「Film processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, the film for processing can be drawn at a temperature of 100≤ or lower.例文帳に追加

また、この加工用フィルムは、１００℃以下の温度にて絞り加工が行える。 - 特許庁

UV IRRADIATION PROCESSING DEVICE, AND UV CURING METHOD OF LOW-K FILM例文帳に追加

紫外線照射処理装置及びＬｏｗ−ｋ膜の紫外線キュア方法 - 特許庁

RESIN FILM EXCELLENT IN EMBOSS PROCESSABILITY, METHOD FOR EMBOSS PROCESSING AND DECORATIVE METAL SHEET例文帳に追加

エンボス加工性に優れた樹脂フィルム、エンボス加工方法及び化粧金属板 - 特許庁

To obtain a film good in the capability of laser via processing with good productivity.例文帳に追加

レーザービア加工性が良好なフィルムを生産性良く得ることを目的とする。 - 特許庁

METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATING FILM, SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法、半導体製造装置、及び半導体装置 - 特許庁

ADHESIVE FILM FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CHIP MOUNTING BODY例文帳に追加

半導体加工用接着フィルム及び半導体チップ実装体の製造方法 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF FILM WITH METAL FOIL AND MANUFACTURING METHOD OF WIRING BOARD例文帳に追加

金属箔付きフィルムの表面処理方法および配線基板の製造方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM AGENT USED FOR LASER DICING AND METHOD OF PROCESSING WAFER USING THE SAME例文帳に追加

レーザーダイシング用保護膜剤及び該保護膜剤を用いたウエーハの加工方法 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of selectively removing a nitride film.例文帳に追加

窒化膜を選択的に除去することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

FILM LAMINATED STEEL PANEL FOR TWO-PIECE CAN EXCELLENT IN PROCESSING ADHESION AND CORROSION RESISTANCE例文帳に追加

加工密着性および耐食性に優れた２ピ—ス缶用フィルムラミネ—ト鋼板 - 特許庁

The surface 21s of the gate insulating film 21 is subjected to fluorinated organosilylation processing.例文帳に追加

このゲート絶縁膜２１の表面２１ｓが、フッ化オルガノシリル化処理されている。 - 特許庁

The surface 20s of the gate insulating film 20 is subjected to fluorinated organosilylation processing.例文帳に追加

このゲート絶縁膜２０の表面２０ｓはフッ化オルガノシリル化処理されている。 - 特許庁

The method for producing the optical film includes a processing step in which a lower surface of a film is brought into contact with a surface of a processing liquid which a processing bath is fully filled with while the film is continuously conveyed in the state where both ends of the film in the width direction are held.例文帳に追加

本発明に係る光学フィルムの製造方法は、幅方向の両端部を把持した状態で、連続的に搬送されるフィルムの下面を、処理槽に満たした処理液の液面に接触させながら搬送させる処理工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Then, a conductive film 51 is formed on almost entire region of the upper surface of the piezoelectric layer 42 (conductive film forming step) followed by cutting out a common electrode 44 from the conductive film 51 by laser processing (laser processing step).例文帳に追加

次に、圧電層４２の上面のほぼ全域に導電膜５１を形成し（導電膜形成工程）、続いて、レーザ加工により、導電膜５１から共通電極４４を切り出す（レーザ加工工程）。 - 特許庁

A trench pattern 4b is formed in an insulation film 4 for processing on a base substrate 1, and a conductive material film 5 is formed on the insulation film 4 for processing so as to fill the trench pattern 4b.例文帳に追加

下地基板１上の加工用絶縁膜４に溝パターン４ｂを形成し、溝パターン４ｂ内を埋め込む状態で加工用絶縁膜４上に導電性材料膜５を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which, during film formation processing of an SiC epitaxial film to be performed under a high-temperature condition, the SiC epitaxial film smooth over a plurality of substrates can be formed.例文帳に追加

高温条件下で行なわれるＳｉＣエピタキシャル膜の成膜処理において、複数枚の基板上にわたって均一なＳｉＣエピタキシャル膜を成膜することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film relax processing mechanism which is a film biaxial relaxation processing mechanism capable of relaxing a film in a carrying direction and can be formed with smaller number of parts with a simpler structure.例文帳に追加

フィルムを搬送方向に弛緩させることが可能なフィルムの二軸弛緩処理機構であって、より少ない部品数でより簡易な構造で形成されるフィルムの弛緩処理機構を提供する。 - 特許庁

To uniformly apply a processing liquid on the surface of a photographic film in a photographic film developing device in which a processing liquid such as a developer liquid is directly applied on the emulsion surface of a photographic film.例文帳に追加

現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、写真フィルムの表面に処理液をむらなく均一に塗布する。 - 特許庁

To sufficiently generate a crack on a deposition film in a reactor, thereby suppressing the separation of the deposition film and production of particles during a film formation processing.例文帳に追加

反応炉内の堆積膜に十分にクラックを発生させ、それにより、成膜処理中における堆積膜の剥離や、パーティクルの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for processing a semiconductor wafer capable of forming an insulating film or an oxide film such as a thin gate oxide film whose quality is improved.例文帳に追加

皮膜の品質を向上させた薄いゲート酸化皮膜のような絶縁皮膜或いは酸化皮膜が形成可能な半導体ウエハの処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film container with which stable processing is made possible by eliminating the transportation defect by the curling of a film, film, camera, automatic developing machine and print forming system.例文帳に追加

フィルムの巻き癖による搬送不良をなくし、安定した処理が可能なフィルム容器、フィルム、カメラ、自動現像機及びプリント作成システムを提供する。 - 特許庁

To provide vacuum processing apparatus forming a thin film having a high film quality and a large area, and increasing the speed of film formation.例文帳に追加

製膜される膜の高品質化を図るとともに、大面積化および製膜速度の高速化を図ることができる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

In the film forming step, the exhaustion of gases from the processing vessel is reduced so as not to affect film thickness uniformity of the film formed on the substrate.例文帳に追加

膜を形成する工程では、基板上に形成される膜の膜厚均一性に影響を与えないよう処理容器からのガスの排気を少なくする。 - 特許庁

A photo film used in the lens-fitted photographic film unit is a color film on which a bar code specifying processing contents in printing is previously recorded in manufacturing it.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニットに使用される写真フイルムは、カラーフイルムであり、製造時に予めプリント時の処理内容を指定するバーコードが記録される。 - 特許庁

The manufacturing method of a T-die film comprises T-die film processing at a film forming speed of 130-1,000 m/min using the polypropylenic resin composition.例文帳に追加

これらのポリプロピレン系樹脂組成物を用いて、製膜速度１３０〜１０００ｍ／ｍｉｎでＴダイフィルム加工するＴダイフィルムの製造方法。 - 特許庁

Etching processing is performed inside the opening 61a under an etching condition that an etching rate of the first insulating film becomes higher than those of the second insulating film and the silicon nitride film.例文帳に追加

第１の絶縁膜のエッチングレートが第２の絶縁膜及びシリコン窒化膜より高くなるエッチング条件で開口部６１ａ内にエッチング処理を施す。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a power storage device using a laminate film with improved processing accuracy of the laminate film when wrapping a power storing component by the laminate film.例文帳に追加

ラミネートフィルムを使用した蓄電装置の製造方法において、蓄電部品をラミネートフィルムで包装する際の、ラミネートフィルムの加工精度の向上を図る。 - 特許庁

To provide a photographic film processor which securely cuts out a leader from a photographic film having been developed at a connection part in processing for cutting the leader from the photographic film having been developed.例文帳に追加

現像済み写真フィルムからリーダを切り離す処理において、切り離しが確実に接続部にて行われる写真フィルム処理装置を提供する。 - 特許庁

To pattern a thin film finely by preventing the generation of a thin film residual in fine recessed parts when making a fine processing of the thin film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上の薄膜を微細加工する際に微細な凹部内に薄膜の残渣を生じるのを防止して、薄膜を高精細にパターン形成する。 - 特許庁

Whether a film is a black/white photographic film is discriminated and in the case of the black/white photographic film, main processing is finished without conducting improper pixel correction processings.例文帳に追加

フィルムが白黒写真フィルムかどうかを判断し、白黒写真フィルムの場合には不適正画素補正処理を行わずに本処理を終了する。 - 特許庁

After that, another second piezoelectric film constituting the piezoelectric film is formed on the first piezoelectric film 15 using a liquid phase process method (sol-gel processing).例文帳に追加

そのあと、第１圧電体膜１５上に、圧電体膜を構成する残りの第２圧電体膜を液相プロセス法（ゾル−ゲル法）を用いて形成する。 - 特許庁

Subsequently, a thermal processing is applied to the film 2 at normal pressure in an atmosphere of an inert gas containing a hydrogen to form a metal oxide film 2a having improved film quality.例文帳に追加

次に金属酸化膜２に水素を含む不活性ガス雰囲気中の常圧で熱処理を加え、膜質が改善された金属酸化膜２ａを形成する。 - 特許庁

Then, processing is carried out in which metal atoms constituting the metal oxide film 4 are diffused from the metal oxide film 4 to a surface part of the gate insulating film 3.例文帳に追加

次いで、金属酸化膜４を構成する金属原子を、金属酸化膜４からゲート絶縁膜３の表面部へ拡散させる処理が実施される。 - 特許庁

The method for processing a substrate includes steps of: arranging a substrate formed with a photoresist film; providing a processing liquid for removing the photoresist film onto the substrate; and providing mist on the substrate to contact the processing liquid.例文帳に追加

基板処理方法は、フォトレジスト膜が形成された基板を設け、フォトレジスト膜を除去するために処理液を基板上に提供し、処理液と接触するようにミストを基板上に提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device that can prevent a coating film formed through drying by a drying processing unit from having unevenness in film thickness without increasing the device cost, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

装置コストを増大させることがなく、乾燥処理ユニットで乾燥して形成される塗布膜の膜厚のムラの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD device which can restrain the occurrence of damages to a processing body or an insulating film formed in the processing body, and can form the insulating film excellently on the processing body.例文帳に追加

被処理体やこの被処理体に形成される絶縁膜に損傷が与えられるのを抑制しつつ、被処理体上に良好に絶縁膜を形成することができるプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processor for removing a processing film formed in a fringe part of a substrate, which shortens processing time by substrate, enhances throughput in forming the processing film, and also suppresses a drop of a yield.例文帳に追加

基板の周縁部に形成された処理膜を除去する基板処理装置において、基板単位の処理時間を短縮し、処理膜形成のスループットを向上すると共に、歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a technique which is suitable for continuously processing a large number of sheet films in a thin film formation system and a thin film formation method that form a thin film on the sheet film.例文帳に追加

シートフィルム上に薄膜を形成する薄膜形成システムおよび薄膜形成方法において、多数枚のシートフィルムを連続して処理するのに適した技術を提供する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF PRECURSOR SOLUTION FOR FORMING POROUS FILM BECOMING INTERLAYER INSULATING FILM, AND METHOD AND SYSTEM FOR FORMING POROUS FILM BECOMING INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

層間絶縁膜となる多孔質膜形成用前駆体溶液の処理方法、層間絶縁膜となる多孔質膜の形成方法及び層間絶縁膜となる多孔質膜の形成装置 - 特許庁

To suppress the peeling of a film from the inside of a laminated film and improve a manufacturing yield or the quality of a semiconductor element upon laser processing of the laminated film comprising a low dielectric constant insulating film.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜を含む積層膜をレーザ加工するにあたって、積層膜内部からの膜剥がれを抑制し、半導体素子の製造歩留りや品質の向上を図る。 - 特許庁

To provide a base film for a release film wherein a treating property in processing a release film is improved, and an inconvenience to a layer provided on the release film can be solved.例文帳に追加

離型フィルム加工時の取り扱い性が改良され、離型フィルム上に設置する層に対する不具合を解消することのできる離型フィルム用ベースフィルムを提供する。 - 特許庁

To ash a resist film without deteriorating an organic low dielectric film and without reducing processing speed even if the organic low dielectric film exists as the lower layer of the resist film.例文帳に追加

有機系低誘電体膜がレジスト膜の下層として存在する場合でも、有機系低誘電体膜の劣化を招くことなく、しかも処理速度を低下させずにレジスト膜をアッシングする。 - 特許庁

To provide a thin film processing method and a manufacturing method for a thin film magnetic head by which a target and an address under a non-transparent film can be referred to even when the non-transparent film is formed at an upper layer in a thin film wafer process.例文帳に追加

薄膜ウエハ工程において上層に不透明膜を形成した場合にもその下のターゲット及びアドレスを参照可能となる薄膜処理方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

As for a film 13 from film rolls 24a to 24d (Fig.6 (not illustrated)) of a film unwinding mechanism part 14, its cover film 13a (Fig.4 (not illustrated)) is peeled off by a cover film winding mechanism part 15, and sent to an inter-substrate processing mechanism part 16.例文帳に追加

フィルム巻出機構部１４のフィルムロール２４ａ〜２４ｄ（図６）からのフィルム１３は、カバーフィルム巻取機構部１５でそのカバーフィルム１３ａ（図４）が剥ぎ取られ、基板間処理機構部１６に送られる。 - 特許庁

To provide a thin film forming method for forming a thin film on a substrate by transferring the thin film supported on a sheet film to the substrate which does not damage the substrate and thin film and meets mass processing.例文帳に追加

シートフィルムに担持させた薄膜を基板に転写することで基板上に薄膜を形成する薄膜形成方法において、基板や薄膜を損傷させることなく、また大量処理に適した技術を提供する。 - 特許庁