「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dry etching method for precisely treating an area to be etched of a workpiece with the use of a reactive ion etching process using a carbon monoxide gas including a nitrogen-containing compound gas, as a reactant gas.例文帳に追加

含窒素化合物ガスが添加された一酸化炭素ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを用いて被加工体のエッチング対象領域を精密に加工することができるドライエッチング方法等を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of the semiconductor device, in which a semiconductor substrate 100 is etched by using a photoresist 102 including sulfur, in the manufacturing method of the semiconductor device including a dry etching process using a chlorine gase.例文帳に追加

塩素系ガスを用いるドライエッチング工程を含む半導体素子の作製方法において、硫黄を含むフォトレジスト102を用いて半導体基体100をエッチングすることを特徴とする半導体素子の作製方法。 - 特許庁

To suppress metallic contamination in a processing chamber and a breakage of a quartz member, while suppressing decrease in film formation rate in a thin film formation process immediately after dry cleaning of the inside of the processing chamber, and to enhance the operation rate of the apparatus.例文帳に追加

処理室内のドライクリーニング直後の薄膜形成工程における成膜速度の低下を抑制しつつ、処理室内の金属汚染や石英部材の破損を抑制すると共に、装置稼働率を向上させる。 - 特許庁

A substrate coated with a negative type photoresist is rotated and is continuously subjected to surface exposure, heat treatment, development by a dry process, etching and resist removal, thereby, signal projections are formed on the substrate surface and the substrate is worked to have a stamper size.例文帳に追加

ネガタイプフォトレジストを塗布した基板を回転させ、表面露光、加熱処理、ドライプロセスによる現像及びエッチング及びレジスト除去を連続して行い、基板表面に信号突起を形成し、スタンパーサイズに加工する。 - 特許庁

To provide a carbonization furnace for a woody material that is a simple apparatus and has high economical efficiency even if being a small-scale furnace, in which a dry distillation gas generated during a carbonization process is burned as is in the furnace and can be utilized as a thermal source of the carbonization.例文帳に追加

炭化過程で発生する乾留ガスをそのまま炉内で燃焼させて、炭化の熱源として利用することができ、設備が簡単で小型炉でも経済性の高い木質材の炭化炉を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium by which only a necessary part can be highly accurately machined in a dry etching process when forming a rugged pattern of an interlayer.例文帳に追加

本発明の目的は、中間層の凹凸パターン形成時のドライエッチングプロセスにおいて、必要部位のみを高精度に加工することができる、パターンドメディア型の磁気記録媒体の製造方法を提供することである。 - 特許庁

When the coating process, dry process and degrease process are repeated several times to form a ferroelectric precursor film and the ferroelectric precursor films of multiple layers are baked at once in a baking process to form a ferroelectric film, a warm-up rate for degreasing a ferroelectric precursor film at the lowest layer among ferroelectric precursor films of multiple layers is set higher than that for the other ferroelectric precursor films.例文帳に追加

塗布工程、乾燥工程及び脱脂工程を複数回繰り返して複数層の強誘電体前駆体膜を形成すると共に焼成工程で複数層の強誘電体前駆体膜を一度に焼成して強誘電体膜とする場合に、複数層の強誘電体前駆体膜のうち、最下層の強誘電体前駆体膜を脱脂する際の昇温レートを、他の強誘電体前駆体膜の昇温レートよりも高くする。 - 特許庁

In the method for drying a wood depending upon both internal heating drying process to dry the wood by induction heating through application of high-frequency and external heating drying process to dry the wood by external heating under high temperature environments, the high-frequency set at a constant output level is intermittently applied to the wood under the specified high temperature environments while the application time is gradually decreased following the diminishing moisture content of the wood.例文帳に追加

高周波を印加して木材を誘電加熱することにより乾燥する内部加熱乾燥と、木材を高温環境に置いて外部から加熱することにより乾燥する外部加熱乾燥とを併用する木材の乾燥方法において、所定の高温環境に置かれた木材に対し、一定の出力レベルに設定された高周波を、木材の含水率の減少に伴って印加時間を漸減させつつ間欠的に印加する。 - 特許庁

The method for desulfurizing the hydrogen sulfide-containing gas has a primary desulfurization process 1 for bringing raw gas containing hydrogen sulfide into contact with activated sludge and biological treatment water or industrial water to roughly remove hydrogen sulfide in the raw gas, and a secondary desulfurization process 4 for bringing the treated gas in the primary desulfurization process into contact with alkali in a wet or dry state to remove hydrogen sulfide remaining in the raw gas.例文帳に追加

硫化水素を含む原ガスを活性汚泥、生物処理水又は工水と接触させて、原ガス中の硫化水素を粗取りする一次脱硫工程１と、この一次脱硫工程１の処理ガスを湿式又は乾式でアルカリと接触させてガス中に残留する硫化水素を除去する二次脱硫工程４とを有する硫化水素含有ガスの脱硫方法。 - 特許庁

Further, the electrode is manufactured by an electrode ink preparation process preparing electrode ink by adding at least active material particles and the surfactant into a solvent, a film coating formation process forming a film coating by jetting the electrode ink on a surface of the collector using an ink-jet system, and a drying process to dry the collector with the film coating formed.例文帳に追加

また、溶媒に、少なくとも活物質粒子および界面活性剤を添加して、電極インクを調製する電極インク調製工程と、前記電極インクを、インクジェット方式を用いて集電体の表面に噴出させることにより、塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜が形成された前記集電体を乾燥させる乾燥工程と、によって、電極を製造する。 - 特許庁

The present invention provides a manufacturing method comprising: a film formation process which forms vapor phase synthesized diamond film 2 on a main surface of a silicon substrate 1 by a vapor phase deposition method; a routing process which forms a pattern on the vapor phase synthesized diamond film 2 using a laser; and a protrusion process which forms a protrusion on the routed vapor phase synthesized diamond film 2 by a reactive chemical dry etching.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板１主面部に気相合成法によって気相合成ダイヤモンド膜２を成膜する成膜工程と、該気相合成ダイヤモンド膜２をレーザーによって外形を切り出す外形工程と、切り出した気相合成ダイヤモンド膜２に反応性化学ドライエッチングによって突起を形成する突起工程を経ることを特徴とするダイヤモンドプローブの製造方法である。 - 特許庁

The production method of the ethanol from the lignocellulosic biomass includes: a process for obtaining cellulose fractions from the lignocellulosic biomass; a process for producing a saccharification biomass by mixing 100 g-dry mass/L or more of the solid content of the cellulose fractions with a cellulose hydrolysis enzyme preparation, and treating the mixture with enzyme for 0.5-10 hours; and a process for mixing the yeast with the saccharification biomass and culturing the mixture.例文帳に追加

リグノセルロース系バイオマスからセルロース画分を得る工程、１００ｇ−乾燥質量／Ｌ以上の固形分含量の該セルロース画分をセルロース加水分解酵素製剤と混合し、０．５〜１０時間酵素処理して糖化バイオマスを生成する工程、および酵母を該糖化バイオマスと混合し、培養する工程を含む、リグノセルロース系バイオマスからのエタノールの生産方法。 - 特許庁

The method for producing a pleat product includes an immersion process 3 for immersing a cloth containing a cellulose-based fiber in a processing liquid containing a glyoxal-based resin, a reaction catalyst for promoting the reaction of the glyoxal-based resin and a silk protein; a drying process 4 for dehydrating or evaporating the processing liquid from the cloth; and a pleat processing process 5 for pleating the cloth in a dry hot state.例文帳に追加

セルロース系繊維を含む生地を、グリオキザール系樹脂、当該グリオキザール系樹脂の反応を促進させる反応触媒および絹タンパク質を含む加工液に浸漬する浸漬工程３と、生地から加工液を脱水、または蒸発させる乾燥工程４と、生地に乾熱状態でプリーツ加工するプリーツ加工工程５と、を含むプリーツ製品の製造方法である。 - 特許庁

To provide a radiation-curable dry film for forming an optical waveguide, an optical waveguide manufactured using the dry film and a method for manufacturing the optical waveguide and to particularly provide an optical waveguide excellent in transmission properties and a method for manufacturing the optical waveguide capable of precisely forming the objective guide shape and having a simple manufacturing process.例文帳に追加

光導波路形成用放射線硬化性ドライフィルム、およびそれを用いて作製された光導波路ならびに光導波路の製造方法、より詳細には、目的とする導波路形状を精度よく作製でき、かつ製造プロセスが簡易で伝送特性に優れる光導波路ならびに光導波路の製造方法を得る。 - 特許庁

The method for producing a porous body containing a dry gel has a dry gel production process comprising a step for preparing a first gel 2 having a first solid skeleton and first micropores and a reconstruction step for decomposing at least a part of the first solid skeleton and forming a second skeleton thicker than the first solid skeleton.例文帳に追加

乾燥ゲルを含む多孔体の製造方法であって、乾燥ゲルを製造する工程が、第１固体骨格と第１細孔とを有する第１ゲル２を用意する工程と、第１固体骨格の少なくとも一部を分解するとともに第１固体骨格よりも太い第２固体骨格を形成する再構築工程とを包含する。 - 特許庁

To provide an electrolytic method for lead, which can collect a high purity of lead even when collecting lead that is contained in a dry dust produced in a nonferrous smelting process, in a melting furnace of a raw material for recycling such as a substrate and electronic parts and in a dry bottom furnace for melting industrial waste therein, by electrolyzing lead by using an anode of a high Bi grade.例文帳に追加

非鉄製錬、基板や電子部品などリサイクル原料の溶融炉、および産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より発生する乾式煙灰中に含まれている鉛の電解による回収方法において、高Bi品位のアノードを用いて電解する場合でも高純度の鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供する。 - 特許庁

The mask blank having a thin film 12, 13 to form a pattern on a substrate 11 is to be subjected to a dry etching process applicable to the method of producing an exposure mask, the method including patterning the thin film by dry etching using an etching gas substantially containing no oxygen through a resist pattern 14a to be formed on the thin film as a mask.例文帳に追加

基板１１上にパターンを形成するための薄膜１２，１３を有するマスクブランクにおいて、前記薄膜上に形成されるレジストパターン１４ａをマスクにして、酸素を実質的に含まないエッチングガスを用いたドライエッチング処理により、前記薄膜をパターニングする露光用マスクの作製方法に対応するドライエッチング処理用のマスクブランクである。 - 特許庁

To provide a laminating method which can prevent mutual adhesion of adjacent copper-clad laminates with a dry film, and which also can prevent a resist layer not covered by a cover film and exposed in the periphery of the dry film from being separated from the copper-clad laminate and becoming a foreign matter followed by an exposure process eventually causing a defective product.例文帳に追加

隣り合っているドライフィルム付き銅張り積層板同士が、接着することがなく、カバーフィルムに覆われなくなってドライフィルムの周辺部に露出したレジスト層が、銅張り積層板から剥がれて、後工程である露光工程において異物となって製品不良を発生させることを防止できるラミネート方法を提供する。 - 特許庁

In a method for producing a semiconductor integrated circuit device, when a plurality of semiconductor integrated circuit devices, in which a circuit pattern having a linear pattern is provided and at least a part of production process is common, is produced, dry etching is performed to a film for processing with controlling dry etching conditions depending on circumferential length per unit area of the linear pattern in each of the semiconductor integrated circuit devices.例文帳に追加

ライン状パターンを有する回路パターンを備えており、製造工程の少なくとも一部が共通する複数の半導体集積回路装置を製造する際に、各半導体集積回路装置におけるライン状パターンの単位面積当たりの周縁長に応じてドライエッチング条件を調整しながら被加工膜に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁

Leak gas lines 19a, 19b, 19 of a combustible process gas leaked from primary seals 11a, 11b of a dry gas seal are connected with an ejector 20 so that the leaked combustible process gas is taken into and blended with a high pressure gas from a high pressure gas source injected by the ejector 20 so as to be recovered into a low pressure gas source.例文帳に追加

ドライガスシールの一次シール１１ａ，１１ｂからリークした可燃性プロセスガスのリークガスライン１９ａ，１９ｂ，１９をエジェクター２０に接続し、該エジェクター２０で噴射される高圧ガス源からの高圧ガス中に前記リークした可燃性プロセスガスを吸引・混入させて低圧ガス源へ回収する。 - 特許庁

The method for manufacturing the package includes: a residue removal process S32G of scraping away the dry glass frit residues 6b remaining on the top surface U of a wafer 40 for base substrates; and a burning process S32H of burning and hardening glass frit 6a filled in a through hole after removing the glass frit residues 6a.例文帳に追加

ベース基板用ウエハ４０の上面Ｕ上に乾燥して残渣しているガラスフリット残渣６ｂを削り取る残渣除去工程Ｓ３２Ｇと、ガラスフリット残渣６ｂを除去した後、貫通孔内に充填されたガラスフリット６ａを焼成して硬化させる焼成工程Ｓ３２Ｈと、を有する、ことを特徴とする。 - 特許庁

The method for modifying the surface of the polymer material includes a process of heat-treating the surface of the polymer material 2, and a process of modifying the heat-treated surface of the polymer material 2 to increase a wet tension value by using a dry surface modification method.例文帳に追加

高分子材料２の表面を加熱処理する工程と、加熱処理された高分子材料２の表面に対して、乾式法である表面改質法を用いてぬれ張力値が大きくなる表面改質を行う工程とを含むことを特徴とする高分子材料表面改質方法。 - 特許庁

The production process for the insulating base plate material includes steps to give a resinous composition by micro-dispersion of 0.1-100 pts.wt. of a lamellar silicate in 100 pts.wt. of a thermoplastic resin and/or a curing resin, followed by molding the resinous composition by a dry process.例文帳に追加

熱可塑性樹脂及び／又は硬化性樹脂１００重量部に対し層状珪酸塩０．１〜１００重量部を微分散させて樹脂組成物を得る工程と、前記樹脂組成物をドライプロセスにて成形する工程とを、この順で包含することを特徴とする絶縁基板材料の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the fine composite particle in which the trace constituent is dispersed uniformly comprises a process of adding a solution of the trace constituent to a slurry or a liquid containing one or more kinds of inorganic metallic compounds, and a process of contacting a pulse combustion gas to the obtained mixed liquid or mixed slurry to dry.例文帳に追加

１種類以上の無機金属化合物を含む液体またはスラリーに、微量成分の溶液を添加する工程、得られた混合液体または混合スラリーに、パルス燃焼ガスを接触させて乾燥させる工程からなる微量成分が均一に分散した複合微粒子の製造方法である。 - 特許庁

Thereafter, after the photoresist residue 14 adhered to the bottom of the opening 12 of the photoresist pattern1 1a is removed by a light ashing process, a through hole is bored through the insulating film 7b by a dry etching process using an etching gas, etc. containing C_5F_8, O_2 and Ar gas with the photoresist pattern 11a used as an etching mask.例文帳に追加

その後、フォトレジストパターン１１ａの開口部１２の底に付着したフォトレジスト残渣１４を軽いアッシング処理により除去した後、フォトレジストパターン１１ａをエッチングマスクとして、Ｃ_５Ｆ_８、Ｏ_２およびＡｒガスを有するエッチングガス等を用いたドライエッチング処理により絶縁膜７ｂにスルーホールを穿孔する。 - 特許庁

It is found out that the atmosphere, to which the surface of a part carried in and carried out of the process chamber P of a mobile shaft 30 is exposed is shielded by a cover member 60 to form dry air with the moisture removed, so as to form an inert gaseous atmosphere, for example, and equivalently inhibiting the quantity of the gas emitted inside the process chamber P effectively.例文帳に追加

移動軸３０のプロセス室Ｐに出入りする部分の表面が曝される雰囲気を、カバー部材６０で遮蔽して水分が除去された乾燥空気とすることで、例えば不活性ガス雰囲気とすることと同等に、プロセス室Ｐ内部へ放出されるガスの量を効果的に抑制できることがわかった。 - 特許庁

To provide a process for obtaining a precursor fiber for a carbon fiber having high quality and high grade, and excellent stability of passing even in a production process of the carbon fiber, and reducing production energy therefor while enhancing productivity and processability when the PAN (polyacrylonitrile)-based precursor fiber for the carbon fiber is dry-jet wet spun.例文帳に追加

ＰＡＮ系の炭素繊維前駆体繊維を乾湿式紡糸するに際し、生産性およびプロセス性を高めつつ、その製造エネルギーを減じ、高品質で高品位な、かつ、炭素繊維の製造工程においても通過安定性に優れた炭素繊維前駆体繊維を得るための方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a defective shape of a via hole which can occur in the case of using an alumina mask for dry etching of an interlayer insulation film consisting of an SiOC film in a dual damascene process for forming the via hole in advance of forming a wiring groove.例文帳に追加

配線溝の形成に先立ってビアホールを形成するデュアルダマシン工程において、ＳｉＯＣ膜からなる層間絶縁膜のドライエッチングにアルミナマスクを使用する場合に生じ得るビアホールの形状不良を防止する。 - 特許庁

To provide a washing device, for fully removing deposits in a device to be washed with a simple washing process, capable of coping with a large area, and to provide a washing method using the washing device and a production method of dry ice used for washing.例文帳に追加

装置内の堆積物を十分に除去しつつ、洗浄工程が簡便で、大面積にも対応できる洗浄装置、この洗浄装置を用いた洗浄方法、及び洗浄に用いるドライアイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process of the drug for improving autism, the chinese parsley (scientific name: Coriandrum sativu) with a water content of 30% or less is heated in a dry state or a condition wherein the increase of the water volume is substantially suppressed.例文帳に追加

自閉症改善薬の製法は、水分量が３０％以下の中国パセリ（学名Ｃｏｒｉａｎｄｒｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ）を、乾燥状態もしくは水分量が実質的に上昇するのを抑えた状態で加熱する。 - 特許庁

Control means 45 starts supplying power to a motor of compressor 41 before a dry process begins so that warming-up of the heat pump device is performed efficiently and drying time can be shortened while saving energy consumed.例文帳に追加

制御手段４５は、乾燥工程に入る前の工程において圧縮機４１のモータへの通電を開始させ、ヒートポンプ装置の予熱運転を効率よく行い、消費エネルギーを節約しながら乾燥時間を短縮できるものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a patternized color conversion layer, capable of coping with a large-sizing and high precision by patternizing, without giving damages to the color conversion layer formed by a dry process of vapor deposition method, or the like.例文帳に追加

蒸着法などのドライプロセスによって形成される色変換層にダメージを与えることなしにパターン化して、大型化および高精細化に対応することができる、パターン化された色変換層の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a GaAs single crystal substrate, by which the generation of a columnar residual material in a via hole can be suppressed in a process for forming the via hole in a semiconductor substrate by dry etching; and to provide the GaAs single crystal substrate.例文帳に追加

ドライエッチングによる半導体基板へのビアホール形成プロセスにおいて、柱状の残留物をビアホール中に発生させないＧａＡｓ単結晶基板の製造方法及びＧａＡｓ単結晶基板を提供する。 - 特許庁

In a heat removing process, dry air is blown from the cooling hole 21 of a cooling pipe 20 toward the back portion of a substrate 2 corresponding to the mounting position of the terminal 2a secured temporarily to an X driver IC7.例文帳に追加

この加熱圧着中にＸドライバＩＣ７が仮固定された端子部２ａの実装箇所に対応する基板２の背面部位に冷却パイプ２０の冷却孔２１からドライエアを吹き付けて冷却する除熱工程を備えた。 - 特許庁

The inkjet recording medium includes a substrate, and a porous layer containing dry-process silica or alumina hydrate and a silica layer containing spherical colloidal silica particles having 105-200 nm particle size, which layers are formed in this order on the substrate.例文帳に追加

基材と、基材上に順に、乾式シリカまたはアルミナ水和物を含有する多孔質層と、粒子径が１０５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ粒子を含有するシリカ層と、を有するインクジェット記録媒体。 - 特許庁

To provide a polymerization process in which the polymerization occurs without fouling or deposit formation on the wall of a reactor and a product is obtained as dry powder having improved morphology (organized structures, i.e. the percentage of particles of regular shape).例文帳に追加

反応器壁が劣化せず又は付着物を形成させずに重合が生じ、生成物を改善された形態(組織化構造、即ち、規則的な形状の粒子の割合)を有する乾燥粉末として得る重合プロセス。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with an MOS transistor which can increase a gate width of the MOS transistor and can restrain excess etching of a gate insulating film in dry etching process for pattern formation of a gate wiring.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタを備える半導体装置であって、ＭＯＳトランジスタのゲート幅を増加でき、且つ、ゲート配線をパターニング形成するドライエッチング工程に際して、ゲート絶縁膜の過剰なエッチングを抑制可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

A process and related circuits control processes by inactivating the atmosphere in the dry cleaning machine and measuring oxygen in gases by using one or more lambda probes 21 and 22.例文帳に追加

本発明の要旨とするところは、ドライクリーニング機械内の雰囲気を不活性とすると共に、１つ或いは複数のラムダプローブ２１，２２を使用して気体中の酸素を測定することによりプロセスを制御するプロセス及び関連の回路にある。 - 特許庁

In the method of manufacturing the wiring substrate K, acrylic dry-film members 22, 23 are applied on nonelectrolytic copper-plating layers 20, 21 after a nonelectrolytic copper-plating process.例文帳に追加

本発明の配線基板Ｋの製造方法では、無電解銅めっき工程の後、無電解銅めっき層２０，２１上にアクリル系ドライフィルム材２２，２３を貼着した後、露光及び現像を行って、所定パターンのめっきレジスト２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２３ｂを形成する。 - 特許庁

To achieve the easy vitrification of fission products by removing them in a spent electrolyte generated in a dry retreatment process by simple operations including those not only generating sludge but also generating no sludge.例文帳に追加

乾式再処理プロセスで発生する使用済み電解質中の核分裂生成物を、沈殿物を生成するもののみならず、沈殿物を生成しないものも含めて、簡単な操作で取り除き、容易にガラス固化できるようにする。 - 特許庁

Thereby, the working process after molding of the FRP member 2 which indispensably requires dry working heretofore can get along with only hole opening working of forming the bored hole 31 into the FRP member 2 and, as the result, the working time is reduced to improve the productivity.例文帳に追加

これにより、ドライ加工が必須とされるＦＲＰ部材２の成形後の加工工程を、ＦＲＰ部材２に座繰り穴３１を形成する穴開け加工のみとし、加工時間の短縮を図り、生産性を向上させる。 - 特許庁

To overcome troubles such as faulty transfer caused when manufacturing a color filter in the conventional manner by forming a predetermined pattern on a dry film without passing through a photolithographic process to be performed separately and then printing it on a color filter base plate.例文帳に追加

別途のフォトリソグラフィ工程を経ないでドライフィルムに所定のパターンを形成した後これをカラーフィルター基板上に印刷することによって、従来のカラーフィルター製造時に発生する転写不良などの問題を克服する。 - 特許庁

The dry food is produced by adding and drying lactoferrin or apolactoferrin obtained by separating and purifying from whey or the like in a process for producing an infant food, so-called baby food, a food for patients, or their related foods, or the like.例文帳に追加

乳清等から分離精製して得られるラクトフェリンまたはアポラクトフェリンを、いわゆるベビーフードと称する乳幼児用食品、または病者用食品やそれらの関連食品等の製造過程で添加し、乾燥する。 - 特許庁

The process for manufacturing the composition includes (i) a step of mixing a particulate solid phase, a nonvolatile liquid phase, a block copolymer, and water to obtain a slurry and (ii) a step of suctioning the water present in the slurry to obtain a dry powder.例文帳に追加

また、（ｉ）粒子状固相、不揮発性液相、ブロックコポリマー及び水を混合してスラリーを得るステップと、（ｉｉ）スラリー中に存在する水を吸引して乾燥粉末を得るステップと、を含む、かかる組成物を製造する方法。 - 特許庁

The para-type wholly aromatic polyamide is copoly-p-phenylene 3,4'-oxydiphenylene terephthalamide, and the final fiber is produced by spinning the polyamide by dry-wet spinning, removing the solvents by washing with water and drying the product without drawing after the drying process.例文帳に追加

パラ型全芳香族ポリアミドが、コポリパラフェニレン・３，４’−オキシジフェニレンテレフタルアミドであリ、乾湿式紡糸をした後、水洗工程で溶媒を除去した後に乾燥し、その後の工程において延伸することなく最終的な繊維とする。 - 特許庁