「Film processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing method for integrating metallic nitride film with a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスにメタル窒化物膜を統合するための基板処理方法。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER, ADHESIVE FILM FOR PROCESSING THE SEMICONDUCTOR WAFER USED FOR THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE ADHESIVE FILM例文帳に追加

半導体ウェハの加工方法及びそれに用いる半導体ウェハ加工用粘着フィルム、並びに、半導体ウェハ加工用粘着フィルムの製造方法 - 特許庁

After the electron-beam irradiation processing, the protecting film is dipped in an alkali bath to carry out saponification.例文帳に追加

電子線照射処理後、アルカリ浴に浸漬させて鹸化処理を行う。 - 特許庁

GAS SUPPLY MEMBER, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND YTTRIA CONTAINING FILM FORMATION METHOD例文帳に追加

ガス供給部材、プラズマ処理装置およびイットリア含有膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR AND PLASMA-PROCESSING APPARATUS USED FOR IT例文帳に追加

薄膜トランジスタの製造方法およびそれに用いられるプラズマ処理装置 - 特許庁

To provide a method for processing an organic conductive material film.例文帳に追加

有機導電性物質膜の加工方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD AND DEVICE, AND PROCESS FILM PRODUCING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

画像処理方法および装置と、これを用いた製版フィルム作成方法 - 特許庁

To provide a processing method for a thin film on which a groove formation can be easily made in a conductive thin film on an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁性基板上の導電性薄膜に容易に溝形成できる薄膜の加工方法を提供する。 - 特許庁

After forming the Au film 8, heat processing is performed to change the Au film 8 to Au nanoparticles 10.例文帳に追加

Ａｕ膜８が形成された後、熱処理を行なうことにより、Ａｕ膜８がＡｕナノ粒子１０に変化する。 - 特許庁

To avoid remaining of debris and a film in a laser processing for removing the film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された膜を除去するレーザ加工において、デブリ及び膜が残留することを回避する。 - 特許庁

Further, the hard coat surface is subjected to hydrophilic processing and then an antireflective film formed of an organic thin film is laminated.例文帳に追加

さらに、そのハードコート表面に親水化処理をした後、有機薄膜からなる反射防止膜を積層する。 - 特許庁

The film manufacturing apparatus includes a feed machine, a take-up machine, and a processing part performing a predetermined process to the film 10.例文帳に追加

フィルム製造装置は、巻き出し機、巻き取り機、及び、フィルム１０に所定の処理を施す処理部を有する。 - 特許庁

To improve film thickness reproducibility of film formation in a substrate processing apparatus using ultraviolet light.例文帳に追加

紫外光を用いた基板処理装置において、成膜の膜厚再現性を向上することを目的とする。 - 特許庁

A processing space is formed by lifting upside a film for upper part outside bag 1A from a film for partition 2.例文帳に追加

上部の外袋用フィルム１Ａを仕切り用フィルム２から上方に持ち上げて加工空間を形成する。 - 特許庁

To stabilize processing concerning film such as photometry or printing or the like by making the light transmissivity of the film stable.例文帳に追加

フィルムの光透過率を安定させることによって、測光やプリント等のフィルムに関する処理を安定させる。 - 特許庁

To provide a method of subjecting a metal material of a polysilicon film lower layer to etching processing without giving damage to a polysilicon film.例文帳に追加

ポリシリコン膜下層の金属材料を、ポリシリコン膜へダメージを与えずにエッチング処理する方法を提供する。 - 特許庁

In processing an APS (Advanced Photo System) film, a film carrier 38M is loaded in the carrier loading part with the transport path of the APS film placed at a back side.例文帳に追加

ＡＰＳフィルムを処理する場合には、ＡＰＳフィルムの搬送経路を奥側としてフィルムキャリア３８Ｍをキャリア装填部に装填する。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate which is capable of removing a resist film hard of detachment without causing damage to the substrate or a film serving as the underlying material of the resist film.例文帳に追加

難剥離性のレジスト膜をその下地となっている基板や膜に損傷を与えずに除去する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Processing liquid containing an organic compound is touched to the surface of the conductive film left in the recess and a coating film is formed on the surface of the conductive film.例文帳に追加

凹部内に残った導電膜の表面に、有機化合物を含む処理液を接触させ、導電膜の表面に被覆層を形成する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 60 is formed on the high dielectric amorphous film at a film formation temperature of an amorphous-processing temperature of the high dielectric material.例文帳に追加

次に、高誘電体非結晶膜上に、高誘電率材の非結晶化温度を成膜温度としてアモルファスシリコン膜６０を形成する。 - 特許庁

At least, a part of the inside wall of the plasma processing chamber is covered with an oxide film based on the processing plasma.例文帳に追加

前記プラズマ処理室内壁の少なくとも一部は、前処理プラズマに基づく酸化膜で覆われている。 - 特許庁

To improve processing quality while preventing the edge deletion processing time of a thin-film photovoltaic cell panel from increasing.例文帳に追加

薄膜太陽電池パネルのエッジデリーションの加工時間の増大を抑制しつつ、加工品質を向上させる。 - 特許庁

With this invention, thin-film processing and cross section processing can be achieved without adjustment and operation of the sample stage.例文帳に追加

本発明により、試料ステージの調整や操作を伴わない薄膜加工や断面加工を実現できる。 - 特許庁

In this way, even in the case that the debris occurs in the laser beam processing, this debris is piled/stuck on the surface of the wax-film surrounding the processing part.例文帳に追加

レーザ加工でデブリが発生しても加工部周辺のワックス皮膜表面に堆積・付着する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of processing a substrate by improving a uniformity of a film thickness within a plane of the substrate.例文帳に追加

基板の面内の膜厚均一性を向上させて基板を処理できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD, PRINTING METHOD, IMAGE PROCESSOR, PRINTING DEVICE, IMAGE PROCESSING SYSTEM, PRINTING SYSTEM, PHOTOGRAPHIC FILM AND CAMERA例文帳に追加

画像処理方法、プリント方法、画像処理装置、プリント装置、画像処理システム、プリントシステム、写真フィルム及びカメラ - 特許庁

BIAXIALLY STRETCHING LAMINATION FILM FOR FINE PROCESSING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND MOLDING PROCESSING SHEET AND MOLDING METHOD THEREOF例文帳に追加

微細加工用二軸延伸積層フィルム、およびその製造方法、成形加工シートおよびその成形方法 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING COATING FILM ONTO SURFACE OF REACTION PIPE USED FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

基板処理装置、及び、基板処理装置に用いられる反応管の表面へのコーティング膜の形成方法 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of improving efficiency of film formation processing by shortening a preparation time.例文帳に追加

準備時間を短縮し成膜処理の効率を向上することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a component for a film deposition apparatus capable of easily separating and removing a deposition film to be deposited by the film deposition processing of a substrate, and a film deposition apparatus, the manufacturing method of the component for the film deposition apparatus, and the reproducing method of the component for the film deposition apparatus.例文帳に追加

基板の成膜処理により成膜される付着膜を容易に剥離・除去することができる成膜装置用部品、成膜装置、成膜装置用部品の製造方法、成膜装置用部品の再生方法を提案する。 - 特許庁

To constitute a film processing device capable of cutting a photographic film at the intermediate position of perforations when the developed photographic film from a film processor is supplied to a film scanner while a leader is separated by cutting the tip end portion of the film.例文帳に追加

フィルムプロセッサからの現像済写真フィルムの先端部分を切断する形態でリーダを分離してフィルムスキャナに供給する際に、パーフォレーションの中間位置を切断することが可能なフィルム処理装置を構成する。 - 特許庁

To provide a method of processing a hard coat film which is convenient and independent of processing equipment and enables easy processing of even hard coat films having a high hardness.例文帳に追加

簡便で加工設備に依存せず、高硬度のハードコートフィルムについても容易に加工できるハードコートフィルムの加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an orientation processing method and an orientation processing apparatus by which orientation processing is performed under the same condition over whole surface of an orientation film and uniform orientation characteristics are obtained over whole surface of the orientation film with respect to the orientation processing method and the orientation processing apparatus which perform the orientation processing to the orientation film by ultraviolet rays emitted from a light source.例文帳に追加

光源から放射される紫外線によって配向膜に配向処理を施す配向処理方法及び配向処理装置において、配向膜全面に亘って同一条件下で配向処理が施され、配向膜全面に亘って均一な配向特性が得られる配向処理方法及び配向処理装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a film forming method for reducing the generations of gases and particles, by performing after a film forming processing the purging processing of the inside of a reaction container by a purging recipe corresponding to the film forming processing, e.g., when forming a silicon nitride film, and by removing the surface layer of a film whereby the stuck gases and the stuck particles are caused to the inside of the reaction container.例文帳に追加

例えば窒化シリコン膜を形成する際、成膜処理後に当該成膜処理に対応したパージレシピにより反応容器内のパージ処理を行って、反応容器内に付着したガスやパーティクルの原因となる膜の表層部を除去し、ガスやパーティクルの発生を低減する成膜方法を提供する。 - 特許庁

The film development processing part 1 has film conveyance paths L1 and L2 where different photographic films can be conveyed at the same time, and photographic films F1 and F2 which are discharged from the film development processing part 1 and developed are sent out to the film scanner part 2 connected to the rear end of the film development processing part 1.例文帳に追加

フィルム現像処理部１は、別々の写真フィルムを同時に搬送可能な複数のフィルム搬送路Ｌ１，Ｌ２を有し、フィルム現像処理部１から排出された現像済みの写真フィルムＦ１，Ｆ２は、フィルム現像処理部１の後端に接続されたフィルムスキャナ部２に送り出される構成とした。 - 特許庁

Then the wafer W having the silicon oxide film 503 formed is conveyed to a thermal oxidation processing apparatus and the silicon oxide film 503 is subjected to thermal oxidation processing to form a silicon oxide film 505 having a target film thickness T_2.例文帳に追加

次に、酸化珪素膜５０３が形成されたウエハＷを熱酸化処理装置に移送し、酸化珪素膜５０３に対して熱酸化処理を実施することにより、目標膜厚Ｔ_２で酸化珪素膜５０５が形成される。 - 特許庁

To provide a film sheet delivery means for preventing the performance of required film processing, when using an improper film sheet unintended by a manufacturer, in delivery when processing a film used for manufacturing various products.例文帳に追加

各種製品の製造に使用するフィルム加工時の繰り出しにおいて、製造者が意図しない不適正なフィルムシートを使用した場合には所要のフィルム加工を行うことができないようにしたフィルムシート繰り出し手段を提供する。 - 特許庁

The method for forming the diamond-like carbon film includes: a step of executing the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing on a surface 11 of a metal member 1; and a step of forming the diamond-like carbon film 2 on the surface 11 subjected to the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing.例文帳に追加

金属部材１の表面１１に水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理を行うステップと、水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理された表面１１上に、ダイヤモンド状炭素膜２を形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a film development processing device which performs processing of at least one kind of a photographic film practically consecutively from developing processing to scanning processing when handling a plurality of photographic films different in size.例文帳に追加

サイズの異なる複数の写真フィルムを取り扱う際に、少なくとも１つの種類の写真フィルムに関しては現像処理からスキャニング処理まで実質的に連続的に行われるフィルム現像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a biaxially stretching lamination film for fine processing which is capable of easily molding a pattern of a high aspect ratio in a large area and is excellent in mechanical strength, to provide a manufacturing method of the biaxially stretching lamination film for fine processing, and to provide a molding processing sheet and a molding method of the molding processing sheet.例文帳に追加

高アスペクト比のパターンを大面積で容易に成形でき、且つ機械的強度に優れた微細加工用二軸延伸積層フィルム、および製法、成形加工シート、並びに成形方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, SYSTEM FOR REMOVAL PROCESSING OF REMAINING FILM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジストパターンの形成方法と残存膜除去処理システムおよび記録媒体 - 特許庁

CYLINDER LINER HAVING SURFACE-TREATED FILM ON INNER PERIPHERAL FACE AND PROCESSING METHOD THEREOF例文帳に追加

内周面に表面処理皮膜を有するシリンダライナ及びその加工方法 - 特許庁

To provide a resist film processing unit that can improve an etching resistance.例文帳に追加

エッチング耐性を向上することが可能なレジスト膜処理装置を提供する。 - 特許庁

Then, in an editing space 1, a subsequent user 5 performs film processing.例文帳に追加

そして、編集空間１では、後続のユーザ５が、撮影処理を行っている。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

被膜の処理方法およびこの方法を用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁