「Film processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heat-developable photosensitive material useful as a medical diagnostic film and a film for photoengraving, excellent in film strength and having suitability to rapid processing.例文帳に追加

医療診断用フィルムおよび写真製版用フィルムとして有用な膜強度に優れ、かつ迅速処理適性を有する熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To rationally constitute a film processor in which a series of processing steps from development of a film to acquisition of image data is performed quickly and the conveyance system of film is simplified.例文帳に追加

フィルムの現像から画像データの取得までの一連の処理を迅速に行い、フィルムの搬送系も簡素化するフィルム処理装置を合理的に構成する。 - 特許庁

To provide a film having very little oligomer precipitating on the film surface under high temperature processing conditions, and excellent in externals when used as an optical film.例文帳に追加

高温の加工条件下でもフィルム表面に析出してくるオリゴマーが極めて少ない、光学用フィルムとして用いた場合に、特に外観に優れるフィルムを提供する。 - 特許庁

After a Pt film is formed on a substrate 1, a resist film is applied on its upper surface for patterning, then the Pt film is provided with etching processing for forming element electrodes 2, 3.例文帳に追加

基板１上にＰｔ膜を形成した後、その上面にレジスト膜を塗布してパターンニングし、Ｐｔ膜をエッチング加工して素子電極２，３を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polarizing film by which high-speed processing is achieved while preventing the deviation of film thickness distribution in a width direction of the obtained polarizing film.例文帳に追加

得られる偏光フィルムの幅方向における膜厚分布の偏りを抑制しながら、高速加工を可能にできる、偏光フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film roll that can improve a capacitor processing yield with high lamination accuracy by suppressing meandering during film travel in manufacturing a laminated film capacitor.例文帳に追加

積層フィルムコンデンサを製造する際のフィルム走行時の蛇行を抑制することにより、積層精度が良く、コンデンサ加工収率を改善できるフィルムロールを提供する。 - 特許庁

To provide a processing unit of a tape-like material for obtaining an accurate stopping position with excellent positional accuracy and capable of performing sure processing when processing an electronic part mounting film carrier tape in a processing part.例文帳に追加

電子部品実装用フィルムキャリアテープを、処理部において処理する際に、位置精度良く、正確な停止位置が得られ、確実な処理を実施することができるテープ状物の処理装置を提供する。 - 特許庁

The controller compares the residual volume of processing solution in the supply cartridge with the amount of the processing solution needed for processing a specific roll of loaded film and controls the processing machine according to the comparison.例文帳に追加

コントローラは、補給カートリッジ内の処理液の残存量を挿入された特定フィルムを処理するために必要な処理液の量と比較し、この比較に応じて処理機の動作を制御する。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying device, which performs drying processing on a coating film formed on a substrate to be processed, reduces within-wafer nonuniformity of the coating film after the drying processing, and improves uniformity of the remaining film thickness and line width of the coating film in a wiring pattern forming process.例文帳に追加

被処理基板に形成された塗布膜に乾燥処理を施す減圧乾燥装置において、乾燥処理後の塗布膜の面内均一性を向上し、配線パターン形成過程における前記塗布膜の残膜厚及び線幅の均一性を向上する。 - 特許庁

The use of the device with the other thermal ribbon substituted for a backup film (43) permits one-side processing to be carried out and permits the device to be used for both duplex processing and one-side processing.例文帳に追加

一方のサーマルリボンをバックアップフィルム（４３）に代えて装置を使用すれば片面加工を行うことができ、両面／片面加工に併用することができる。 - 特許庁

Those first substrate 1, thin film 3, and second substrate 2 which are thus put one over another are subjected to pressure processing, heating processing, or pressure and heating processing to be united.例文帳に追加

これら重ね合わされた第一基板１、薄膜３及び第二基板２に、加圧処理、加熱処理、または加圧及び加熱処理を施して、これらを一体化する。 - 特許庁

Rough surface treatment such as emboss processing, grooving processing, notch processing or the like is applied to the exposed plastic sheet surface to obtain the caulking compound three-sided adhesion preventing film.例文帳に追加

当該、露出したプラスチクシート面に、エンボス加工、溝切り加工、切り目加工等の粗面化処理を施して、本発明に係るコーキング材三面接着防止用フィルムを得る。 - 特許庁

The processing time is corrected on the basis of the deduced processing time correction expression and the measured atmospheric pressure, and the film is formed on the basis of the corrected processing time.例文帳に追加

導出された処理時間補正式および大気圧の測定結果に基づいて処理時間を補正し、補正された処理時間に基づいて成膜が行われる。 - 特許庁

To remove a factor of change of film characteristics even in the case when the interruption of processing occurs in the middle of continuous processing, and realize concurrent processing for efficiency.例文帳に追加

連続処理の途中で処理の中断が発生した場合でも、膜特性の変化要因を除去するとともに、効率化のための並列処理を実現する。 - 特許庁

Several kinds of particular types of measuring tools can also be installed in the substrate processing system to measure film properties after performing the substrate processing in the processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバ内で基板処理した後の膜特性を測定するために基板処理システムにおいて数種の具体的なタイプの計測ツールを取り付けることもできる。 - 特許庁

To provide a silylation processing method which allows use of a compact silylation processing apparatus capable of reducing the processing cost and silylating a damaged portion of an inter-layer insulating film.例文帳に追加

コンパクトで処理コストの低減を可能ならしめるシリル化処理装置を用いることが可能な、層間絶縁膜のダメージ部をシリル化するシリル化処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminated film prevented from curling at the time of heat seal processing and a packaging bag obtained by the heat seal processing of the laminated film and suitable for use in a filling and packaging machine.例文帳に追加

ヒートシール加工の際のカールが防止された積層フイルム及び当該積層フイルムのヒートシール加工で得られ且つ充填包装機での使用に好適な包装袋を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a functional film which can simultaneously realize a suitability for miniaturization, a high productivity, and damageless feature, and also a method for manufacturing an inkjet recording head using the film processing method.例文帳に追加

微細化適正・高生産性・ダメージレス化を両立させる機能膜の加工方法、及びそれを利用したインクジェト記録ヘッドの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent a situation that a film cartridge can not be used in the case of loading the film cartridge and a dry battery in this order in a camera which performs frame feeding processing and rewinding processing at the time of starting a microcomputer.例文帳に追加

マイクロコンピュータの起動時にコマ送り処理やリワインド処理を行なうカメラにおいて、フイルムパトローネ，乾電池の順に装填した際に、フイルムパトローネが使用不能になるのを防止する。 - 特許庁

To prevent a situation that a film cartridge can not be used in the case of loading the film cartridge and a dry battery in this order in a camera which performs frame feeding processing and rewinding processing at the time of starting a microcomputer.例文帳に追加

マイクロコンピュータの起動時にコマ送り処理やリワインド処理を行なうカメラに、フイルムパトローネ，乾電池の順に装填した際に、フイルムパトローネが使用不能になるのを防止する。 - 特許庁

A processing liquid supplied from shower nozzles 11 and 12 to a substrate W in order to dissolve a processing film and containing a thin film is collected and fed to a centrifugal separator 41.例文帳に追加

シャワーノズル１１、１２から基板Ｗに供給され、処理膜を溶解して薄膜を含んだ処理液を回収した後、この処理液を遠心分離器４１に送液する。 - 特許庁

To obtain a substrate thermal processing device and a substrate thermal processing method capable of enhancing uniformity of a film thickness of a coating film on a substrate or pattern line width uniformity.例文帳に追加

基板上の塗布膜の膜厚の均一性またはパターン線幅均一性を向上させることができる基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

At an annealing processing room 30, an annealing processing is performed to the 1st thin film 210a by irradiating laser beam 33a on the 1st thin film 210a by driving a laser irradiating equipment 33.例文帳に追加

アニール処理室３０では、レーザ照射装置３３を駆動し、レーザビーム３３ａを第１薄膜２１０ａ上に照射することによって、第１薄膜２１０ａにアニール処理を施す。 - 特許庁

To provide a photographic film image processor having high processing efficiency in which a wasteful time is saved in film image processing from prescan to prejudge work, main scan and print making.例文帳に追加

プレスキャンからプレジャッジ作業、本スキャン、プリント作成に到るフィルム画像処理における無駄時間を省いた、高い処理効率を有する写真フィルム画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a production method for display element and a film substrate holder, with which processing such as printing can be surely performed without making the holder of a film substrate interfere an object for processing.例文帳に追加

フィルム基板の保持具が処理用の物体に対して干渉することがなく、印刷等の処理を確実に行うことのできる表示素子の製造方法及びフィルム基板保持具を得る。 - 特許庁

In the plasma etching apparatus, an anode oxide film is arranged in the etching processing chamber made of aluminum alloy and between components in the etching processing chamber and a ceramics thermal spraying film superior in plasma resistance.例文帳に追加

プラズマエッチング装置において、アルミニウム合金から成るエッチング処理室及びエッチング処理室内部品と耐プラズマ性に良好なセラミックス溶射膜の間に、陽極酸化被膜を配置する。 - 特許庁

Subsequently, a predetermined amount of IPA is supplied to the liquid film on the substrate W (solvent supply processing), and the liquid film is churned by rotating the substrate without supplying the IPA (churning processing).例文帳に追加

その後、所定量のＩＰＡを基板Ｗ上の液膜に供給してから（溶剤供給処理）、ＩＰＡを供給せずに基板を回転させることで液膜を攪拌する（攪拌処理）。 - 特許庁

Based on the data for constitution design obtained at processing S2, an antireflection film is formed on the substrate and film-forming processing of laminating the multilayers which becomes the polarizer of a photonic crystal is performed (S3).例文帳に追加

処理Ｓ２で取得した構成設計のデータに基づき、基板上に反射防止膜を形成し、フォトニック結晶の偏光子となる多層膜を積層する成膜加工を行う（Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a method of depositing a silicon oxide film by plasma CVD, which has good uniformity in film thickness in the wafer surface by processing the wafer surface with an alternate method instead of plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理に代わる方法によってウエハ表面を処理し、膜厚のウエハ面内均一性が良好なシリコン酸化膜をプラズマＣＶＤ法により成膜する方法を提供する。 - 特許庁

A surface characteristic of the organic resin film is improved and peeling liquid is prevented from penetrating inside the organic resin film when the resist film formed on the organic resin film is peeled (including after peeling of the resist film) for patterning the organic resin film by previously plasma-processing a surface of the organic resin film.例文帳に追加

有機樹脂膜の表面を予めプラズマ処理することにより、有機樹脂膜の表面特性を改善し、有機樹脂膜のパターニングのために有機樹脂膜上に形成されたレジスト膜を剥離する際（レジスト膜の剥離後も含む）に剥離液が有機樹脂膜内部に浸透するのを防ぐことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for performing an etching processing by using a resist film when a pattern of an organic film is formed or when a pattern of a thin film, which is formed on the organic resin film, is formed and removing the resist film without swelling the organic resin film in a manufacture of a semiconductor element substrate having the organic resin film.例文帳に追加

有機樹脂膜を有する半導体素子基板の作製において、有機樹脂膜のパターン形成時、または、これらの有機樹脂膜上に形成される薄膜のパターン形成時にレジスト膜を用いたエッチング処理を行った後、有機樹脂膜を膨潤させることなくレジスト膜を除去する方法について提供する。 - 特許庁

To obtain a resin composition providing a film having excellent appearance even after restarting of an extruder in film processing and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

フィルム加工において、押出機の再立上げ後でも外観に優れたフィルムを与える樹脂組成物及びその製造法の提供。 - 特許庁

To provide substrate processing apparatus and method therefor in which a protecting film for protecting a photosensitive film is inexpensively formed.例文帳に追加

低コストで感光性膜を保護する保護膜を形成することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, a plasma film forming method, and a film formation method, whereby the uniformity of a plasma present on a pedestal can be improved.例文帳に追加

ペデスタル上におけるプラズマの均一性を向上できる基板処理装置、プラズマ成膜方法、及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic film processor which can immediately interrupt the processing of a photographic film in such a case.例文帳に追加

写真フィルムの処理を中断するに当り、処理の中断を直ちに行うことが可能な写真フィルム処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a base film of a film for processing a semiconductor wafer, for being satisfactorily expanded to a center portion, and excellent in expanding performance.例文帳に追加

中央部分まで良好にエキスパンド可能な、エキスパンド性に優れた半導体ウエハ加工用フィルムの基材フィルムを提供する。 - 特許庁

The organic material keeping the film forming constituent is deposited on the surface of the substrate W in the processing chamber 11 to form the organic thin film.例文帳に追加

そして、処理室１１内の基板Ｗ表面に、成膜成分を保った有機材料を堆積させ、有機薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a device for dry film resist thinning capable of adjusting thickness of a thinned dry film resist without drastically changing a processing speed.例文帳に追加

処理速度を大きく変えることなく薄膜化後の厚みが調整可能なドライフィルムレジストの薄膜化処理装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM SOLAR BATTERY, AND EQUIPMENT OF PROCESSING THROUGH HOLE AND EQUIPMENT OF PATTERNING THE SAME BY POWDER JETTING METHOD FOR THIN-FILM SUBSTRATE例文帳に追加

薄膜太陽電池の製造方法ならびに粉体噴射法による薄膜基板貫通孔加工装置およびパターニング装置 - 特許庁

By applying development processing, a portion of a non-crosslinked lower layer resist material film is removed while leaving the crosslinked lower layer resist film 3b.例文帳に追加

現像処理を施すことにより、架橋した下層レジスト膜３ｂを残して、未架橋の下層レジスト材料膜の部分が除去される。 - 特許庁

A CMP processing is performed and the TaN film 7 and the Cu film 8 are left inside the recessed part for wiring 5 and the recessed part for dummy wiring 6.例文帳に追加

ＣＭＰ処理を行って、配線用凹部５およびダミー配線用凹部６の内側にＴａＮ膜７およびＣｕ膜８を残す。 - 特許庁

After an interlayer insulation film 100 is formed prior to lamp annealing, a lamp light absorption film 110 is deposited to thereafter lamp-anneal processing.例文帳に追加

層間絶縁膜１００の形成後、ランプアニール処理前に、ランプ光吸収膜１１０を堆積し、その後、ランプアニール処理を行う。 - 特許庁

To shorten processing time while stably realizing high in-plane uniformity of film thickness when a coating film is formed on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面に塗布膜を形成するにあたり、安定的に高い膜厚の面内均一性を得つつ、処理時間を短くすること。 - 特許庁

A wafer processing tape 10 includes a long mold releasing film 11, an adhesive layer 12(22), and an adhesive film 13(23a and 23b).例文帳に追加

ウエハ加工用テープ１０は、長尺の離型フィルム１１と、接着剤層１２（２２）と、粘着フィルム１３（２３ａ、２３ｂ）とを備えている。 - 特許庁

The resin film 60 is a resin film which is subjected to drawing processing, and adhered to the rotating member 10 by a thermosetting adhesive.例文帳に追加

また、樹脂フィルム６０は、延伸加工された樹脂フィルムであり、熱硬化型の接着剤で回転部材１０に接着されている。 - 特許庁