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TEM characterizationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
The method for photoresist characterization includes a step 102 of forming a photoresist on a supportive structure, a step 104 of baking the photoresist, a step 106 of staining the photoresist with a staining agent, and a step 108 of characterizing the photoresist using at least one of TEM, SEM and AFM.例文帳に追加
フォトレジストの特性化方法は、支持構造上にフォトレジストを形成する工程102と、フォトレジストをベーキングする工程104と、フォトレジストを染色剤により染色する工程106と、TEM、SEMおよびAFMのうちの少なくとも1つを利用し、フォトレジストを特性化する工程108と、を含む。 - 特許庁
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