorbance of less than 0.075 at a wavelength of 250 nm, and an absorbance of less than 0.075 at a wavelength of 275 nm, wherein concentration of all the organic impurity is less than 400 ppm. - 特許庁
イ 重量比による純度が九九・九九パーセント以上のビスマスであって、銀の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの例文帳に追加
(a) Bismuth with a weight-based purity level of 99.99% or more and a silver content less than 0.001% of the total weight - 日本法令外国語訳データベースシステム
シロキサンネットワーク膜を形成した後、シロキサンネットワーク膜の周囲に残留する未反応シロキサンオリゴマーを、純水で除去する。例文帳に追加
After siloxane network film is formed, unreacted siloxane oligomer left at the periphery of the siloxane network film is removed with pure water. - 特許庁
未精製アンモニアの蒸留により、高純度アンモニアを実用的かつ安価に得る方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of obtaining high purity ammonia practically and inexpensively by the distillation of unpurified ammonia. - 特許庁
70ないし98%酸素および2%未満のアルゴンを含有する不純酸素を合成ガス生産ユニット(3)に供給する。例文帳に追加
Impure oxygen comprising 70-98% of oxygen and <2% of argon is supplied to a unit 3 for producing a synthetic gas. - 特許庁
スズ(Sn)の含有量が0.1質量ppm未満であることを特徴とする電子部品用高純度インジウムメタルである。例文帳に追加
The high purity indium metal for the electronic component is characterized in that the content of tin (Sn) is <0.1 mass ppm. - 特許庁
単純なシステムで燃焼用原料から未利用燃料ガスへの切換をスムーズに行うことのできる燃料電池発電システムを提供する。例文帳に追加
To provide a fuel cell generator system capable of smoothly switching from a raw material for combustion to an unused fuel gas by a simple system. - 特許庁
エラストマーから不純物のレベルを、未精製のエラストマーに対して99質量%まで減少させることができる方法を提供すること例文帳に追加
To provide a method for decreasing the impurity level of an elastomer by 99 mass% based on that of the unpurified elastomer. - 特許庁
未反応スラリーが発生したときに、短時間で正常なスラリー状態に復旧することにより、純度の高い石膏を生成する。例文帳に追加
To form high-purity gypsum by restoration to a normal slurry state within a short time when an unreacted slurry is formed. - 特許庁
未反応カーボンの残存量が少ない、高純度の炭化ケイ素材を得ることができる炭化ケイ素材の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of manufacturing a silicon carbide material capable of obtaining high purity silicon carbide material with little residual of unreacted carbon. - 特許庁
沸点未満での純粋な金属イオン含有合成層状珪酸塩の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a manufacturing method of a pure synthetic layered silicate containing a metal ion at a temperature lower than its boiling point. - 特許庁
Ti合金を質量%でAl:4.4〜7.0%,Fe:0.5%未満,残部Ti及び不可避的不純物の組成を有するものとなす。例文帳に追加
The Ti alloy has a composition comprising, by mass%, 4.4 to 7.0% Al, less than 0.5% Fe, and the balance Ti with unavoidable impurities. - 特許庁
このことにより純正品とは特性の異なるインクを補充されたことによるトラブルを未然に防止することができる。例文帳に追加
According to the arrangement, trouble due to filling of ink having characteristics different from those of genuine ink can be prevented. - 特許庁
質量%で、Agを0.1〜1.0%未満、Geを0.2%以下含み、残部Snおよび不可避的不純物からなるはんだ合金である。例文帳に追加
The solder alloy has a composition containing, by mass, 0.1 to <1.0% Ag and ≤0.2% Ge, and the balance Sn with inevitable impurities. - 特許庁
接点接触部は、Snを1〜9質量%含み、不純物としてのCdが1質量%未満であるAg合金からなる。例文帳に追加
Each contact touching part contains 1-9 mass% of Sn and is formed of an Ag alloy where Cd as an impurity is less than 1 mass%. - 特許庁
この接点接触部は、Snを1〜9質量%含み、不純物としてのCdが1質量%未満であるAg合金からなる。例文帳に追加
Each contact touching part contains 1-9 mass% of Sn and is formed of an Ag alloy where Cd as an impurity is less than 1 mass%. - 特許庁
最下流側の洗浄ゾーン40における洗浄機構41,42に未使用の純水からなる洗浄水を供給する。例文帳に追加
Cleaning water composed of pure water which is not used is supplied to cleaning mechanisms 41, 42 in the cleaning zone 40 on the most downstream side. - 特許庁
不純物の量が3重量%未満である無機層状化合物を高分子に添加して成形品とする。例文帳に追加
A lamellar inorganic compound having an amount of impurities of less than 3 wt.% is added to a polymer to form molded articles. - 特許庁
本方法はラジカル不純物副生物をある場合には4%以下、他の場合には0.5%未満に制限しうる。例文帳に追加
The method can restrict the production of radical impurities to ≤4% in some case and <0.5% in other case. - 特許庁
アルミニウム以外の不純物元素量が100ppm未満と少なく、またポアが極めて少ないアルミナ焼結体を提供する。例文帳に追加
To provide an alumina sintered compact having a low content of <100 ppm impurity elements except aluminum and extremely few pores. - 特許庁
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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