「Film processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film take-up reel which carries out development by bringing a long film into contact with processing liquids, the film take-up reel being characterized in that an accident such as the film being caught halfway can effectively be prevented by smoothly winding the film around the take-up reel.例文帳に追加

長尺のフィルムと処理液とを接触させることで現像を行うフィルム巻取りリールにおいて、フィルムのフィルム巻取りリールへの巻き取りをスムースにして、フィルムが途中で引っかかるなどの事故を効果的に防止することができる。 - 特許庁

To provide a method of forming an insulating film, an apparatus for forming an insulating film, and a plasma processing unit, those of which can successfully implement film quality control at an interface between a silicon substrate and an SiN film, and can form a high quality SiN film, in a short time.例文帳に追加

シリコン基板とＳｉＮ膜との界面での膜質制御を首尾よく行うことができ、しかも、短時間で高品質のＳｉＮ膜を形成することのできる絶縁膜形成方法、絶縁膜形成装置及びプラズマ処理ユニットを提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a device includes repeating, inside a deposition device: an insulating film-forming step of forming an insulating film on a substrate where the functional film is formed so as to cover the functional film; and a plasma-processing step of exposing a surface of the formed insulating film to plasma.例文帳に追加

成膜装置内で、機能膜が形成された基板上に、上記機能膜を覆うように、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、形成した上記絶縁膜の表面をプラズマに曝すプラズマ処理工程とを繰り返すこと。 - 特許庁

The base film of a film for processing a semiconductor wafer includes the base film and an adhesive layer formed on the base film, and the softening point of the base film is equal to or less than 60°C.例文帳に追加

本発明の半導体ウエハ加工用フィルムの基材フィルムは、前記基材フィルムと前記基材フィルム上に設けられた粘着剤層とを有する半導体ウエハ加工用フィルムの基材フィルムであって、前記基材フィルムの軟化点が６０℃以下である。 - 特許庁

To provide a laser processing device and a processing method of thin-film solar battery, capable of processing a patterning line for defining unit cells on a thin-film solar battery of large area at a high speed and high accuracy, and having an advantage of miniaturizing the device.例文帳に追加

大面積の薄膜太陽電池に単位セルを画成するパターニングラインを高速かつ高精度で加工できるとともに、装置を小型化するうえでも有利な薄膜太陽電池のレーザ加工装置および加工方法を提供する。 - 特許庁

A TFT substrate and a color filter substrate each have an obliquely vapor-deposited film formed in an alignment film forming stage (steps S1 and S4) and are subjected to silane processing as hydrophobicity imparting processing in a hydrophobicity imparting processing stage (steps S2 and S5).例文帳に追加

ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板は、配向膜形成工程において斜方蒸着膜が形成され（ステップＳ１，Ｓ４）、疎水処理工程において疎水性処理としてのシラン処理が施される（ステップＳ２，Ｓ５）。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus that can not only suppress generation of particles during film forming processing but facilitates cleaning processing at a temperature higher than that during conventional cleaning processing, and thereby can improve a throughput.例文帳に追加

成膜処理の際にパーティクルの発生を抑制することができるのみならず、従来のクリーニング処理時よりも高い温度でのクリーニング処理が可能となり、その分、スループットを向上させることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printing processing system which performs developing processing for undeveloped photographic film corresponding to ordering information, when the input order of ordering information and developing processing order of the undeveloped photographic film agree with each other.例文帳に追加

その課題は、オーダ情報の入力順序と未現像写真フィルムの現像処理順序が一致して、オーダ情報に対応する未現像写真フィルムの現像処理を行えるプリント処理システムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a photographic processing system which has smaller floor occupation area as a photographic processing system equipped with a film development processing part which develops a photographic film after photography, a film scanner part which obtains digital image information from the obtained developed photographic film, a printer part which exposes photosensitive paper according to the obtained digital image information, and a photosensitive paper development processing part which develops the exposed photosensitive paper.例文帳に追加

露光済み写真フィルムを現像するフィルム現像処理部と、得られた現像済み写真フィルムからデジタル画像情報を得るフィルムスキャナ部と、得られたデジタル画像情報に基づいて印画紙を露光するプリンタ部と、露光済み印画紙を現像する印画紙現像処理部とを備えた写真処理システムをより小さな床占有面積を備えた形態で提供する。 - 特許庁

This method and system for processing photographic film images, includes the steps of: providing a film processor having a plurality of adjustable parameters for a given process for processing a family of photographic films; defining a plurality of processing profiles having different values of the adjustable parameters for different members of the film family; and chemically processing a photographic film that is a member of the film family using the processing file for that family member.例文帳に追加

写真フィルム画像を処理する方法及びシステムは、写真フィルムのファミリーを処理するために与えられた処理における複数の調節可能なパラメーターを有するフィルムプロセッサーを提供する段階と；フィルムファミリーの異なる要素における調節可能なパラメーターの異なる値を有する複数の処理プロファイルを定義する段階と；及びファミリー要素において処理プロファイルを用いたフィルムファミリーの要素である写真フィルムの化学的な処理段階を含む。 - 特許庁

To suppress the increase of the boundary layer of a substrate and a gate insulation film of a MOS transistor using a high dielectric constant gate insulation film by succeeding processing, and to improve film characteristics of a base film which is extremely thin.例文帳に追加

高誘電率ゲート絶縁膜を使用したＭＯＳトランジスタのゲート絶縁膜と基板の界面層が後工程処理によって増加することを抑制するとともに、極薄膜である下地膜の膜特性を改善する。 - 特許庁

To provide a package form for a glass film is provided in which the cleanness of the glass film is ensured and the glass film is prevented from breaking, and which is effective in minimizing the number of glass film processing steps to be conducted before packaging and after unpackaging.例文帳に追加

ガラスフィルムの清浄性を確保しつつ、その破損を防止すると共に、梱包前と開梱後のガラスフィルムに対する処理工程数を可及的に低減することが可能な梱包形態を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film for the release film of a polarizing plate, excellent in processing aptitude and optical characteristics in the widening and high speeding of the release film of the liquid crystal polarizing plate, and the release film for the polarizing plate.例文帳に追加

晶偏光板離型フィルムの広幅化や高速化において、加工適正に優れ、且つ光学特性にも優れた偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルムおよび偏光板離型フィルムを提供する。 - 特許庁

In the film processing method for continuously stretching a resin film obliquely in the direction forming an angle of 5-85° with respect to the lateral direction of the resin film, the film at the time of stretching has a temperature distribution in its lateral direction.例文帳に追加

樹脂フィルムをその幅方向に対して５〜８５度の方向に連続的に斜め延伸する方法であって、延伸時のフィルムがその幅方向で温度分布を有するようにして斜め延伸するフィルム加工方法。 - 特許庁

To provide a film forming method and a substrate processing apparatus for effectively forming a barrier layer including a high quality Ti film even under a low temperature and forming also a TiSi_x film, in a self-aligning manner, in an interface region between the Ti film and an underlayer thereof.例文帳に追加

低温下であっても，良質なＴｉ膜を含むバリア層を効率よく形成することができ，そのＴｉ膜と下地との界面領域に自己整合的にＴｉＳｉ_ｘ膜を形成することができる。 - 特許庁

In a pattern application method for forming a pattern of a coating film on the substrate film by applying a coating liquid on the substrate film, part of the substrate film is subjected to pattern-like surface reform processing.例文帳に追加

基材フィルム上に塗布液を塗布することによって基材フィルムに塗布膜のパターンを形成するパターン塗布方法において、まず、基材フィルムの一部にパターン状の表面改質を施す加工を行う。 - 特許庁

In the film forming method, there is performed the film forming processing of a film forming recipe 1 wherein many sheets of wafers W are carried in a reaction container 2 by holding the wafers by a wafer boat 25, and e.g., Si_2 Cl_2 gas and NH_3 gas are used as film forming gases.例文帳に追加

多数枚のウエハＷをウエハボート２５に保持させて、反応容器２内に搬入し、例えばＳｉ_２Ｃｌ_２ガスとＮＨ_３ガスとを成膜ガスとして用いた成膜レシピ１の成膜処理を行う。 - 特許庁

To constitute a device which continuously transports film cartridges, delivers films from the film cartridge in a feed position and preferentially delivers the films of the film cartridge exclusive of the film cartridges subjected to continuous processing.例文帳に追加

フィルムカートリッジを連続的に搬送して、供給位置においてフィルムカートリッジからフィルムを送出すと共に、連続処理が行われるもの以外のフィルムカートリッジのフィルムを優先的に送出す装置を構成する。 - 特許庁

The thin film processing method for the dry film resist is the method where the dry film is attached onto a substrate and a water preprocessing using a solution containing an interfacial active agent is applied followed by the thin film processing by an alkaline aqueous solution having an inorganic alkaline compound content of 5 to 20 mass%.例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 - 特許庁

To provide a multilayer antireflection film with single layer film properties of MgF2 capable of both side processing using only a sputtering method in the case of processing a lens which needs multilayer antireflection film properties at one side and single layer film properties of MgF2 at the other side.例文帳に追加

一方の片面が多層反射防止膜特性、他の片面がＭｇＦ２の単層膜特性を必要とするレンズを加工する場合、スパッタ法のみを用いて両面加工が可能な、ＭｇＦ２の単層膜特性を有する多層反射防止膜を提供することにある。 - 特許庁

Crystal orientation of a crystalline semiconductor film, formed by a known crystallization processing, can be controlled by subjecting the interface between the underlying film and the amorphous semiconductor film to fluorination processing, which is a preprocessing for forming an amorphous semiconductor film.例文帳に追加

上記の課題を解決するために、非晶質半導体膜形成の前処理として、下地膜と非晶質半導体膜の界面をフッ素化処理することにより、公知の結晶化の処理をして形成した結晶性半導体膜の結晶配向性を制御することができる。 - 特許庁

By setting the processing conditions in the CMP step on the basis of the film thickness in the preceding CVD step of forming a film, even if the error occurs in the film thickness in the CVD step of forming the film, the setting of the processing conditions in the CMP step is optimized with the included error.例文帳に追加

ＣＭＰ工程における処理条件を、それよりも前のＣＶＤ成膜工程による膜厚に基づいて設定することにより、ＣＶＤ成膜工程で膜厚に誤差が生じても、その誤差も含めて、ＣＭＰ工程における処理条件の設定を最適化する。 - 特許庁

A flexible film processing apparatus includes: a supply roll and a take up roll moving a flexible film; a processing chamber provided between the supply roll and the taking up roll and processing the flexible film; a first vacuum chamber provided between the supply roll and the processing chamber; and a second vacuum chamber provided between the processing chamber and the take up roll.例文帳に追加

可撓性フィルム処理装置は、可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と、を有する。 - 特許庁

To provide thermoplastic resin film coated aluminum panel excellent in adhesion after strong processing or retort treatment.例文帳に追加

強加工後あるいはレトルト処理後の密着性に優れた樹脂被覆アルミニウム板を提供する。 - 特許庁

The -OH group is bonded to C of the thin insulating film 2 by this gas phase processing.例文帳に追加

この気相処理によって、絶縁薄膜２のＣに─ＯＨ基がつながった状態となる。 - 特許庁

To provide a biaxially stretched polyester film less liable to cause a jamming even in an automatic processing machine.例文帳に追加

自動現像機内においてもジャミングが起こりにくい二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To suppress generated stretching unevenness by removing liquid sticking on a PVA film exiting from a processing tank.例文帳に追加

処理槽から出たＰＶＡフィルムの付着液体を除去して、延伸ムラの発生を抑える。 - 特許庁

To shorten the processing time of the pre-scanning and fine scanning of a film.例文帳に追加

フィルムのプレスキャンとファインスキャンとの処理時間を短縮することができる画像読取装置を得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing system, which generates an uniform accumulated film by a uniform gas flow pattern.例文帳に追加

均一なガスフローパターンにより均一な堆積フィルムを生じる半導体処理システムを提供する。 - 特許庁

Thereby, the processing period can be shortened more than that in the case where the art work film is used.例文帳に追加

これによって、アートワークフィルムを用いる場合よりも、工程時間を短縮することができる。 - 特許庁

To clean a contaminated film in an optical CVD apparatus without lowering the processing speed.例文帳に追加

光ＣＶＤ装置において、処理速度を低下させることなく、汚染膜のクリーニングを行うこと。 - 特許庁

To provide a laminate having excellent member protective property during storage or processing and excellent peeling property of a protective film.例文帳に追加

保管時や加工時の部材保護性と、保護フィルムの剥離性に優れた積層体を提供する。 - 特許庁

Then, matting processing is applied on at least one side of the front and rear surface of the coat film layer 12.例文帳に追加

そして上記コートフィルム層１２の表裏面の少なくとも片面には艶消し加工を施す。 - 特許庁

To provide a knurling processing apparatus which is improved in the accuracy of the prevention of the winding displacement of a film roll.例文帳に追加

フィルムロールの巻きずれ防止の精度向上が図れるナーリング加工装置を提供する。 - 特許庁

To perform film deposition processing of high quality by removing microparticles of submicron size.例文帳に追加

サブミクロンサイズの微細なパーティクルを除去し、高品質の成膜処理を行うことを目的とする。 - 特許庁

The anneal processing is applied to the gate insulation film 11 under an environment containing no oxygen.例文帳に追加

酸素を含まない不活性な雰囲気中においてゲート絶縁膜１１をアニール処理する。 - 特許庁

After the resist is removed, the processing target film is processed by using the side wall and the residual portion as a mask.例文帳に追加

レジストを除去した後に側壁および残存部分をマスクとして被加工膜を加工する。 - 特許庁

The method may comprises a step for carrying out a film coating processing of the small pieces 1 of the hologram films with a resin.例文帳に追加

ホログラムフィルムの小片に、樹脂による皮膜コーティング加工を施す工程を含んでもよい。 - 特許庁

RESIST APPLYING AND DEVELOPING METHOD, RESIST FILM PROCESSING UNIT, AND RESIST APPLYING AND DEVELOPING APPARATUS COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびこれを含むレジスト塗布現像装置 - 特許庁

To provide a substrate processing method of forming an aperture with a narrow width in a film to be etched.例文帳に追加

幅の狭い開口部をエッチング対象の膜に形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Then, laminate processing operation is performed by making the film sandwiching the laminated matter pass through the laminate module.例文帳に追加

続いて、ラミネート物を挟持するフィルムをラミネートモジュールを通してラミネート加工作業を行う。 - 特許庁

To uniformly form a film thickness of treatment liquid, and to operate liquid processing at low cost.例文帳に追加

処理液の膜厚を均一に形成することができ，かつ液処理を安価に行うことができる。 - 特許庁

SHRINK FILM AND ARTICLE, PROCESSING APPARATUS, INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD RELATED TO THEM例文帳に追加

シュリンクフィルム及び物品、並びに、それらに関連する処理装置、検査方法及び製造方法、 - 特許庁

To shorten the processing time required for disposal of solution having been used for forming a ferrite film.例文帳に追加

フェライト皮膜の形成に使用した溶液の廃棄のために要する処理時間を短縮する。 - 特許庁

The processing liquid from which the thin film is separated is supplied again to the substrate from the shower nozzles 11 and 12.例文帳に追加

薄膜が分離された処理液は、再度、シャワーノズル１１、１２から基板に供給される。 - 特許庁