「carbon ion beam」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CARBON-BASED MULTI-LAYERED THIN FILM MANUFACTURING METHOD USING ION BEAM例文帳に追加

イオンビームを用いた炭素系多層薄膜の製造方法 - 特許庁

An object 45 is irradiated with an ion beam 55 of carbon.例文帳に追加

対象物４５には炭素のイオンビーム５５が照射される。 - 特許庁

This method comprises irradiating the ion beam of a catalyst material to the gas of a carbon compound being a raw material of carbon nanotube in a reaction vessel, and generating the carbon nanotube by using an ion in the ion beam as a nucleus.例文帳に追加

反応容器内で、カーボンナノチューブの原料となる炭素化合物のガスに触媒物質のイオンビームを照射することにより、該イオンビーム中のイオンを核としてカーボンナノチューブを生成させる。 - 特許庁

Heat treatment is applied to at least a part of the carbon foil where the ion beam transmits, so that the carbon buildup is inhibited for the part of the carbon foil through which the ion beam transmits.例文帳に追加

炭素フォイルの、少なくともイオンビームが透過する部分に加熱処理を施し、前記炭素フォイルの前記イオンビームが透過する前記部分の炭素ビルドアップを抑制する。 - 特許庁

The carbon nanotube 3 is heated during or after the irradiation of gallium ion beam.例文帳に追加

ガリウムイオンビームの照射中あるいは照射後に、カーボンナノチューブ３を加熱する。 - 特許庁

Moreover, by applying a nitrogen ion beam 8, the film is made dense to obtain the hard carbon nitride film.例文帳に追加

また、窒素イオンビーム８を照射することにより、膜が緻密となり硬質な窒化炭素膜が得られる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing carbon nanotubes using a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを利用した炭素ナノチューブの製造方法を提供する。 - 特許庁

When depositing carbon by ion beam deposition, it is often not possible for space reasons or practical for cost reasons to utilize two or more ion sources as the number of process chambers is limited.例文帳に追加

イオン源は、原材料の複数のゾーンを蒸着し、複数のゾーンのうちの少なくとも２つのゾーンの厚みを異なるようにする。 - 特許庁

A carbon nanotube 3 held in a space is irradiated with gallium ion beam going through the carbon nanotube 3.例文帳に追加

空間に保持したカーボンナノチューブ３に、カーボンナノチューブ３を貫通するガリウムイオンビームを照射する。 - 特許庁

A die material being a composit material comprising a glassy carbon and a vapor grown carbon fiber is irradiated with a converged ion beam.例文帳に追加

ガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維の複合材である型材に集束イオンビームを照射する。 - 特許庁

A highly transparent diamond-like carbon film is formed by bringing mixed gas of carbon-containing gas and inert gas into a plasma state using a plasma generating part, extracting an ion beam from the plasma by an extraction electrode, accelerating the ion beam, and applying the ion beam to the target coated with silicon oxide so as to induce binding of carbon atoms and silicon oxide atoms.例文帳に追加

炭素を含むガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ生成部によりプラズマ化し、このプラズマから引出電極によりイオンビームを引き出して加速し酸化シリコンをコーティングした対象物に照射することにより炭素原子と酸化シリコン原子が結合する事により、透明性の高いダイヤモンドライクカーボン膜の形成を行う。 - 特許庁

The cell recovery membrane is obtained by irradiating the surface of a polymer material containing carbon as a constituting element with an ion beam and peeling the resultant ion-beam-irradiated layer from the polymer material.例文帳に追加

炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームを照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる薄膜。 - 特許庁

A carbon nanotube 3 other than the one held in the space is removed by the irradiation of gallium ion beam.例文帳に追加

空間に保持したカーボンナノチューブ３以外のカーボンナノチューブ３を、ガリウムイオンビームの照射により除去する。 - 特許庁

Alternatively, the surface of the diamondlike carbon film is treated by an ion beam containing the similar gas and gaseous argon.例文帳に追加

あるいは同様のガスとアルゴンガスとを含むイオンビームにより、ダイヤモンド状炭素膜の表面を処理する。 - 特許庁

The ground electrode 21b is installed on the upper stream side of the ion beam B than that of the ground electrode 21a, and its material is carbon.例文帳に追加

接地電極２１ｂは、接地電極２１ａよりもイオンビームＢの上流側に設けられており、材質はカーボンである。 - 特許庁

To provide a means for minimizing the detrimental defects of a thin film disk covered with a carbon protective film deposited by ion beam deposition.例文帳に追加

イオンビーム蒸着により堆積された炭素保護膜で覆われた薄膜ディスクの有害な欠陥を最小化する手段を提供する。 - 特許庁

To achieve a longer service life of a carbon foil for charge conversion used in an accelerator or the like without the dependence on energy level of an ion beam.例文帳に追加

イオンビームのエネルギーの高低に依存することなく、加速器などで使用する荷電変換の炭素フォイルの長寿命化を図る。 - 特許庁

When the surface of the mold material 2 being a composite material of the vapor-phase growth carbon fiber and the glassy carbon is worked with a focused ion beam, a working efficiency is fallen at the vapor-phase growth carbon fiber and then the worked face of the mold material 2 becomes uneven.例文帳に追加

ガラス状カーボンおよび気相成長炭素繊維の複合材の型材２の表面を集束イオンビーム加工した際に、気相成長炭素繊維の部分で加工効率が低下し、型材２の加工面が凹凸になる。 - 特許庁

In view of using the carbon nanotube 10 (CNT) as an electrode, a pair of electrodes are formed by irradiating, as a second step, the desired region of the placed carbon nanotube 10 with a focused ion beam 20 (FIB), and cutting the region irradiated with the focused ion beam 20.例文帳に追加

カーボンナノチューブ１０（ＣＮＴ）を電極として利用するために、第２ステップとして載置されたカーボンナノチューブ１０の任意の部位に集束イオンビーム２０（ＦＩＢ）を照射し、集束イオンビーム２０を当てた部位を切断して電極対を作製する。 - 特許庁

The fibrous carbon 5 is formed by implanting a catalytic metal ion 4 on the fixed position of the surface of a substrate 1 using the ion implantation method, the focused ion beam method or the single ion implantation method and using a catalytic metal as a catalyst.例文帳に追加

イオン注入法、集束イオンビーム法又はシングルイオン注入法のいずれかによって、触媒金属イオン４を基板１表面上の所定位置に注入し、触媒金属を触媒として繊維状カーボン５を形成する。 - 特許庁

As a result, the carbon nanotube 3 is made amorphous and improved in linearity by irradiating the carbon nanotube 3 held in the space with gallium ion beam.例文帳に追加

この結果、空間に保持したカーボンナノチューブ３にガリウムイオンビームを照射することにより、カーボンナノチューブ３をアモルファス化し、直線性を向上させることができる。 - 特許庁

Then, by irradiating the measuring target surface with an ion beam while supplying a carbon gas, a carbon is attached to the measuring target surface, and an SIM image with an invisible grain is obtained.例文帳に追加

次に、測定対象面にカーボンガスを供給しつつイオンビームを照射することにより、測定対象面にカーボンを付着させ、グレインの見えないＳＩＭ像を得る。 - 特許庁

A carbon membrane 3 is vapor deposited to entrap the foreign matter 2 in the carbon membrane 3 by using the ion beam method to an organic foreign matter 2 attached on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に付着した有機系の異物２に対してイオンビーム法を用いて炭素膜３を蒸着して、炭素膜３に有機系異物２を取込む。 - 特許庁

In the process of depositing the carbon film, the carbon film is deposited using one of an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering method, an RF sputtering method, a DC sputtering method, and an ion beam sputtering method.例文帳に追加

カーボン膜を堆積する工程はＥＣＲスパッタ法、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、およびイオンビームスパッタ法のうちのいずれかの方法を用いてカーボン膜を堆積すること。 - 特許庁

A surface of a resin member constituted of a polymeric compound having carbon or a resin composition containing the polymeric compound is exposed to an ion beam under reduced pressure in the presence of a mixed gas of argon and hydrogen to thereby implant the ion beam in the resin member.例文帳に追加

炭素を有する高分子化合物又は該高分子化合物を含有する樹脂組成物で構成された樹脂製部材の表面を、アルゴンと水素の混合ガスが存在する減圧下でイオンビームに暴露すると、樹脂製部材にイオンビームが注入される。 - 特許庁

When too high transmittance is obtained in the correction of a white defect by depositing an electron beam CVD film 6 of tetramethoxysilane in a halftone phase shift mask, a focused ion beam CVD film or an electron beam CVD film using a carbon-based source gas having low transmittance is further deposited to control the transmittance.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクのテトラメトキシシランの電子ビームCVD膜６の白欠陥修正で透過率が高すぎる場合には透過率の低い炭素系の原料ガスを用いた集束イオンビームCVD膜または電子ビームCVD膜を積層して透過率を調整する。 - 特許庁

The method for manufacturing carbon nanotubes using the focused ion beam comprises a step to prepare a substrate 10, a step where ions 12 in the focused ion beam cave into the surface of the substrate 10 and a step to grow carbon nanotubes 14 on the scanned substrate 10.例文帳に追加

基板１０を準備する工程と、集束イオンビームを利用して、集束イオンビームに含まれたイオン１２が基板１０の表面に陥没される工程と、スキャンされた基板１０上に炭素ナノチューブ１４を成長させる工程と、を含む集束イオンビームを利用した炭素ナノチューブの製造方法である。 - 特許庁

A carrier for culturing the cell has a finely processed surface obtained by peeling an ion beam irradiated layer of a highly polymeric material surface formed by patterning ion beams on the surface of the highly polymeric material containing carbon as a constituent element and irradiating the surface therewith.例文帳に追加

炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化し照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。 - 特許庁

In the ion source, the space between the opening part 28 of the vapor generating furnace 24 and the cover part 38 of the vapor introducing tube 36 is provided with a ring 46 made of carbon sealing the space therebetween, and an aluminum ion beam 22 is generated by using aluminum trifluoride as the solid raw material 32.例文帳に追加

このようなイオン源において、蒸気発生炉２４の開口部２８と蒸気導入管３６の蓋部３８との間に両者間をシールするカーボン製リング４６を設けておき、固体原料３２として三フッ化アルミニウムを用いて、アルミニウムイオンビーム２２を発生させる。 - 特許庁

By scanning the substrate using the focused ion beam carbon nanotubes 14 can be grown selectively on the fine part of the substrate 10 and diversified patterns can also be easily realized.例文帳に追加

集束イオンビームを利用して基板をスキャンすることによって、ナノレベルで基板１０の微細部位に選択的に炭素ナノチューブ１４を成長させることが可能なだけでなく、多様なパターンを容易に具現できる。 - 特許庁

Namely, by the high adhesion by the ion beam irradiation and a high film forming speed by plasma 5, the hard carbon nitride film high in adhesion with the substrate 2 can be obtd.例文帳に追加

すなわち、イオンビーム照射による高い密着力と、プラズマ５による速い成膜速度とで基板２との密着性の高い硬質の窒化炭素膜が得られる。 - 特許庁

The linear material made of carbon nanotube is caused to grow from the bottom of a hole structure worked by a focusing ion beam to form the micro-projecting structure.例文帳に追加

集束イオンビームによって加工した穴構造の底部から、カーボンナノチューブによる線状物質を成長させた微小凸状構造体とする。 - 特許庁

In other way, an amorphous carbon layer is formed on the entire surface of the recording medium by the sputtering method and then a DLC layer is formed in the CSS area by the ion beam method.例文帳に追加

また、記録媒体の全面にスパッタリング法でアモルファスカーボン層を成膜した後にＣＳＳエリアにＤＬＣ層をイオンビーム法で成膜する。 - 特許庁

At the time of simultaneously executing the formation of a carbon film by plasma CVD and nitrogen ion beam irradiation, gaseous hydrogen is mixed into a plasma gaseous starting material, and a negative bias is applied on a substrate 2, by which SP2-coupled soft graphite components in the carbon film to be formed on the substrate 2 are subjected to etching.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによる炭素膜形成と、窒素イオンビーム照射とを同時に行うにあたり、プラズマ原料ガス中に水素ガスを混合し、基板２に負バイアスを印加することにより、基板２上に形成される炭素膜中のＳＰ_2 結合をした軟弱なグラファイト成分がエッチングされる。 - 特許庁

This production method for the amorphous nanoscale carbon tube comprises performing an excitation treatment selected from a group consisting of light-, plasma-, electron beam- and ion beam-irradiation treatments of a specific halogen-containing or chalcogen-containing resin in the presence of a catalyst comprising a metal powder and/or a metal salt.例文帳に追加

特定のハロゲン含有樹脂又はカルコゲン含有樹脂を、金属粉および／または金属塩からなる触媒の存在下に、光照射処理、プラズマ照射処理、電子線照射処理及びイオンビーム照射処理からなる群から選ばれる励起処理に供する。 - 特許庁

When a pair of electrodes 2, 4 disposed on a base substance 1 and an electron emitting element having a carbon film 7 disposed on the electrodes as well as on the base substance between the electrodes, an ion beam of a carbon compound is irradiated on the base substance between the electrodes and/or the surface of the electrodes, the voltage is applied to the electrodes 2, 4 so that the carbon film 7 is deposited.例文帳に追加

基体１上に配置した一対の電極２，４と、電極上及び電極間の基体上に配置されたカーボン膜７を有する電子放出素子を製造する際、電極間の基体表面及び／または電極表面に、炭素化合物のイオンビームを照射すると共に、電極２，４に電圧を印加してカーボン膜７を堆積させる。 - 特許庁

This paste composition for forming a catalyst layer contains carbon particles 1 carrying a catalyst, a hydrogen ion conductive polymer electrolyte 2, electron beam curing monomer and/or oligomer 3, and a solvent 4.例文帳に追加

本発明の触媒層形成用ペースト組成物は、（１）触媒を担持した炭素粒子、（２）水素イオン伝導性高分子電解質、（３）電子線硬化型モノマー及び／又はオリゴマー並びに（４）溶剤を含有する触媒層形成用ペースト組成物を含有する。 - 特許庁

To provide a structure of an ion beam current measuring apparatus, where the area of a part to be sputtered is reduced by changing the shape of flag Faraday, or the area of the part to be sputtered can be reduced by changing the shape of a carbon plate or the like which is used as a cover.例文帳に追加

フラグファラデー形状を変更し、スパッタされる部分の面積を小さくする、またはカバーとして用いるカーボン板などの形状を変更し、スパッタされる部分の面積を小さくすることができるイオンビーム電流計測装置の構造を提供する。 - 特許庁

The iron alloy after the pre-process which is placed inside of the wet etching tank 111 is taken out and placed in a film forming chamber 330, and after the oxidized coating film is further removed by ion beam etching, a carbon film is formed on the surface by arc discharge etc.例文帳に追加

ウェットエッチング槽１１１の内部に置かれた前処理後の鉄合金は、取り出されて成膜チャンバー３３０に置かれ、イオンビームエッチングにより酸化被膜をさらに除去された後、アーク放電などにより表面に炭素膜を形成される。 - 特許庁

In this method for forming a molding die for an optical element to deposit at least a hard carbon film as a release layer on the molding face by an ion beam vapor deposition method, the hard carbon film is deposited under the conditions of 6 to 21 kV acceleration voltage in the initial stage of film deposition and 0.4 to 4 kV acceleration voltage in the final stage of film deposition.例文帳に追加

イオンビーム蒸着法により、成形面に少なくとも硬質炭素膜を離型層として形成する光学素子成形用型の形成方法において、該硬質炭素膜を成膜初期に加速電圧を６〜２１ｋＶとし、成膜終期に加速電圧を０．４〜４ｋＶとして印加し、成膜することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing an antireflection structure includes a process of forming an antireflection structure comprising a cluster of minute projections of glassy carbon on the surface of a base material, having a needle shape or a cone shape having a diameter that contracts towards a tip, by performing ion beam machining using gas containing oxygen against the base material made of glassy carbon.例文帳に追加

ガラス状炭素からなる基材に対して酸素を含むガスを用いてイオンビーム加工を施すことにより該基材の表面に、先端に向けて縮径した針状又は錐状の形状を有する前記ガラス状炭素の微細な突起群からなる反射防止構造を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 - 特許庁

A platinum layer is coated on surface of a paper or a printed matter and a carbon layer is coated on the platinum layer to form a protective and charge-preventive layer comprising the platinum layer and the carbon protective layer to smooth uneven microstructure present on the surface of the sample, and then, the ion beam is focused on the surface of the paper of the printed matter to obtain the section sample.例文帳に追加

紙や印刷物の表面に白金層をコーティングし、この白金層の上にカーボン層をコーティングし、サンプル表面に存在するミクロな凹凸面を平滑にする白金層及びカーボン保護層から成る帯電防止兼用の保護層を形成してから、紙や印刷物の表面にイオンビームを集束して切断し断面試料を得る。 - 特許庁

In the method of vapor-depositing a carbon film on a base material under a vacuum, when an evaporating carbonacious material is deposited on the surface of the base material, a mixed ion beam of gas cluster ions and monomer ions is continuously or discontinuously applied.例文帳に追加

真空減圧下で炭素膜を基材上に気相成長させる方法であって、蒸発炭素質材料を基材表面に付着させる際に、ガスクラスターイオンとモノマーイオンの混合イオンビームを連続的又は断続的に照射することを特徴とする炭素膜形成方法並びにその方法を実施するための装置。 - 特許庁