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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Gate Lineの意味・解説 > Gate Lineに関連した英語例文

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Gate Lineの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2345



例文

In the semi-transmissive liquid crystal display panel X, a transmission type subpixel electrode 25 is connected to a source wiring line 22a and a gate wiring line 23a through a switching element 27a, and a reflection type subpixel is connected to the transmission type subpixel electrode 25 and a gate wiring line 23b through a switching element 27b.例文帳に追加

本発明に係る半透過型液晶表示パネルXは、透過型副画素電極25はスイッチング素子27aを介してソース配線22aおよびゲート配線23aに接続され、反射型副画素はスイッチング素子27bを介して透過型副画素電極25とゲート配線23bとに接続されている。 - 特許庁

A power-supply noise generated on the power-supply line PL1 when the first internal circuit 102 operates is interposed into the power-supply line PL1 and is absorbed by a P-channel MOS transistor P1 whose gate is connected to the ground line SL1 and a capacitor C1 provided between the power-supply line PL1 and the ground line SL1.例文帳に追加

第1の内部回路102の動作時に電源線PL1上に発生した電源ノイズは、電源線PL1に介挿され、ゲートが接地線SL1に接続されたPチャネルMOSトランジスタP1および電源線PL1および接地線SL1の間に設けられたキャパシタC1により吸収される。 - 特許庁

The word line pattern is formed by patterning a floating gate pattern 57a covering the first active region 53a, a first gate interlayer insulating film 64a formed on the whole surface of a cell array region having the floating gate pattern and a second conducting film 69 formed on the first gate interlayer insulating film 64a.例文帳に追加

ワードラインパターンは第1活性領域53aを覆う浮遊ゲートパターン57a、浮遊ゲートパターンを有するセルアレイ領域の全面に形成された第1ゲート層間絶縁膜64a及び第1ゲート層間絶縁膜64aの上に形成された第2導電膜69をパターニングして形成する。 - 特許庁

A field width x' between the gate electrode 8a and the island-shaped gate electrode 9b and the field width x' between the island-shaped gate electrodes are 0.3 μm, and the titanium silicide layer 15a in the region produces thin line effect, so that the resistance value in the diffused layer region adjacent to the gate electrode 9a rises.例文帳に追加

ゲート電極9a、島状ゲート電極9b間のフィールド幅x’及び島状ゲート電極9b,9b間のフィールド幅x’は0.3μmであり、その領域のチタンシリサイド層15aは細線効果を生じるので、ゲート電極9aに隣接する拡散層領域の抵抗値が上昇する。 - 特許庁

例文

In a power MOS transistor at a peripheral end, where a gate electrode wiring layer 18 is drawn to a gate bus line, a trench 16a forming the gate electrode wiring layer 18 is formed, so that it is brought into contact with a field insulating film 14 and a gate-insulating film 17 continues to the field insulating film 14.例文帳に追加

ゲート電極配線層18をゲートバスラインに引き出す周端部のパワーMOSトランジスタにおいて、前記ゲート電極配線層18を形成するトレンチ16aをフィールド絶縁膜14に接するように形成してゲート絶縁膜17が前記フィールド絶縁膜14と連続するようにしている。 - 特許庁


例文

When a gate signal is applied to the gate line, a delayed gate signal is applied to the gate electrode of the delay compensation TFT 20, the source electrode and the drain electrode of the TFT 20 are electrically connected, and then Vdc is applied to the source electrode.例文帳に追加

ゲートライン端部にダイオード10と遅延補償薄膜トランジスタ20と補償電圧伝達ライン40とを設け、ゲート信号をゲートラインに印加したとき、遅延補償薄膜トランジスタ20のゲート電極に遅延ゲート信号が印加され、薄膜トランジスタ20のソース電極とドレーン電極とが導通してソース電極にVdcが印加される。 - 特許庁

Each of the unit circuits U has a transmission gate G1 to sample the gradation signal Dg in accordance with the sampling pulse SMPs from the pulse output circuit 20, a transmission gate G2 interposed between the transmission gate G1 and a data line 45 and a capacitor C to hold the voltage of the output terminal of the transmission gate G2.例文帳に追加

各単位回路Uは、階調信号Dgをパルス出力回路20からのサンプリングパルスSMPに応じてサンプリングするトランスミッションゲートG1と、トランスミッションゲートG1とデータ線45との間に介挿されたトランスミッションゲートG2と、トランスミッションゲートG2の出力端子の電圧を保持するキャパシタCとを有する。 - 特許庁

Of the transistor T2, a gate is connected to a writing line WSL2, a drain is connected to a signal line DTL2, and a source is connected to a node A between the holding capacitors C1 and C2.例文帳に追加

トランジスタT2において、ゲートが書込線WSL2に接続され、ドレインが信号線DTL2に接続され、ソースが保持容量C1,C2の接続点Aに接続されている。 - 特許庁

A selection transistor TSL sets the potential VG of the gate of the drive transistor TDR, according to the potential VDATA of a signal line 16 by conducting at the selection of a selection line 12 by a selection circuit 22.例文帳に追加

選択トランジスタTSLは、選択回路22による選択線12の選択時に導通することで駆動トランジスタTDRのゲートの電位VGを信号線16の電位VDATAに応じて設定する。 - 特許庁

例文

Furthermore, an increase in the number of power supplies is suppressed by making the potential for the reverse direction bias and the power supply potential for a source signal line driving circuit or a gate signal line driving circuit to be common.例文帳に追加

また、逆方向バイアス時の電位をソース信号線駆動回路あるいはゲート信号線駆動回路の電源電位と共通化することで、電源数の増加も抑えることが出来る。 - 特許庁

例文

A selection gate line SGS in the source side is arranged, against the cell word line WL0 neighboring thereto, keeping at least the distance of "C=n*A+(n-1)B, an integer of n≥2".例文帳に追加

ソース側の選択ゲートラインSGSは、これに隣接するセルワードラインWL0との間に、少なくとも“C=n*A+(n−1)B,n≧2の整数”の距離を有して配置されている。 - 特許庁

One of a source region and a drain region of an erasure TFT 105 is connected to an electric current supply line 108, and the other is connected to a gate signal line 106.例文帳に追加

消去用TFT105のソース領域とドレイン領域とは、一方は電流供給線108に接続され、残る一方はゲート信号線106に接続されている。 - 特許庁

On each pixel area 41 on a liquid crystal TFT array substrate, an ITO transparent electrode 43, a gate line 48, a data line 46, a TFT active element 45, an identification mark 50, etc., are formed.例文帳に追加

液晶TFTアレイ基板の各画素領域41には、ITO透明電極43、ゲート線48、データ線46、TFTアクティブ素子45、識別マーク50等が形成されている。 - 特許庁

In Vth correction preparation periods (T1-T3), the voltage of a gate line WSL is raised to a voltage (V_on1) higher than a voltage (V_on2) applied on a drain line DSL afterwards.例文帳に追加

Vth補正準備期間(T1〜T3)において、ゲート線WSLの電圧が、後にドレイン線DSLに印加する電圧(V_on2)よりも高い電圧(V_on1)に上げられている。 - 特許庁

The continuous series system of a source/drain diffusion layer 14, straddling a gate electrode 13 constituting an address line, is connected electrically at prescribed parts, with an upper layer interconnection with regard to a data line.例文帳に追加

アドレスラインを構成するゲート電極13を跨ぐソース/ドレイン拡散層14の連続する直列系はデータラインに関し、所定箇所が電気的に上層配線と繋がる。 - 特許庁

A driver transistor 35 for supplying the data write current to a write digit line WDL is disposed along its gate lengthwise direction which is a same direction as the write digit line WDL.例文帳に追加

データ書込電流をライトディジット配線WDLへ供給するドライバトランジスタ35は、そのゲート長方向がライトディジット線WDLと同じ方向に沿うように配置される。 - 特許庁

A PMOS transistor QP being a bit line load is not connected directly, connected to a sense node SN, and connected to a bit line BL elected by a column selection gate 3b.例文帳に追加

ビット線負荷のPMOSトランジスタQPは、ビット線BLには直接接続されず、センスノードSNに接続されていて、カラム選択ゲート3bにより選択されたビット線BLに接続される。 - 特許庁

The memory cell group includes a common transistor 210, of which the gate is connected to a common word line CWL and a plurality of memory cells connected to the bit line BL2 via the common transistor.例文帳に追加

メモリセルグループは、ゲートが共通ワード線CWLに接続された共通トランジスタ210と、共通トランジスタを介してビット線BL2に接続された複数のメモリセルとを含む。 - 特許庁

One end of the first bit line is connected to the gate electrode of the transistor of one side on the potential comparison node and the first bit line and an output node of the sense amplifier circuit are electrically disconnected.例文帳に追加

第1のビット線の一端は、電位比較ノードの一方のトランジスタのゲート電極に接続され、第1のビット線とセンスアンプ回路の出力ノードとは電気的に分離されている。 - 特許庁

One selection line 16 is electrically connected to the gate electrode 13a of the selection transistor ST1, but the other selection line 17 is not connected to a selection transistor ST1.例文帳に追加

一方の選択線16は、選択トランジスタST1のゲート電極13aと電気的に接続されるが、もう一方の選択線17は、選択トランジスタST1とは接続されない。 - 特許庁

The channel of the driving transistor is preferably positioned between the gate line and the light emitting element in the first pixel, and that is preferably positioned between the data line and the light emitting element in the second pixel and the third pixel.例文帳に追加

駆動トランジスタのチャネルは好ましくは、第1画素ではゲート線と発光素子との間に位置し、第2画素と第3画素とではデータ線と発光素子との間に位置する。 - 特許庁

In the case of using a pMOS transistor instead of the nMOS transistor 31, its source and drain are short-circuited and connected to the bit line *B and its gate is connected to the dummy word line DWL0.例文帳に追加

nMOSトランジスタ31の替わりにpMOSトランジスタを用いた場合には、そのソースとドレインとを短絡してビット線*Bに接続し、そのゲートをダミーワード線DWL0に接続する。 - 特許庁

The pMOS transistor TD22 has a source and a drain connected to a power line VDD and the signal line GL21, respectively, and the gate thereof receives an inverted signal of the input signal S21.例文帳に追加

pMOSトランジスタTD22は、ソースおよびドレインがそれぞれ電源線VDDおよび信号線GL21に接続され、ゲートが入力信号S21の反転信号を受ける。 - 特許庁

Since the porous substrate 10 has pores therein, it acts as a low permittivity insulator to maintain insulating properties between the gate line 6 and the data line 4, thereby reducing the parasitic capacitance.例文帳に追加

多孔質基板10は内部に空孔を備えるので、誘電率の低い絶縁体としてゲート線6とデータ線4との絶縁性を保つことができ、寄生容量を低減することができる。 - 特許庁

In the odd driver 2o, a first stage inputs a start signal IN and outputs a high level selection signal in accordance with a control signal Φ1, CK to the gate line GL1 on the first line.例文帳に追加

奇数ドライバ2oでは、第1段がstart信号INを入力して、制御信号Φ1、CKに従ってハイレベルの選択信号を1行目のゲートラインGL1に出力する。 - 特許庁

Thin film transistors TR each connected to a gate line GL and a display signal line DL, a pixel electrode 19, an insulating film 20 and a common electrode 21 are disposed on a TFT substrate 10.例文帳に追加

TFT基板10上に、ゲート線GL及び表示信号線DLに接続された薄膜トランジスタTR、画素電極19、絶縁膜20、共通電極21が配置されている。 - 特許庁

Another input terminal of the two inputs NAND gate 3 is connected to a column address signal line 13 while the other input terminal is connected to a row address signal line 14.例文帳に追加

2入力NANDゲート3の一方の入力端子はカラムアドレス信号線13と接続され、その他方の入力端子はロウアドレス信号線14と接続されている。 - 特許庁

In the holding circuit 110, a digital video signal from a drain signal line 61 is written in response to a signal inputted from a gate signal line 51 and the digital video signal is held.例文帳に追加

保持回路110はゲート信号線51から入力される信号に応じて、ドレイン信号線61からのデジタル映像信号が書き込まれると共に該デジタル映像信号を保持する。 - 特許庁

The external amplifier transistor 312 is disposed on a gate control line 318 side from a reference voltage generating section 320, and the pixel selection transistor 314 for test is disposed on a vertical signal line 19 side.例文帳に追加

画素外アンプトランジスタ312を基準電圧生成部320からのゲート制御線318側に配置し、テスト用画素選択トランジスタ314を垂直信号線19側に配置する。 - 特許庁

To provide a gate controller for a communication line having a low insertion loss (power loss) accompanying insertion of a circuit to the communication line, and comparatively simple in design and in handling of control bits.例文帳に追加

通信線路上への回路挿入に伴う挿入損(電力損失)が少なく、制御ビットの設計や取り扱いが比較的簡潔な通信線路のゲート制御装置を実現する。 - 特許庁

The field shield gate 44 located at the vicinity of a dicing line 62, a cutting plane line when the SOI substrate 10 is parted into a plurality of chip, is removed in advance before having been cut by etching.例文帳に追加

SOI基板10を複数のチップに分断する際の切断線であるダイシングライン62近傍のフィールドシールドゲート44は、エッチングによって切断前に予め除去される。 - 特許庁

When a write-in operation is performed, high programming voltage is applied to a selective word line, path voltage is applied to other work line, a power source voltage VCC is applied to the gate of the selective transistor 21.例文帳に追加

書き込みのとき、選択ワード線に高電圧のプログラミング電圧V_pgm を印加し、他のワード線にパス電圧V_passを印加し、選択トランジスタ21のゲートに電源電圧V_CCを印加する。 - 特許庁

After a semiconductor thick film 31 is formed, a read pattern is laminated with a carrier collecting electrode 33, a capacitor Ca, a thin film transistor Tr, a data line 34, and a gate line.例文帳に追加

半導体厚膜31を形成した後に、キャリア収集電極33,コンデンサCa,薄膜トランジスタTr,データ線34およびゲート線からなる読み出しパターンを積層形成する。 - 特許庁

In V_th correction preparing period (T1-T3), the voltage of a gate line WSL is raised to voltage (V_on1) higher than voltage (V_on2) to be applied to a drain line DSL later.例文帳に追加

Vth補正準備期間(T1〜T3)において、ゲート線WSLの電圧が、後にドレイン線DSLに印加する電圧(V_on2)よりも高い電圧(V_on1)に上げられている。 - 特許庁

At least one of the gate line, the data line 171, and the drain electrode 175 includes a first conductive layer containing a conductive oxide and a second conductive layer containing silver.例文帳に追加

ゲート線とデータ線171及びドレイン電極175の少なくとも一方とは、導電性酸化物を含有する第1導電層及び銀を含有する第2導電層を有する。 - 特許庁

The substrate 1 includes a video line 7 and transmission gate portion 6 through multiple switching elements for writing a first potential signal in multiple pixels through a signal line.例文帳に追加

本発明の基板1は、複数のスイッチング素子のそれぞれを介して、複数の画素に第1の電位信号を信号線を介して書き込むためのビデオ線7とトランスミッションゲート部6を有する。 - 特許庁

When the control gate electrodes 4a are formed, the conductive film 4 is left over the bit line contact region 20 and the bit line diffusion layers 2 on both sides thereof.例文帳に追加

コントロールゲート電極4aを形成する時に、ビット線コンタクト領域20の上及びその両側のビット線拡散層2の上にまたがるように導電膜4を残存させる。 - 特許庁

The drain electrode of the first MOSFET is connected to the input line, the source electrode and the base electrode are connected to the first power line, and the gate electrode is connected to a voltage control circuit, respectively.例文帳に追加

第1MOSFETのドレイン電極は入力線に、ソース電極及び基板電極は第1電源線に、また、ゲート電極は電圧制御回路に、それぞれ接続されている。 - 特許庁

The gate connection metal layer is arranged between a first source electrode and a second source electrode and a drain interconnect line or between a first drain electrode and a second drain electrode and a source interconnect line.例文帳に追加

ゲート接続金属層は第1ソース電極および第2ソース電極とドレイン配線間、または第1ドレイン電極および第2ドレイン電極とソース配線間に配置する。 - 特許庁

One of a source region and a drain region of an erasure TFT 105 is connected to a current supply line 108 and the other is connected to a gate signal line 106.例文帳に追加

消去用TFT105のソース領域とドレイン領域とは、一方は電流供給線108に接続され、残る一方はゲート信号線106に接続されている。 - 特許庁

In a shift switch circuit for performing replacement of a data line, the circuit is provided with a transmission gate circuit 34 for connecting a node N2 corresponding to an (i)th write-in data line and a node N4 corresponding to an (i)th read data line.例文帳に追加

データ線の置換を行なうためのシフトスイッチ回路22において、i番目の書込データ線に対応するノードN2とi番目の読出データ線に対応するノードN4とを接続するトランスミッションゲート回路34を設ける。 - 特許庁

The other end of the cell transistor is connected or made selectively floating to any of the first associative ground line, the second associative ground line, and the ground line, and a gate of the cell transistor is connected to the word lines.例文帳に追加

前記セルトランジスタの他端は、前記第1仮想接地ライン、前記第2仮想接地ライン、及び前記接地ラインのうちのいずれか一つに選択的に接続またはフローティングされ、前記セルトランジスタのゲートは、前記ワードラインに接続される。 - 特許庁

The first line includes charge carrier sources and destinations positioned so that the conductivity of the first line between the first and second connecting points is controlled by the gate signals transferred to the channel regions through the second line.例文帳に追加

第一の線は、第一および第二結合点のあいだの第一の線の導電性が、第二の線によってチャネル域に伝えられるゲート信号によって制御されるように位置決めされた、電荷キャリヤソースとデスティネーションを具備する。 - 特許庁

This automatic guided device 10 has a movable carriage 10b for moving along a line by reading the moving guide line 10a extending between an article gate 12b of the automatic warehouse 12 and a desired position PP by a guide line reading means.例文帳に追加

自動倉庫12の物品出入口12bと所望位置PPとの間を延出する移動案内線10aを案内線読取手段で読み取り上記線に沿い移動する移動台車10bを無人搬送装置10が有する。 - 特許庁

The liquid crystal display device has in a liquid crystal display panel 2 a plurality of switching transistors 21 in which the gate is connected to a scanning gate line 25-j; the electrode of a drain or a source is connected to a data line 24-i; and the other electrode is faced to a common electrode across the liquid crystal layer.例文帳に追加

ゲートが走査ゲート線25−jに接続され、ドレインとソースの一方の電極がデータ線24−iに接続され、他方の電極が液晶層を挟んで共通電極と対向する複数のスイッチングトランジスタ21を液晶表示パネル2内に有する。 - 特許庁

The connection of the first switch circuit is changed over to the buffer circuit side and a start pulse and a clock are inputted to the shift register to operate the same, by which only the necessary gate line is driven through the buffer circuit controlled with the second switch and the driving of the unnecessary gate line is stopped.例文帳に追加

第1スイッチ回路の接続をバッファ回路側に切り換え、スタートパルスとクロックを入力してシフトレジスタを動作させることにより、第2スイッチで制御されたバッファ回路を介して必要なゲート線のみを駆動し、必要でないゲート線の駆動を停止する。 - 特許庁

The gate voltage switch circuit 15 supplies, through a row decoder 20, a word line voltage VWL (= voltage VrtminL) outputted by the data read-out gate voltage generating circuit 70 to a word line WL to which a selection memory cell belonging to a memory cell 30 is connected.例文帳に追加

ゲート電圧スイッチ回路15は,データ読み出しゲート電圧発生回路70が出力するワード線電圧VWL(=電圧VrtminL)をロウデコーダ20を介して,メモリセル30に属する選択メモリセルが接続されているワード線WLに供給する。 - 特許庁

This allows switching between the first operation mode, which has a relatively long selection period of the control gate line and short access time, and the second operation mode, which has a relatively short selection period of the control gate line and high reliability, to each other for each sector.例文帳に追加

これにより、制御ゲート線の選択期間が相対的に長く、読み出しアクセス時間の短い第1動作モードと、制御ゲート線の選択期間が相対的に短く、高い信頼性を有する第2動作モードとをセクタ毎に切り替えることができる。 - 特許庁

To provide an electro-optical device capable of using a region of a gate line drive circuit efficiently and preventing the rising speed of a gate line selection signal from decreasing (rising delay), and a shift register circuit composed of a single conductivity type transistor which is suitable for the device.例文帳に追加

ゲート線駆動回路の領域を効率よく利用できると共に、ゲート線選択信号の立ち上がり速度の低下(立ち上がり遅延)を防止できる電気光学装置、並びに、それに適した単一導電型のトランジスタで構成されたシフトレジスタ回路を提供する。 - 特許庁

例文

The switching TFT 210 has a first gate electrode, a first terminal electrode, and a second terminal electrode, the first gate electrode is electrically connected to the first electroconductive line, and the first terminal electrode is electrically connected to the second electroconductive line.例文帳に追加

スイッチングTFT210は、第1のゲート電極、第1の端子電極及び第2の端子電極を有し、第1のゲート電極は、第1の導電性ラインと電気的に接続され、第1の端子電極は、第2の導電性ラインと電気的に接続されている。 - 特許庁




  
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