「苛性カリ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

本発明の課題は、上記の様な苛性カリの高純度化要求に対し、比較的簡便な方法で高純度苛性カリを得ることができる製造方法に用いる容器を提供することである。例文帳に追加

To provide a vessel used in a production method by which high purity potassium hydroxide can be obtained by a relatively simple process and which can respond to the requirement of high purity potassium hydroxide. - 特許庁

ニカド電池という,陽極にニッケル酸化物,陰極にカドミウム,電解液に苛性カリを使った電池例文帳に追加

a battery which uses nickel oxide as the anode, cadmium as the cathode and caustic potash as the electrolyte called a nickle cadmium battery  - EDR日英対訳辞書

硬化油を苛性カリおよび水と共に加熱することを特徴とするカリ石鹸の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for producing a potash soap by heating a hardened oil together with caustic potash and water. - 特許庁

酸処理には塩酸、硝酸または硫酸を用い、アルカリ処理には苛性ソーダ、苛性カリまたは炭酸ソーダを用いる。例文帳に追加

Hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid is used for the acid treatment, and sodium hydroxide, potassium hydroxide or sodium carbonate is used for the alkali treatment. - 特許庁

よもぎの葉にＰＨ１２以上の苛性カリ水溶液を加えてなる液にクエン酸を加えＰＨ６〜７に調整してなるよもぎ処理液。例文帳に追加

The mugwort-treated liquid is acquired by adding citric acid into a liquid formed by adding caustic potash aqueous solution having PH of ≥12 to a leaf of the mugwort, to thereby adjust PH to 6-7. - 特許庁

高純度の苛性カリを得る方法に用いる容器について鋭意検討した結果、苛性カリの一水塩結晶を含むスラリーを析出させる容器の材質がニッケル材、銀材、金材、高ニッケル含有ステンレス、ポリスルフォンおよび／またはポリテトラフルオロエチレンを用いることによりナトリウム、塩素、並びに鉄、クロムおよびニッケル等の重金属等の不純物をほとんど含まない高純度苛性カリが得られることを見出し本発明を完成するに到った。例文帳に追加

The high purity potassium hydroxide almost free from impurities such as sodium, chlorine or heavy metals of iron, chromium, nickel and the like can be obtained by using a nickel material, a silver material, a gold material, stainless steel containing nickel in a high content, a polysulfone and/or a polytetrafluoroethylene as the material of the vessel used for preparing slurry containing monohydrate-crystals of potassium hydroxide to preciptate. - 特許庁

本発明の課題は、鉄含有量５０ｐｐｂ以下でクロム含有量２０ｐｐｂ以下の高純度苛性カリを得ることができる製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a producing method, by which high purity potassium hydroxide having an iron content of ≤50 ppb and a chromium content of ≤20 ppb can be obtained. - 特許庁

硬化油を苛性カリおよび水あるいはアルコールを含有する水と共に加熱することにより、製造過程や保管で発生するカリ石鹸特有の臭気および着色を抑えた保存性の高い高品質のカリ石鹸を得ることを特徴とする。例文帳に追加

A high-quality potash soap which is inhibited from yielding odor and coloration peculiar to a potash soap developed during the production process and during storage and has high shelf stability is produced by heating a hardened oil together with caustic potash and water or water containing an alcohol. - 特許庁

油脂を苛性カリ、水または水およびエタノールと共に加熱し、得られた未鹸化物および遊離アルカリを含む石鹸半製品を高周波を用いて加熱することにより反応を終結させることにより、短時間で高品質のカリ石鹸を得ることを特徴とする。例文帳に追加

A high-quality potassium soap is obtained in a short time by heating an oil and fat together with water or with water and ethanol, and completing the reaction by heating a resultant semi-product of soap containing an unsaponified material and a free alkali using high frequency. - 特許庁

顆粒状をなす粉炭に、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸又はこれらの塩の中から選択される少なくとも１種の化合物、或いは苛性カリ又は炭酸カリウムの中から選択される少なくとも１種の化合物を担持させてなる脱臭材。例文帳に追加

This deodorant is prepared by carrying and supporting at least one kind of a compound selected from phosphoric acid, phosphorous acid and hypophosphorous acid or their salts or at least one kind of a compound selected from caustic potash or potassium carbonate on slack having a granular form. - 特許庁

及び顆粒状をなす粉炭を、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸又はこれらの塩の中から選択される化合物の水溶液、或いは苛性カリ又は炭酸カリウムの中から選択される化合物の水溶液に浸漬し、乾燥する脱臭材の製造方法。例文帳に追加

The method of preparing the deodorant by immersing the slack having the granular form into an aqueous solution of the compound selected from the phosphoric acid, phosphorous acid and hypophosphorous acid or their salts or the aqueous solution of the compound selected from the caustic potash or the potassium carbonate and drying the slack. - 特許庁

油脂を苛性カリ、水およびエタノールと共に加熱し、得られた未鹸化物および遊離アルカリを含む石鹸半製品を高周波を用いて加熱することにより反応を終結させることで、短時間で高品質のカリ石鹸を得ることを特徴とするカリ石鹸の製造方法を提供する。例文帳に追加

To shorten the production time of a potassium soap, remove smell characteristic to the potassium soap and improve its quality. - 特許庁

アルカリ性で安定した増粘性を有すアクリル酸を主体としたアクリル系共重合物を含有する水溶液に苛性ソーダ又は苛性カリを溶解してなる塗付液を調整し、ＴＡＣフィルム表面にコートする（苛性アルカリ水溶液だけでは表面張力によりフィルム面に保持できない）。例文帳に追加

Sodium hydroxide or potassium hydroxide is allowed to be dissolved in an aqueous solution of an acrylic copolymer mainly comprising acrylic acid having stabilized thickening property to prepare the coating solution and the resultant coating solution is coated on the surface of the TAC film (the coated film cannot be retained on the film surface only with the caustic alkali aqueous solution due to surface tension). - 特許庁

苛性ソーダ、苛性カリ又は次亜塩素酸ソーダ等の次亜ハロゲン酸塩等のアルカリ性電解質と食塩、塩化カリ、臭化ナトリウム、臭化カリウム、硝酸ナトリウム等の塩類電解質の水溶液を電気分解して生成した電解水を水道水又は各種用途で使用する用水に希釈・混合し洗濯・浄化殺菌水とする。例文帳に追加

The washing/cleaning sterilized water is made by diluting and mixing electrolytic water produced by electrolyzing a solution of an alkaline electrolyte such as caustic soda, caustic potash or hypohalogenide or the like such as hypochlorous acid soda and salts electrolyte such as salt, potassium chloride, sodium bromide, potassium bromide, sodium nitrate or the like in service water used for tap water or various kinds of usage. - 特許庁

油脂の鹸化価のほぼ３分の２の苛性カリを使用する鹸化により、原料油脂に含まれるトリグリセリドおよびジグリセリドをカリ石鹸とモノグリセリドに加水分解し、カリ石鹸とモノグリセリドをほぼ２体１モル比に含有しさらに水と微量のグリセリンを含有する混合物を得る。例文帳に追加

A triglyceride and a diglyceride contained in raw material oils and fats are hydrolyzed into potash soap and the monoglyceride by saponification using caustic potash in an amount of about 2/3 of saponification value of oils and fats to give a mixture which comprises potash soap and the monoglyceride in the molar ratio of approximately 2:1, water and a very small amount of the monoglyceride. - 特許庁

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ（ＮａＯＨ）及び苛性カリ（ＫＯＨ）からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を３０μｍ以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。例文帳に追加

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step. - 特許庁