「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dry etching device which can uniformly process even a large-sized substrate by eliminating a difference in etching speed generated between a center region and a peripheral region in a vacuum processing chamber.例文帳に追加

真空処理チャンバ内の中央領域と周辺領域とにおいて生じ得るエッチング速度の差をなくして、大型の基板でも均一に処理できるようにしたドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for dry etching even a large area wafer or substrate through a convenient arrangement under conditions of atmospheric pressure in the etching step of a semiconductor production process.例文帳に追加

半導体製造工程におけるエッチング工程において、大気圧条件下で処理でき、大面積ウェーハや基板に対応でき、簡便な装置でドライエッチングをする方法及びその装置の提供。 - 特許庁

Sap in lumbers is collected in the drying process of the lumbers 6 by receiving the lumbers 6 into a drying chamber 3 under sealed and adiabatic condition while air is circulated in the drying chamber 3 to dry the lumbers 6.例文帳に追加

密閉かつ断熱状態にした乾燥室３内に木材６を収容し、かつ乾燥室３内に風を循環させて木材６を乾燥させる過程において、木材中の樹液を採集する。 - 特許庁

Dry etching is used for the anti-sticking film removal and a low-cost wet etching process can be used as it is for the sacrificial layer removal, so that the microstructure can be manufactured at a low cost.例文帳に追加

さらに、乾式エッチングにより粘着防止膜を除去し、犠牲層除去時には安価の湿式エッチング工程をそのまま利用できるので低廉に微細構造物を製造できる効果がある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing separators which gives the surface of the release layer uneven shapes during the process to coat and dry a release agent on a substrate, improves releasability, and has an excellent productivity.例文帳に追加

剥離性が改善され、かつ生産性にも優れた、基材に剥離剤を塗布乾燥する工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与するセパレータの製造方法を提供する。 - 特許庁

A connection hole 5 is formed passing through a thin part 3 of a casing 2, and a pipe joint 6, made of a external screw joint piece 7 and an internal screw joint piece 8 is fitted into the connection hole 5 by dry process.例文帳に追加

ケーシング２の薄肉部３を貫通させて接続孔５を形成し、雄ねじ継手片７および雌ねじ継手片８からなる管継手６を乾式工法で接続孔５に装着する。 - 特許庁

To provide a method for producing a carbon fiber precursor fiber bundle, by which fusion between single fibers can be prevented on the dry compacting of the fibers, and the accumulation of scales originated from a silicone can simultaneously be inhibited to improve the passage of the fibers in a calcination process.例文帳に追加

乾燥緻密化時の単繊維間融着を抑制して、高性能な炭素繊維を製造することと同時に、シリコーン由来のスケール堆積を抑制し、焼成工程通過性を改善する。 - 特許庁

To provide a color display device which is easy to manufacture, achieves high yields, and reduces restrictions in selecting material by mixing a wet process with dry processes, and also to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加

製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge head and a droplet discharge apparatus capable of giving a stable dry state to droplets by lengthening the irradiation time with light without deteriorating the performance of droplet discharge process.例文帳に追加

液滴吐出処理の処理性能を損なうことなく光の照射時間を長くして安定した乾燥状態を液滴に与える液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

The dry persimmons are produced by the following process: peeling the persimmons, preliminarily drying the persimmons, coupling some of the persimmons with a string, tying and attaching a series of the thus coupled persimmons to the collar, and rotating the drum while heating it with the heater.例文帳に追加

皮をむき予備乾燥した数個の柿を紐でつなぎ、このような繋がった一連の柿をカラーに縛って取りつけ、加熱用ヒーターで加熱しながらドラムを回転させて乾燥させる。 - 特許庁

The negatively charged dry process toner is formed by adding the particles of the aluminum oxide-silicon dioxide compound oxide and fine particles of a silicon dioxide to the toner base particles.例文帳に追加

本発明の負帯電乾式トナーは、トナー母粒子に、焔内加水分解法により得られる酸化アルミニウム−二酸化珪素複合酸化物粒子および二酸化珪素微粒子を外添したものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic device includes a process of performing dry etching using a gas containing fluorine on the metal film containing Ti such as the TiN film 103 formed on a semiconductor substrate 100.例文帳に追加

電子デバイスの製造方法は、半導体基板１００上に形成されたＴｉＮ膜１０３等のＴｉを含む金属膜に対し、フッ素を含むガスを用いてドライエッチングを行なう工程を含む。 - 特許庁

A mixed gas made of oxygen gas, nitrogen gas, and gas combining hydrogen atoms and fluorine atoms is used as a process gas, so that the silicon nitride film 12 is removed by dry etching.例文帳に追加

フッ素原子を含むガスと、酸素ガスと、窒素ガスと、水素原子及びフッ素原子が結合したガスとを混合したガスから成るプロセスガスを用いたドライエッチングによってシリコンナイトライド膜１２を除去する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by the use of an etching technique capable of ensuring a sufficient etching selection ratio between an etched layer and an etching stop film in a dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング工程において、エッチングすべき層と、その下のエッチングストッパ膜との十分な選択比を確保することが可能なエッチング技術を用いて半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A dry process fire resistant structure wall 1 is constituted of a vertical stud 10 made of steel and aligned and arranged along the wall center and incombustible board materials 2 and 3 attached to only one surface of the stud made of steel.例文帳に追加

乾式工法の耐火構造壁１は、壁芯に沿って整列配置した垂直な鋼製スタッド１０と、鋼製スタッドの片面にのみ取付けられた不燃性ボード材料２、３とから構成される。 - 特許庁

In a semiconductor device having the trench 11 within a semiconductor substrate 10, roughness 11b shaped by uneven concave and convex surfaces in almost equal height is formed through at the bottom surface 11a of the trench 11 a dry etching process.例文帳に追加

半導体基板１０内にトレンチ１１を有する半導体装置において、トレンチ１１の底面１１ａに、ドライエッチング処理により高さが概ね均一な凹凸形状の粗さ１１ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor having a structure showing a good property without requiring any special wiring formation process such as an air bridge or the like in an HBT in which a mesa formation is performed by a dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによりメサ形成を行ったＨＢＴにおいて、エアブリッジなどの特別な配線形成工程を必要とせず、良好な特性を示す構造のヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a long-term, stable and efficient methane fermentation process by preventing the inhibition of a methane fermentation caused by ammonia, or the like, when a dry methane fermentation processing is performed on an organic waste in a methane fermentation tank.例文帳に追加

有機性廃棄物をメタン発酵槽内で乾式メタン発酵処理するに当たり、アンモニア等によるメタン発酵阻害を防止して、長期に亘り、安定かつ効率的なメタン発酵を行う。 - 特許庁

The porous structure enable addition of the thickness required during a production process to the curry, and also production of instant dried curry excellent in reconstitution even after frozen vacuum dry and rich in flavor inherent in vegetables.例文帳に追加

このことにより製造工程中必要な粘度をカレーに付与出来ると共に、凍結真空乾燥後も湯戻りが良好で、野菜由来の風味豊かな即席乾燥カレーを提供することができる。 - 特許庁

A process for creating a close contact layer is provided with a dry etching step for etching a material for the close contact layer by using an etching gas including at least a hydrogen atom component and a nitrogen atom component.例文帳に追加

本発明は、密着層を作成する工程に、少なくとも水素原子成分及び窒素原子成分を含むエッチングガスにより密着層の材料をエッチングするドライエッチング工程を設ける。 - 特許庁

To provide a dry toner for developing an electrostatic latent image which makes it possible to recover residual toner after transfer simultaneously with development even when a blade cleaning process for promoting friction of an electrostatic latent image carrier is omitted.例文帳に追加

静電潜像担持体摩擦を促進させるブレードクリーニング工程を有しても有さずとも、現像と同時に転写後残トナーを回収可能な静電潜像現像用乾式トナー等を提供する。 - 特許庁

One process of making dried noodles is to mix flour with salt and water, knead it well, add cooking oil such as cotton oil, flour, or starch, stretch the mixture while twisting it, and dry it until mature. 例文帳に追加

乾麺については小麦粉に食塩と水を混ぜてよく練り、綿実油などの食用油、もしくは小麦粉やでん粉を塗ってから、よりをかけながら引き延ばして乾燥、熟成させる製法がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for producing effectively a polymer thin film of high quality and of high conductivity by a dry process without using any solvent, and to provide a conductive polymer thin film and uses etc. of the same.例文帳に追加

溶媒を用いないドライプロセスにより、高い導電性を有する高品質の高分子薄膜を効率よく製造する方法、その導電性高分子薄膜、及びその用途等を提供する。 - 特許庁

In the mixing process, the dry powder of green leaves of wheats and sesame are set to a weight ratio of 5 : 1 to 1 : 2 and sesame is mixed so that sesame becomes at most 30 wt.% in sesame and green wheat granules.例文帳に追加

該混合工程において、麦類緑葉乾燥粉末とゴマとの重量比が５：１〜１：２の割合で、かつゴマがゴマ青麦顆粒中で３０重量％以下となるように混合される方法。 - 特許庁

In manufacture, the layer 22 of a thin film formed by a deposition method is worked by a semiconductor process (dry etching), and conductive materials, which are alternately provided between the layers 22, are formed as a film by an electroplating method.例文帳に追加

製造においては、堆積法で成膜した薄膜の圧電体層２２は半導体プロセス（ドライエッチング）で加工し、圧電体層２２間に交互する導電材料は電気メッキ法で成膜する。 - 特許庁

In a manufacturing process, the panel light 11, the money-adjusting unit 12, the cooling and heating unit 13 and the dry-cell battery 14 are removed from the waste automatic vending machine 10, and the remainder is compressed.例文帳に追加

またその製造方法は、廃棄自動販売機１０から照明灯１１、金銭精算ユニット１２、冷却温熱ユニット１３、乾電池１４を取り外した後に、その残部を圧縮プレスする。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyimide film is characterized by introducing a both faces drying process in which a precursor film released from a substrate is dried from both faces to dry a solvent, between a first drying process in which a precursor polyamic acid film is manufactured on the substrate, and a process in which imidation reaction is performed by reacting the film by heat.例文帳に追加

前駆体ポリアミド酸フィルムを支持体上で製造する第一乾燥工程と前記フィルムを熱により反応させてイミド化反応させる工程との間に、支持体から剥離した前駆体フィルムを両面から溶媒を乾燥させる両面乾燥工程を導入したことを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 - 特許庁

The method includes a pre-baking process of heating the sapphire substrate at a temperature higher than that during the irradiation with the ultraviolet rays after the application of the photoresist and before the irradiation with the ultraviolet rays, and a post-baking process of heating the sapphire substrate at a temperature higher than that during the pre-baking process after the irradiation with the ultraviolet rays and before the dry etching.例文帳に追加

本発明の方法は、フォトレジストを塗布した後、紫外線光を照射する前に前記紫外線光の照射時よりも高い温度で前記サファイア基板を加熱するプリベーク工程と、紫外線光を照射した後、ドライエッチングする前に前記サファイア基板をプリベーク工程よりも高い温度で加熱するポストベーク工程を有する。 - 特許庁

The method for preparing the photocatalyst comprises a first process wherein a photocatalyst coat is formed by coating a photocatalyst coating liquid on the substrate and a second process wherein a photocatalyst film is formed by forcing the undried photocatalyst coat prepared in the first process to dry and calcining it by blowing hot air thereon.例文帳に追加

また、光触媒体の製造方法は、基体の表面に光触媒塗布液を塗布して光触媒塗布膜を形成する第１の工程と、第１の工程により形成された未乾燥状態の光触媒塗布膜に熱風を吹き付けて強制乾燥を行うとともに焼成して光触媒膜を形成する第２の工程とを具備している。 - 特許庁

The mold is manufactured by continuously executing an etching process, which performs the dry etching of a material 10 to be processed when the mold is produced using the material to be processed having an etching mask 15 formed thereto, a removing process, which removes the etching mask, and a film forming process, which forms a fluorine-based thin film 17 on the material to be processed, in the same apparatus.例文帳に追加

この成形金型の製造方法は、エッチングマスク１５を形成した被加工材１０を用いて成形金型を製造する際に、被加工材をドライエッチングするエッチング工程と、エッチングマスクを除去する除去工程と、被加工材にフッ素系薄膜１７を成膜する成膜工程と、を同一装置内で連続的に実行するものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process to remove an organic substance from a semiconductor region, a process to remove an oxide film formed on a surface of the semiconductor region, and a process to dry without using an organic solvent as a drying treatment, before the silicide layer is formed at the semiconductor region with a line width of 50nm or less.例文帳に追加

５０ｎｍ以下の線幅の半導体領域にシリサイド層を形成する前に、前記半導体領域から有機物を除去する工程と、前記半導体領域表面に形成された酸化膜を除去する工程と、乾燥処理として有機溶媒を用いない乾燥を行う工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Provided is a semiconductor device manufacturing method for manufacturing a gallium nitride-based semiconductor device which comprises: a first semiconductor layer formation process where a first semiconductor layer composed of a gallium nitride-based semiconductor is formed; and a recess part formation process where a recess part is formed by partially dry-etching the first semiconductor layer by means of a micro wave plasma process while using bromine-based gas.例文帳に追加

窒化ガリウム系半導体からなる第１の半導体層を形成する第１半導体層形成工程と、第１の半導体層の一部を、臭素系ガスを用いて、マイクロ波プラズマプロセスでドライエッチングして、リセス部を形成するリセス部形成工程と、を備え、窒化ガリウム系半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode material for a battery, together with its manufacturing method, in which a surface of the battery electrode material is efficiently and easily roughened to an arbitrary roughness by a technology which is industrially practicable, which means a dry-type film forming method which lefts no residual, in a dry process requiring no waste liquid treatment.例文帳に追加

工業的に十分実用可能な技術の範囲で、即ち廃液処理を要しないドライプロセスで、残渣が残らない乾式成膜法により、効率的にしかも容易に任意の粗さを有する粗化面が形成された電池用電極材の粗化を効率的に電池用電極材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a cosmetic process for treating dry skin or a dry scalp of non-inflammatory origin, in particular in a menopausal woman, comprising the topical application to the skin or the scalp of a composition containing, in a physiologically acceptable medium, at least one(dihydro) jasmonic acid derivatives.例文帳に追加

本発明は、少なくとも1種の(ジヒドロ)ジャスモン酸誘導体を生理学上許容可能な媒体中に含有する組成物を皮膚または頭皮へ局所的に使用することを含む、特に閉経期女性の、乾燥肌または非炎症性原因の乾燥頭皮を処置するための美容的方法に関する。 - 特許庁

In a dry washing method and apparatus for a laminated ceramic electronic component chip, soft media are added to a mixture of laminated ceramic electronic component chips, polishing materials and polishing waste after a dry polishing process, and the mixture is agitated to remove the polishing materials and polishing waste from the laminated ceramic electronic component chips by the soft media.例文帳に追加

乾式研磨工程を終えた積層セラミック電子部品チップ、研磨材および研磨屑の混合物に軟質メディアを加えて、撹拌し、前記積層セラミック電子部品チップから軟質メディアによって、研磨材および研磨屑を除去する積層セラミック電子部品チップの乾式洗浄方法およびその乾式洗浄装置。 - 特許庁

In the dry-cleaning method, the washing process liquid 4 comprising adding the useful microorganisms 2 of 3-8 wt% and the distilled water 3 of 3-8 wt% to the dry soap 1 prepared to be not more than pH3.5 and having 100 wt% is mixed with a petroleum solvent 5 by 0.2-1.0%.例文帳に追加

また、本発明に係るドライクリーニング方法は、ｐＨ 3.5以下に調整された 100重量％のドライソープ１に対して、３〜８重量％の有用微生物群２と、３〜８重量％の蒸留水３と、を加えることにより構成された洗浄加工液４を、石油系溶剤５に対して 0.2〜 1.0％混合するものである。 - 特許庁

The petroleum washing process liquid for dry-cleaning is made by adding useful microorganisms 2 of 3-8 wt% having an antioxidative effect and a nonionic effect and restraining a growth of destructive microorganisms and distilled water 3 of 3-8 wt% to a dry soap 1 prepared to be not more than pH 3.5 and having 100 wt%.例文帳に追加

ｐＨ 3.5以下に調整された 100重量％のドライソープ１に対して、抗酸化作用と非イオン作用を持ち有害微生物の増殖を抑制する３〜８重量％の有用微生物群２と、３〜８重量％の蒸留水３と、を加えることにより、石油系ドライクリーニング洗浄加工液を構成する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an oxide magnetic material, including a dry molding process for obtaining a molded body by dry-molding a raw material mixture containing oxide magnetic particles and a binder in a magnetic field, the method is constituted to add the binder comprised of an adamantane-based compound into the powder before the molding operation in the magnetic field.例文帳に追加

酸化物磁性体粒子とバインダーとを含む原料混合物を磁場中で乾式成形して成形体を得る乾式成形工程を有する酸化物磁性体の製造方法において、磁場中での成形操作前に、アダマンタン系化合物からなるバインダーを粉体に添加するように構成する。 - 特許庁

To provide a method for reusing various apparatuses used in a semiconductor manufacturing process, particularly in a dry process, by simply repairing the surface of a member composing the apparatus, which has been corrosively worn due to the action of a halogen-based gas, and for improving the durability of the apparatuses.例文帳に追加

半導体製造プロセス、とくにドライプロセス用の各種装置およびその構成部材が、ハロゲン系ガスなどの作用によって腐食損耗した場合に、その表面を簡便に補修して復元させることにより、該装置等の再使用と耐久性を向上させるための方法を提案する。 - 特許庁

Thus, the outer appearance of the end surface portion of the wafer W in the dry etching which is highly relevant to the occurrence of a defect in the device process is observed, so that it can be suitably evaluated whether the wafer W has a high possibility of defect occurrence in the device process.例文帳に追加

デバイスプロセスの欠陥の発生と関連性が強い、ドライエッチングを行った際のウェーハＷの端面部の外観を観察するようにしているので、ウェーハＷがデバイスプロセスにおいて欠陥を発生させる可能性が高いか否かを適切に評価することができる。 - 特許庁

By conducting a process of partially forming a mask on the surface of a substrate and a process of forming concave portions by etch-removing a portion of the surface of the substrate which is not covered with the mask by a dry etching method in this order, concave-convex portions are formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に部分的にマスクを形成する工程と、ドライエッチング法を用いて前記基板の表面の前記マスクに覆われていない部分をエッチング除去して凹部を形成する工程とを、この順に行うことにより、基板の表面に凹凸部を設ける。 - 特許庁

This method for producing the olive food preserved in sugar comprises desalting raw material olives which are stored after performing an astringency removing process and a seed removing process, soaking the olives one by one in sugar solution whose sugar content is sequentially changed to high sugar content, drying the product to a semi dry condition followed by sprinkling sugar and drying the product to a wholly dried condition.例文帳に追加

渋抜き処理及び種抜きを行い貯蔵した原料オリーブを塩抜きしてから、糖度を順次高糖度にかえた糖液に順次浸漬し、半乾燥状態に乾燥し、砂糖を散布し、全乾燥状態に乾燥することを特徴とするオリーブ砂糖漬食品の製造法。 - 特許庁

To provide a fabrication method by which a fine wiring structure is formable without using dry etching or ashing process of a wiring trench for a multiple layer fine wiring in a semiconductor device, at the same time the simplification of wiring process, the improvement of wiring reliability, and cost reduction are achieved.例文帳に追加

半導体装置における微細な多層配線において、配線溝のドライエッチングやアッシングプロセスを用いることなく、微細な配線構造の形成が可能であって、配線工程の簡略化、配線信頼性向上、低コスト化を同時に達成する製造方法を提供する。 - 特許庁

In a cleaning process being performed later than a process for forming a ferroelectric thin film 110 becoming a part of a ferroelectric thin film capacitor, dry cleaning, e.g. ashing, Ar aerosol cleaning, CO_2 cleaning, cleaning with CO_2 in a supercritical state, or UV cleaning, is employed.例文帳に追加

強誘電体薄膜キャパシタの一部となる強誘電体薄膜１１０を形成する工程よりも後に行なわれる洗浄工程において、アッシング、Ａｒエアロゾル洗浄、ＣＯ_2 洗浄、超臨界状態のＣＯ_2 による洗浄又はＵＶ洗浄等のドライ洗浄を用いる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁