Boschを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
a method of synthesizing ammonia, called the Haber-Bosch process 例文帳に追加
ハーバーボッシュ法というアンモニア合成法 - EDR日英対訳辞書
Mitigation. Contribution of Working Group III to the Fourth Assessment Report of the Intergovernmental Panel on Climate Change, ed. B. Metz, O.R. Davidson, P.R. Bosch, R. Dave, L.A. Meyer (Cambridge, United Kingdom and New York, NY, USA: Cambridge University Press, 2007). 例文帳に追加
B. Metz、O.R. Davidson、P.R. Bosch、R. Dave、L.A. Meyer 編纂「気候変動に関する政府間パネル第4 次評価に関する報告（The Fourth Assessment Report of Governmental Panel on Climate Change）」へのワーキングループⅢの寄稿（英国ケンブリッジおよび米国ニューヨーク州ニューヨーク市：ケンブリッジ大学出版局、2007 年）。 - 経済産業省
To provide a plasma processed shape simulating device and program capable of estimating a processed shape formed by the Bosch process.例文帳に追加
ボッシュプロセスにより形成される加工形状を予測することができる、プラズマ加工形状シミュレーション装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁
To provide an ammonia synthesis method from nitrogen and hydrogen in place of Harber Bosch process under high pressure and an apparatus therefor.例文帳に追加
本発明は、高圧を必要とするハーバーボッシュ法に変わる窒素と水素からアンモニアの合成方法とその装置を提案するものである。 - 特許庁
Then, a second trench 7b communicating with the first trench 7a is formed at the back side of the silicon substrate 1 with a second insulating film 5 as a mask member by using the Bosch process.例文帳に追加
次に、第２の絶縁膜５をマスク部材としてシリコン基板１の裏面側に、第１のトレンチ７ａに連通する第２のトレンチ７ｂを同じくボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁
A three-dimensional structure is formed using this method and a vertical anisotropic etching step performing vertical anisotropic etching by Bosch method, and the three-dimensional structure is utilized in a device.例文帳に追加
本方法と、Ｂｏｓｃｈ法による垂直異方性エッチングを行う垂直異方性エッチング工程とを用いて三次元構造体を製造し、該三次元構造体をデバイスに利用する。 - 特許庁
First, a first trench 7a is formed at the upper surface side of a silicon substrate 1 with a first insulating film 3 as a mask member by using, for example, a Bosch process.例文帳に追加
まず、第１の絶縁膜３をマスク部材としてシリコン基板１の上面側に第１のトレンチ７ａを例えばボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁
The via hole 3 penetrating through the predetermined region of a semiconductor substrate 1 is formed by etching from one surface to another surface of the semiconductor substrate 1 in applying the Bosch process with the use of a mask layer 2 as a mask.例文帳に追加
マスク層２をマスクとし、ボッシュプロセスを利用して半導体基板１の一方の面から他方の面方向へエッチングし、当該半導体基板１の所定領域を貫通するビアホール３を形成する。 - 特許庁
Various large-scale projects have been carried out in Kyushu. For example, in the case of the Huis Ten Bosch project, DBJ conducted very rigorous screening and as a result, it gave the go-ahead and provided a syndicated loan together with private-sector banks. 例文帳に追加
九州は色々な大型プロジェクトをしておりますが、例えば、ハウステンボスだとかというプロジェクトでは、当時、（日本）政策（投資）銀行が非常に厳しい審査をしてくれまして、これならやっていけるだろうといって、民間銀行と協調融資ということでやってきました。 - 金融庁
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