「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a lumber processing method which can process lumber easily in a short time, dry lumber from thinning, old lumber, waste lumber, bamboo, etc., process lumber to be dark red, rosewood-like, or ebony-like, and improve the commercial value of lumber.例文帳に追加

本発明は加工が容易で、短時間に行なうことができるとともに、間伐材、古木材、廃木材、竹等の木材の乾燥は勿論、えんじ色、紫檀あるいは黒檀状になるように加工して、商品価値の向上を図ることができる木材の加工方法を得るにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film solar cell, by which the thin film solar cell capable of having a Cd-free buffer layer formed without using a wet process and is extremely low in toxicity can be manufactured inexpensively through an all-dry process of superior productivity, and which is extremely superior in practicality.例文帳に追加

ウェットプロセスを用いることなくＣｄを含まないバッファ層を形成でき、量産性に秀れるオールドライプロセスで極めて毒性の低い薄膜太陽電池をコスト安に製造可能な極めて実用性に秀れた薄膜太陽電池の製造方法の提供。 - 特許庁

The mixed gas in the dry etching advancing process is prepared by mixing the fluorocarbon gas of 5-12 volume is mixed into the SF_6 gas of 100 volume, and the mixed gas in the protective film forming process is prepared by mixing the SF_6 of 2-5 volume into the fluorocarbon gas of 100 volume.例文帳に追加

ドライエッチング進行工程における混合ガスは、ＳＦ_６ガス１００容量に対してフロロカーボンガスを５〜１２容量混合させたものとし、保護膜形成工程における混合ガスを、フロロカーボンガス１００容量に対してＳＦ_６ガスを２〜５容量混合させたものとされる。 - 特許庁

Further, by performing a simple wet etching process using a single wet station without another dry etching process for removing the oxide film in the cell region and a photosensitive film pattern, no bridging phenomenon between cells are induced, so that yield of a device is improved.例文帳に追加

さらに、セル領域の酸化膜及び感光膜パターンを除去するため別の乾式エッチング工程なく単一ウェットステーションを用いた簡単な湿式エッチング工程を行うことにより、セル間のブリッジング現象が誘発されないのでディバイスの収率向上に寄与することができる。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

This method for processing the purple sweet potatoes comprises a preliminary treatment for soaking the purple sweet potatoes in an ascorbic acid treating solution at a temperature at the vicinity of the gelatinization temperature of starch contained in the purple sweet potatoes, a steaming process for steaming the purple sweet potatoes after going through the preliminary treatment, and a dry process for drying the steamed purple sweet potatoes.例文帳に追加

紫いもに含まれる澱粉の糊化温度近傍で、紫いもをアスコルビン酸処理液に浸漬処理する前処理行程を行った後、前処理行程を経た紫いもを、蒸煮する蒸煮工程を行い、その蒸煮された紫いもを乾燥する乾燥工程を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which enables to use an ESC (electrostatic chuck) method as a means for fixing an insulating substrate in a dry process and can process to an external periphery without causing a dead space on a semiconductor substrate stuck on this insulating substrate.例文帳に追加

ドライプロセスにおいて絶縁性基板を固定する手段としてＥＳＣ法を用いることを可能とし、この絶縁性基板と貼り合わされた半導体基板上にデットスペースを生じること無く外周域まで加工を施すことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the fuel cell separator includes a first process preparing a substrate for a separator (10), and a second process forming a film of Ti film (11) or TiN film (20) by a dry coat method while applying bias voltage which is a specified value or less on a surface of the separator substrate.例文帳に追加

燃料電池セパレータの製造方法は、セパレータ用基材（１０）を準備する第１工程と、セパレータ基材表面に所定値以下のバイアス電圧を印加しつつドライコート法によってＴｉ膜（１１）またはＴｉＮ膜（２０）を成膜する第２工程とを含む。 - 特許庁

The process is a dry process for introducing crosslinkages to a polysaccharide having a functional group capable of adsorbing a metal ion and comprises a step of contacting the above polysaccharide in the state of a solid with a crosslinker to thereby introduce crosslinkages to the polysaccharide.例文帳に追加

本発明は、金属イオンを吸着し得る官能基を有する多糖類に架橋を導入するための乾式架橋導入方法であって、固体状の前記多糖類に架橋剤を接触せしめて前記多糖類に架橋を導入する工程を備えた方法を提供する。 - 特許庁

To provide an SOI wafer including a low-stress film without causing a problem in a process of lithography, resist application, dry etching or the like when used as an MEMS substrate; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、ＭＥＭＳ基板として使用する際に、リソグラフィー、レジスト塗布、ドライエッチングなどの工程で問題を引き起こさないような低応力膜を備えたＳＯＩウェーハとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for laser beam machining, by which method and apparatus, the surface of a workpiece can be machined and cleaned by the non-contact type operation without requiring high vacuum and with the dry process.例文帳に追加

非接触型で、必ずしも高い真空度を要することなく、かつドライプロセスによって部材表面の加工ならびに清浄化を図ることが可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

In a process for forming a separation groove for separating into chips by dry etching and then surface-roughening a surface where the n-type nitride semiconductor layer 2 is exposed, the side of the active layer 3 is melted and the width is narrowed.例文帳に追加

チップに分離するための分離溝をドライエッチングで形成した後、ｎ型窒化物半導体層２が露出した表面の粗面加工を行う工程で、活性層３の側面が溶けて幅が狭くなったものである。 - 特許庁

The probe method consists of two processes, one in which the electrode pad of a wafer W is subjected to a reduction process using a foaming gas and the second in which the electron pad and a probe pin 14A are put in contact in a dry atmosphere.例文帳に追加

本発明のプローブ方法は、フォーミングガスを用いてウエハＷの電極パッドを還元処理する工程と、乾燥雰囲気下で電極パッドとプローブピン１４Ａを接触させる工程とを備えている。 - 特許庁

In this method for cooling a exhaust gas with water spray by using a dry process, hot water of ≥100°C temperature and ≥1 kgf/cm2 pressure is sprayed on the exhaust gas to cool the exhaust gas to a prescribed temperature or below.例文帳に追加

排ガスを水噴霧により乾式で冷却する方法であって、１００℃以上かつ１ｋｇｆ／ｃｍ^2 以上の熱水を排ガスに噴霧することにより、排ガスを所定温度またはこれ以下に冷却する。 - 特許庁

The master batch containing a cyclic olefin-based resin and the low molecular weight cyclic olefin-based resin having the number average molecular weight of ≤10,000 is dry-blended with the cyclic olefin-based resin, and after the process, the injection molding is carried out.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂と数平均分子量が１００００以下である低分子量環状オレフィン系樹脂とを含むマスターバッチと、環状オレフィン系樹脂と、をドライブレンドする工程後に射出成形する。 - 特許庁

In particular, if the heat insulating wall 8 and the refractory storage tank 9, etc., are dry at the time of assembling the container 1, the drying process becomes unnecessary and the time required for producing the container 1 becomes very short.例文帳に追加

特に、断熱壁８や耐火性貯留槽９等がこの容器１の組み立て時に乾燥している部品であれば、乾燥工程は不要となり、この容器１の製造に要する時間は極めて短いものとなる。 - 特許庁

Before a washing process, the amount of the laundry is detected when the laundry is in a state of dry cloth, while in rinsing, dehydrating, and drying processes, the amount of the laundry is detected when the laundry is in a state of wet cloth.例文帳に追加

ここで、洗濯物が洗い行程前であれば、洗濯物量は洗濯物が乾布である状態で行い、洗濯物がすすぎ行程、脱水行程、乾燥行程では、洗濯物量は湿布の状態で行う。 - 特許庁

To provide a processing method which can easily remove the leftovers occurring at dry etching of an insulating film within a contact hole and also can etch an aluminum film to form an electrode, in a process of manufacturing a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルを製造する工程で、コンタクトホ−ル内の絶縁膜のドライエッチング時に発生した残渣物を容易に除去でき、同時に、電極を形成するアルミニウム膜のエッチングも出来る処理方法を提供する。 - 特許庁

To make pattern dimension constant even if variation exists in the thickness of an underlayer resist layer, when a three-layer resist process is performed by a dry development method, concerning the method for forming a multylayer resist pattern and the etching method.例文帳に追加

多層レジスト・パターンの形成方法及びエッチング方法に関し、ドライ現像法に依って３層レジスト・プロセスを実施する場合、下層レジスト層の層厚にばらつきが存在しても、パターン寸法が一定となるようにする。 - 特許庁

To prevent gate insulating film penetration in a dry etching process when forming a gate electrode pattern in a semiconductor apparatus in which gate structures of an n-channel and that of a p-channel are different from each other and which has metal gate electrodes.例文帳に追加

ｎチャネル及びｐチャネルのゲート構造が異なり且つメタルゲート電極を有する半導体装置において、ゲート電極パターン形成時のドライエッチングでゲート絶縁膜の突き抜けが発生しないようにする。 - 特許庁

The masking layer can be obtained by conducting a conditioning process for more than five hours under a processing condition of the temperature being 30°C or more and the relative humidity being 90% or more after having pasted the dry film resist as a patterning mask.例文帳に追加

このようなマスク層は、ドライフィルムレジストをパターニングマスクとして貼りつけた後、温度が３０℃以上、相対湿度が９０％以上の処理条件で５時間以上コンディショニング処理を行なうことで得られる。 - 特許庁

To provide a heating/conveyance apparatus for food manufacture of a dry heat heating method which is capable of providing a fine temperature gradient control in the conveying process for the objects of food manufacture and heating the objects of food manufacture.例文帳に追加

食品製造対象物に搬送過程で精細な温度勾配制御を施して食品製造対象物を加熱することができる乾熱加熱方式の食品製造用の加熱・搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-wire saw capable of keeping high process quality and preventing breakage of wire by restraining viscosity variation of slurry, dry and solidification of the slurry at an inlet part for inserting the wire in silicon ingot.例文帳に追加

スラリの粘度変化やワイヤがシリコンインゴットに挿入される入口部分におけるスラリの乾燥、固化を抑制して、高い加工品質を維持し且つワイヤの破断を防止することのできるマルチワイヤソーを提供すること。 - 特許庁

Moreover, the mushroom bed cultivation method of Pleurotus cystidiosus or black abalone mushroom includes a process in which the medium base material and a nutrient material fewer than the medium base material by a dry weight ratio are mixed to make the medium for a solid cultivation of mushroom.例文帳に追加

また、培地基材と、培地基材より乾燥重量比で少ない栄養材を混合し、きのこの固形栽培用培地を作製する工程を包含するオオヒラタケ又はクロアワビタケの菌床栽培方法。 - 特許庁

The dry and wet spinning method for manufacturing a membrane comprises the process of cooling an aerially travelling part by installing a gas permeable heat-transfer and cooling member in the aerially travelling part to enclose it and submerging a part of the heat-transfer and cooling member in a solidifying solution.例文帳に追加

湿式紡糸製膜方法において、空中走行部に通気性を有する伝熱冷却部材を設置して囲い、左記伝熱冷却部材の一部を凝固液に浸漬して空中走行部を冷却する。 - 特許庁

In the inside of the chamber 1 of an etching apparatus, a first step of performing H2O plasma processing and following the first step, and a second step of performing Cl2 plasma processing, are executed after executing an Al dry etching process.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバー内部１において、Ａｌドライエッチング工程を行った後、Ｈ_2Ｏプラズマ処理を行う第１工程と、第１工程に続いて、Ｃｌ_2プラズマ処理を行う第２工程とを実施する。 - 特許庁

Next, a protective film is formed, and gate pads and data pads are exposed by removing the protective film as well as the gate insulating film corresponding to the exposed part of the thin film transistor substrate by dry-etching after the assembly process.例文帳に追加

その次に、保護膜を形成し、アセンブリー工程後に薄膜トランジスタ基板の露出された部分に該当する保護膜をゲート絶縁膜と共に乾式エッチングで除去してゲートパッドとデータパッドとを露出させる。 - 特許庁

To provide a print circuit board which can reduce process time and cost by using a first insulation layer as an etching resist instead of a dry film and not removing it after etching as well as the method of manufacturing the same.例文帳に追加

エッチングレジストとしてドライフィルムの代わりに第１絶縁層を使用し、エッチング後にも除去しないことにより、工程費用および工程時間が節減できるプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer treating method and a semiconductor wafer drying device, satisfactorily processing a semiconductor wafer in a short period of time in a dry process after cleaning with water and organic solvent.例文帳に追加

水洗および有機溶剤による洗浄の後の乾燥において、半導体ウエハを短時間で良好に処理可能な優れた半導体ウエハ処理方法および半導体ウエハ乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

Side etching of the gate insulation film of the channel region through region selective etching of the silicon oxide film by dry etching of poor selectivity, or leaving of the gate insulation film on the source and drain regions will be involved in the process.例文帳に追加

選択性の悪いドライエッチングで酸化シリコン膜の領域選択エッチングをしてチャネル領域のゲート絶縁膜をサイドエッチングしたり、ソース、ドレイン領域上のゲート絶縁膜を残したりすることがない。 - 特許庁

To provide a method for performing melting treatment for an SiC based substance and recovering treatment for gold or platinum group elements comprised in the SiC based substance utilizing a dry process of recovering metal copper from copper oxide.例文帳に追加

酸化銅から金属銅を回収する乾式プロセスを利用してＳｉＣ系物質の溶融処理およびＳｉＣ系物質に含有される金または白金族元素の回収処理を行う方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic electroluminescent element contains an organic layer forming process forming at least one layer with an organic electroluminescent element material obtained through vacuum freeze dry.例文帳に追加

凍結真空乾燥を経て得られた前記有機エレクトロルミネッセンス素子材料を用いて前記少なくとも１層を形成する有機層形成工程を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck device which can provide a patterning process of increasing a product yield, and stabilizing dry etching by controlling discharge in the interior of an He gas supply hole.例文帳に追加

Ｈｅガス供給穴内部での放電を制御して、製品の歩留りを向上させ、ドライエッチングによる安定したパターンニング工程を提供することができる静電チャック装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a three-dimensional formed article of vegetable fibers which can be formed easily with high production efficiency by dry type forming, without using pulp slurry using water in a forming process.例文帳に追加

本発明は、成形工程で水を用いたパルプスラリーを使用することなく、乾式の成形により、高い生産効率で容易に成形できる植物繊維よりなる立体成形物を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method for correcting variations in a CD due to fogging effect, that appears in electron beam exposure and/or loading effect that appears in a dry etching process for exposure, and to provide a record medium where the method is recorded.例文帳に追加

電子ビーム露光時に現れるフォギング効果及び／または乾式エッチング工程時に現れるローディング効果によるＣＤの変化を補正して露光する方法及びこれを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a drying processing device 11 that can comparatively efficiently dry and process a material to be dried such as food waste which is plasma-reduction processed in a comparatively short time at a comparatively large amount.例文帳に追加

プラズマ還元処理済みの食品廃棄物などの乾燥対象物質を比較的短時間のうちに比較的大量にかつ比較的効率良く乾燥処理することができる乾燥処理装置１１を提供する。 - 特許庁

To analyze the inner part of a blast furnace in an ISP (Imperial Smelting Process) as dry-type zinc smelting, which can reproduce an actual operation and can follow a change in a state in the furnace according to the change in operational conditions.例文帳に追加

実操業を再現することが可能な、操業条件の変化に伴う炉内状況の変化に追従できる、軟式亜鉛製錬のＩＳＰ法により溶鉱炉の内部を解析することを可能にする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition solution which has good storage stability of the resin, requires a short time of a reduced-pressure drying step, makes a slit nozzle less liable to dry, gives a good film surface, and is suitable for a slit die coater process.例文帳に追加

樹脂の保存安定性が良好で減圧乾燥工程時間が短く、スリットノズルが乾きにくく且つ塗膜表面が良好な、スリットダイコーター法に好適な感光性樹脂組成物溶液を提供すること。 - 特許庁

The method for processing the marine food is to remove internal organs of a raw marine material, process by opening and washing the same with saline, dry the same under a reduced pressure, subsequently treat the same by heat under pressure in a non-sealed packed state, ripen the same in a chilled state and freeze the same.例文帳に追加

水産原料を内臓除去、開き加工、塩水洗浄を行なった後、減圧乾燥し、その後、非密閉包袈状態で加圧加熱処理し、チルド状態で熟成させ、その後、凍結処理する。 - 特許庁

During the process wherein the wiring 13 and the fluorine-containing second interlayer insulating film 14 are exposed, they are placed in a dry gas that replaces the atmosphere, and this restrains the corrosion of the wiring 13.例文帳に追加

このように、配線１３とフッ素を含有する第２の層間絶縁膜１４とが露出している状態であっても、乾燥ガスで置換した雰囲気中で保管することにより、配線の腐食を抑制できる。 - 特許庁

To provide a resist undercoat forming composition excellent in etching resistance and forming an undercoat pattern which hardly bends in a dry etching process and faithfully transfers a resist pattern to a workpiece substrate with good reproducibility.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて、下層膜パターンが折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To pattern a laminated film with small size shift, without reducing photoresist size, in a process where an upper electrode film and a ferroeelctric film are subjected to in batch dry etching by using the same photoresist mask and a pattern is formed.例文帳に追加

上部電極膜と強誘電体膜を同一のフォトレジストマスクを用い一括でドライエッチングを行いパターンを形成する工程において、フォトレジストサイズの縮小がなく、サイズシフトの小さい積層膜のパターニングを行う。 - 特許庁

To provide a light emitting element and a method of manufacturing the same which can prevent a residue of a protective metal layer in a dry etching process from being deposited on a compound semiconductor layer and degrading electrical characteristics.例文帳に追加

ドライエッチング工程で生じる保護金属層の残留物が化合物半導体層に付着され、電気的特性が低下することを解決することができる発光素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing fermentation products including bioethanol by non-pressurized pretreatment, enzymatic hydrolysis and fermentation of waste fractions containing monosaccharides and/or polysaccharides and having relatively high dry matter content.例文帳に追加

比較的高い乾物含量を有する、単糖類および／または多糖類を含有する廃棄物画分の非加圧−前処理、酵素加水分解および発酵による、バイオエタノールを含む発酵産物の製造方法の提供。 - 特許庁

The process for relaxing the wet heat shrinkage reduces residual stress loaded to dry heat treated filament yarn by heat treating the filament yarn by feeding it to zigzag on the conveyor.例文帳に追加

湿熱収縮率を緩和する工程は、フィラメント糸をコンベヤ上に蛇行するように繰り出して加熱処理を施すことにより、乾熱処理されたフィラメント糸に対して加えられた残留応力を緩和している。 - 特許庁