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D and Cの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8522



例文

(c) 0.2<Di/Dvo<0.5 and (d) 0.4<dv/Dvs<0.998.例文帳に追加

(b)0.85<Di/Dv<1.0、(c)0.2<Di/Dvo<0.5、(d)0.4<Dv/Dvs<0.998。 - 特許庁

C and D 例文帳に追加

C及びD - 日本法令外国語訳データベースシステム

Further, the torque limit values A, B, C and D satisfy relations of A< B<C> D and B<D.例文帳に追加

トルク制限値A、B、C及びDは、A<B<C>DかつB<Dとなるように設定する。 - 特許庁

Then come(s) B, C, and D in that order. 例文帳に追加

次に B, C, D がその順で出ている. - 研究社 新英和中辞典

例文

Where, the gene group is composed of (a) LsGA3ox1, (b) LsGA2ox2, (c) LsNCED4 and (d) LsABA8ox3.例文帳に追加

<遺伝子群>(a)LsGA3ox1(b)LsGA2ox2(c)LsNCED4(d)LsABA8ox3 - 特許庁


例文

C-u and C-d scroll the display up/down by the specified amount of lines while preserving the cursor position. 例文帳に追加

C-u と C-d は、指定された行数だけ画面を上下にスクロールさせる。 - JM

(Refer to Figure c. Tower of London and Figure d. Oxford Castle.) 例文帳に追加

(図cロンドン塔・図dオックスフォード城参照) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Paragraphs (4) (c) and (d) do not limit paragraph (4) (b). 例文帳に追加

(4) (c)及び(d)は,(4) (b)を制限するものではない。 - 特許庁

(d) requests for correction of the translations mentioned in (b) and (c).例文帳に追加

(d) (b)及び(c)にいう翻訳文の訂正請求 - 特許庁

例文

sections 23(3)(c) and 24(1)(d) of the Ordinance have no application; 例文帳に追加

条例第23条(3)(c)及び第24条(1)(d)は適用されない。 - 特許庁

例文

and 0.3×D_C≤D_Y≤0.9×D_C.例文帳に追加

関係式 0.3×D_M≦D_Y≦0.9×D_M 0.3×D_C≦D_Y≦0.9×D_C - 特許庁

Preferably, the C-glucoside derivative is chosen from C-β-D-xylopyranoside-2-hydroxypropane and C-α-D-xylopyranoside-2-hydroxypropane.例文帳に追加

好ましくは、C-グリコシド誘導体は、C-β-D-キシロピラノシド-2-ヒドロキシプロパン及びC-α-D-キシロピラノシド-2-ヒドロキシプロパンから選択される。 - 特許庁

This hair dye composition comprises (A) an acidic dye, (B) a hydrocarbon oil, (C) a polyether-modified silicone and (D) γ-caprolactone, wherein the content weight relations of the components (B), (C) and (D) are (B)/(C)=0.1 to 15, and [(B)+(C)]/(D)=0.01 to 2.例文帳に追加

(A)酸性染料、(B)炭化水素油、(C)ポリエーテル変性シリコーン及び(D)γ-カプロラクトンを含有し、成分(B)、成分(C)及び成分(D)の含有重量の関係が、(B)/(C)=0.1〜15、かつ〔(B)+(C)〕/(D)=0.01〜2である染毛剤組成物。 - 特許庁

Each transformer module 100 (a, b, c, d) includes a primary coil 107 (a, b, c, d) and a secondary coil 108 (a, b, c, d).例文帳に追加

各トランスモジュール100(a,b,c,d)は、1次コイル107(a,b,c,d)と、2次コイル108(a,b,c,d)とを含む。 - 特許庁

A and B, C, and D 例文帳に追加

A及びB、C並びにD - 法令用語日英標準対訳辞書

Article 2(1)(xviii)(c) and (d) 例文帳に追加

前項第十八号ハ及びニ - 日本法令外国語訳データベースシステム

ERYTHROPHLESIN A, B, C AND D例文帳に追加

エリスロフレシンA、B、C及びD - 特許庁

FUZANINS A, B, C AND D例文帳に追加

フザニンA、B、C及びD - 特許庁

Tekishi are divided into two types; kyokuteki of pitch C or D, and hoteki of pitch F and G. 例文帳に追加

笛子にはC管D管などの曲笛やF管G管などのホウ笛(梆笛)がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

sections 23(3)(c) and 24(1)(d) and (2)(b) of the Ordinance have no application. 例文帳に追加

条例第23条(3)(c)及び第24条(1)(d)及び(2)(b)は,適用されない。 - 特許庁

cpparg is an argument for the C preprocessor, and is anything starting with -I, -D,-U or -C. 例文帳に追加

cpparg は C プリプロセッサへの引数で、-I、 -D、-U または -Cのいずれかから始まる文字列です。 - Python

D=B-C, Q is a quotient of B/C in case of C<D, and a quotient of B/D in a case of C>D.例文帳に追加

D=B−Cで、QはC<Dの場合におけるB/Cの商で、C>Dの場合におけるB/Dの商である。 - 特許庁

The expression (1) is P=(A-B)*|A-B|^(n-1)/(|A-B|^n+|C-D|^n), and the expression (2) is P=(C-D)*|C-D|^(n-1)/(|A-B|^n+|C-D|^n).例文帳に追加

P=(A−B)*|A−B|^(n−1)/(|A−B|^n+|C−D|^n)・・・(1)P=(C−D)*|C−D|^(n−1)/(|A−B|^n+|C−D|^n)・・・(2) - 特許庁

In the simplest way, this straight line can be approximated by the equation (1): Stochastic Blur=(a×I+b)×Z+(c×I+d), wherein, a, b, c, and d respectively denote unknown quantities which can be found by simulation calculation.例文帳に追加

Stochastic Blur=(a×I+b)×Z+(c×I+d) …(1) この直線の4つの未知数a、b、c、dは実験又は、シミュレーション計算から求めることができる。 - 特許庁

The A, B and C Banks have been merged to form the D Bank.例文帳に追加

A 銀行, B 銀行, C 銀行の 3 つを合わせて D 銀行が誕生した. - 研究社 新和英中辞典

In Spanish, the sequence ch will collate after c and before d. 例文帳に追加

スペイン語ではchの並びはcの後, dの前として整列される. 《→collation 【補説】》 - 研究社 英和コンピューター用語辞典

In the Byte mode, ports A,B,C and D are totally independent 例文帳に追加

バイトモードでは,ポートA,B,C及びDは,それぞれ完全に独立している - コンピューター用語辞典

d) issuance of a notification by OSIM concerning any procedure under a), b) and c) above.例文帳に追加

(d) 前記(a),(b)及び(c)の手続に関するOSIM による通知の発出 - 特許庁

c) requirements in accordance with Section 24(2)(d) and (e) except classification referred to in Section 24(3).例文帳に追加

(c) 第24条(3)にいう分類を除き,第24条(2)(d)及び(e)に従う要件 - 特許庁

Finally, on the basis of the data of the crossing lines (a), (b), (c) and (d), line gaps a-b, b-c and c-d are calculated by interpolating processing and the non-axial tomographic image is prepared.例文帳に追加

最後に交差ラインa,b,c,dのデータを基にライン間a-b,b-c,c-dを補間処理により算出し、非アキシャル断層画像を作成する。 - 特許庁

(c) documents listed in (c), (d) and (e) of the preceding item. 例文帳に追加

ハ 前号ハ、ニ及びホに掲げる書類 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The campus is divided into four "Clusters" from A to D, and part of Cluster C and D are still under construction as of 2006. 例文帳に追加

キャンパスはA~Dの4つの「クラスター」に別れており、C・Dクラスターの一部は2006年現在も建設中である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The coordinate values of the targets A, B, C and D on the map A and those on the map B are generally different.例文帳に追加

地図A上の目標物A,B,C,Dの座標値と地図B上の同一目標物A',B',C',D'の座標値は一般的に異なっている。 - 特許庁

In a comparison method, a, b, c, d are considered as positive integers, and the size relation between "b/a" and "d/c" is determined from the sign of the value of "b×c-a×d".例文帳に追加

a,b,c,dを正の整数とし、「b/a」と「d/c」の大小関係を「b・c−a・d」の値の符号から判定する比較方法である。 - 特許庁

The sequences ESC ( B and ESC ( 0 and ESC ( U and ESC ( K cause G0 to point at translation table a), b), c) and d), respectively. 例文帳に追加

ESC ( B 、 ESC ( 0 、 ESC ( U 、 ESC ( K のそれぞれのシーケンスにより、G0 が変換テーブル a)、 b)、 c)、 d) を指すようになる。 - JM

The sequences ESC ) B and ESC ) 0 and ESC ) U and ESC ) K cause G1 to point at translation table a), b), c) and d), respectively. 例文帳に追加

また、ESC ) B 、 ESC ) 0 、 ESC ) U 、 ESC ) K のそれぞれのシーケンスにより、G1 が変換テーブル a)、 b)、 c)、 d) を指すようになる。 - JM

(d) after the expiry of the period referred to in rule 9A(2)(a), the requirements under rule 9A(2)(b), (c) and (d) shall be complied with on the initiation date;例文帳に追加

(d) 規則9A(2)(a)にいう期間の満了後は,規則9A(2)(b),(c)及び(d)に基づく要件は,開始日において満たされていなければならず, - 特許庁

The dimensions A-D are controlled, so that the relations A≥C and B<D are satisfied.例文帳に追加

寸法A〜Dを、A≧C且つB<Dの関係を満たす様に規制する。 - 特許庁

Ni is interposed between the substrate 11 and the base soft magnetic film 13.例文帳に追加

また、基板と前記下地軟磁性膜の間に、(NiaAl1-a)100-b-c-d-eTibMocVdWe (at. %)とするNiAl合金膜を有し、前記aは、0.20≦a≦0.80の範囲とし、また、0≦b≦40、0≦c≦40、0≦d≦40、0≦a≦40、かつ0.1≦b+c+d+e≦40の範囲とすることを特徴とする。 - 特許庁

Test out some c and d combo moves to get a feel for how powerful and concise vi editing can be.例文帳に追加

いくつかcとdの組み合わせで、viの編集がどれほど強力で簡潔か実感してみましょう。 - Gentoo Linux

The commercial server (C) and main server (D) are able to send and receive data only through a protocol converter (E).例文帳に追加

商用サーバ(C)とメインサーバ(D)とはプロトコル変換器(E)を介してのみデータの授受が可能。 - 特許庁

The same is with the predicted course images A, C and D, so that the reaching points a, c and d alone are illustrated.例文帳に追加

予想行路画像A,C,Dについても同様であり、到達点a,c,dのみを図示する。 - 特許庁

The surface conditioning agent is oxypropylenemethyl glucoside expressed by chemical formula (1), (in the formula, each of (a), (b), (c) and (d) is an integer of 0-50 and (a)+(b)+(c)+(d)≤50).例文帳に追加

(但し、a、b、c、dはそれぞれ0〜50の整数、1≦a+b+c+d≦50) - 特許庁

(3) The minimum margins shall be as follows: (a) top: 2.5 cm; (b) left side: 2.5 cm; (c) right side: 1.5 cm; and (d) bottom: 1.0 cm.例文帳に追加

(3) 紙面には,少なくとも次の余白を設ける。 (a) 上端:2.5cm (b) 左端:2.5cm (c) 右端:1.5cm,及び (d) 下端:1.0cm - 特許庁

(4) Except as provided for in subsection (3), the types of relief referred to in paragraphs (b), (c) and (d) of subsection (2) are mutually exclusive.例文帳に追加

(4)(3)に定める救済を除き,(2)(b),(c)及び(d)における救済の種類は相互排他である。 - 特許庁

(2) The provisions of subparagraphs (b), (c) and (d), above, shall not, however, apply to microbiological processes or to the products thereof.例文帳に追加

(2) (b),(c)及び(d)の規定は,微生物学的方法又はその方法から得た製品には適用しない。 - 特許庁

A medicine for disease W containing active ingredients C and D in combination. 例文帳に追加

有効成分C と有効成分D とを組み合わせたことを特徴とする疾病W治療薬。 - 特許庁

(b) met the requirements of paragraphs 198(2)(c) and (d) of the Patents Act 1990 as in force on 26 January 1999; or例文帳に追加

(b) 1999年 1月 26日において有効な 1990年特許法第 198条(2)(c)及び(d)の要件を満たしていた者、又は - 特許庁

This composition for cleansing comprises the following ingredients (A), (B), (C), (D) and (E).例文帳に追加

下記成分(A)(B)(C)(D)及び(E)を含有することを特徴とするクレンジング用組成物。 - 特許庁

例文

A spacer film is formed on the magnetoresistive film (c), and a polishing resistant film is formed thereon (d).例文帳に追加

(c)磁気抵抗効果膜の上に、スペーサ膜を形成し、(d)その上に、研磨耐性膜を形成する。 - 特許庁

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