「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

In this process, by specifying the mass proportion M(%) of the hydrophilic polymer to the hydrophobic polymer and the water content N(%) of the final membrane on a dry basis so as to meet a specific relationship( fall within a specific range ), the porous membrane with good properties can be obtained efficiently without causing any breakage.例文帳に追加

この際、疎水性ポリマーに対する親水性ポリマーの質量割合Ｍ（％）と、乾量基準含水率をＮ（％）との関係を特定の範囲とすることにより、良好な性質の多孔質膜を破損させること無く、かつ効率的に得ることができる。 - 特許庁

To well dry a substrate surface while preventing a watermark from occurring on the substrate surface in an apparatus and a method of processing the substrate for drying the substrate surface wetted with a process liquid by means of a solvent with low surface tension such as IPA.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生するのを防止しながら基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

At the time of removing a part of the silicon film 8 contacted with one of both side surface of the gate electrode 3, the parts of the film 8 other than the part to be removed are covered with a resist mask 11 and then subjected to a chemical dry etching process.例文帳に追加

多結晶シリコン膜８のうち、ゲート電極３の両側面のうちの一方の側面に接触する部分を除去する際、多結晶シリコン膜８の除去すべき部分以外の部分をレジストマスク１１で覆い、ケミカルドライエッチングによるエッチングを行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the zinc oxide cylinder target comprises: forming a zinc oxide target layer by thermally spraying a zinc oxide powder onto an outer peripheral surface of a backing tube; and performing dry cutting of the zinc oxide target layer so as to process the thermally sprayed zinc oxide cylinder target without staining its structure.例文帳に追加

バッキングチューブの外周面に酸化亜鉛系粉末を溶射して酸化亜鉛系ターゲット層を形成し、該酸化亜鉛系ターゲット層を乾式で切削加工することで、溶射した酸化亜鉛系円筒ターゲットの組織を汚染することなく加工することができる。 - 特許庁

A jointless noncombustible heat-insulating layer is manufactured by a wet process wherein quick-drying cement and an admixture are adequately mixed in a dry manner, kneaded together with added water at a building site and directly applied to a sheathing roof board by using obsidian perlite, which is the noncombustible material excellent in heat insulation, as a principal member.例文帳に追加

断熱に優れた不燃材である、黒曜石パーライトを、主材に用いて、早乾セメント、混和剤を充分空練りし、水を加えて、現地で練り合わせて、野地板に直接塗り付ける湿式方式で、継目のない、不燃断層を製作した。 - 特許庁

To provide a fiber-washing apparatus which can efficiently remove a solvent from a travelling coagulated fiber bundle, in a washing process for washing the coagulated fibers formed by a wet spinning method or a dry-wet spinning method, and to provide a fiber-washing method.例文帳に追加

湿式紡糸法あるいは乾湿式紡糸法により形成された凝固糸を洗浄する洗浄工程において、走行する凝固糸の繊維束から効率的に溶媒を除去することのできる洗浄設備および洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the drying state of a hollow fiber bundle in a process of producing a hollow fiber membrane, capable of simply and minutely evaluating the drying state of the hollow fiber bundle spun by a wet or wet and dry film formation method.例文帳に追加

湿式製膜法または乾湿式製膜法によって紡糸された中空糸束の乾燥状態を簡便かつ詳細に評価することを可能とする、中空糸膜製造過程における中空糸束乾燥状態の評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which adverse effects due to damage occurring during polishing or dry etching in a manufacturing process are eliminated, and a problem of difficulty in patterning by wet etching is solved, consequently reliability is improved.例文帳に追加

製造工程における研磨またはドライエッチングの際に発生したダメージによる悪影響を解消すると共に、ウェットエッチングによるパターニングが難しいという問題を解決することができ、信頼性を向上させることができる半導体素子を提供する。 - 特許庁

The process for production of an oxide fine particle powder includes a heating step in which a dry powder of a metal complex gel is heat treated to obtain an oxide fine particle powder, wherein at least part of the heating step is carried out in a water vapor-containing atmosphere.例文帳に追加

本発明は、金属錯体ゲルの乾燥粉を熱処理して酸化物微粒子粉末を得る加熱工程を有する酸化物微粒子粉末の製造方法であって、加熱工程の少なくとも一部を、水蒸気を含む雰囲気下で行う製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fine semiconductor integrated circuit having a thin film resistor in which a wiring pattern is formed by dry etching without an additional formation process for a protective film and without needing particular conditions for etching conditions for forming a contact hole.例文帳に追加

保護膜の形成工程を追加したり、コンタクト孔を形成するためのエッチング条件を特別な条件にすることなく、ドライエッチングにより配線パターンを形成しながら、薄膜抵抗体を有する微細な半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the surfactant in the ink being injected in the following process can be prevented from being adsorbed by the foam 6, increase in the surface tension of ink due to deficiency of surfactant and thereby deterioration of quick dry properties of ink can be prevented.例文帳に追加

よって、次の工程で注入されるインク中の界面活性剤がフォーム６に吸着されてしまうことを防止あるいは抑制でき、界面活性剤不足に起因するインク表面張力の増加、このためのインク速乾性の劣化を防止できる。 - 特許庁

To provide a method of easily producing a sliding member which can be applied to many metallic materials and alloy materials, utilizes a dry process capable of producing members having free structure, and can stably maintain a low friction coefficient over a long period.例文帳に追加

多くの金属材料、合金材料に適用することが可能であり、自由な構造を有する部材の製造が可能な乾式の方法を利用した、低摩擦係数を長期間にわたって安定的に維持できる摺動部材の容易な製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing process of porous hollow fiber membrane by a dry-wet spinning a membrane forming resin solution, the free running zone from the injection port of a nozzle to the surface of a coagulation bath is controlled so that product of the absolute humidity in the atmosphere of the zone and the running time is ≥0.04 kg/m^3s.例文帳に追加

膜形成性樹脂溶液を乾湿式紡糸法して多孔中空糸膜を製造するに際し、ノズル吐出口から凝固浴表面までの空走部雰囲気中の絶対湿度と空走時間との積が、０．０４ｋｇ／ｍ^３・ｓ以上であるようにする。 - 特許庁

The first and the second reduced pressure units 152, 153 are arranged mutually vertically, and the conveying part 140 conveys a substrate W conveyed into the reduced pressure drying device 14 to the first reduced pressure unit 152 and the second reduced pressure unit 153 to perform a reduced pressure dry process.例文帳に追加

第１および第２減圧ユニット１５２，１５３を互いに上下方向に配列し、減圧乾燥装置１４に搬送された基板Ｗを搬送部１４０が第１減圧ユニット１５２および第２減圧ユニット１５３に搬送して減圧乾燥処理を行う。 - 特許庁

To provide a damage recovery method of an insulating film, in which a recovery treatment is executed by a dry process without leaving a recovery agent on a wiring material such as a copper wiring layer when the insulating film damaged by a plasma treatment is subjected to the recovery treatment, and which excels in mass productivity.例文帳に追加

プラズマ処理によってダメージを受けた絶縁膜を回復処理する際に、銅配線層などの配線材料上に回復剤が残留することがなく、かつドライプロセスによって処理が行われ、量産性に優れる絶縁膜のダメージ回復方法を得る - 特許庁

In a rolling device, such as a rolling bearing made of martensitic stainless steel, a part where a finishing is not performed, for example, an outside diameter round face of an outer race 2 is dry-honed, an oxide film rusted by a heat treatment is removed, and thereby a following process such as acid pickling is simplified.例文帳に追加

マルテンサイト系ステンレス鋼製の転がり軸受のような転動装置にあって、例えば外輪外径Ｒ面のように仕上加工しない部分に対してドライホーニングを施し、熱処理で発錆した酸化皮膜を除去し、酸洗いなどの後行程を簡素化する。 - 特許庁

To provide electrophotographic dry process toners for obtaining multiple sheets of bright copies without giving rise to so-called filming of fastening of the toners to the surface of a photoreceptor, without flawing the photoreceptor and without the occur of splashing in a developing machine.例文帳に追加

感光体の表面にトナーが固着するいわゆるフィルミング現象を発生させることなく、かつ感光体を傷つけることなく、又、現像機内で飛散を生じないで、多数枚のコピーを鮮明になし得るための電子写真用乾式トナーを提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a dry toner, a toner composition is dispersed in an aqueous medium by using fine solid dispersing agents, and after dispersion in the aqueous medium in which a water-soluble organic solvent is contained, the dispersed toner composition is converted to particles through a volume contracting process.例文帳に追加

固体の微粒子分散剤を用いてトナー組成物を水系媒体中で分散し、水と溶解可能な有機溶媒の含まれる水系媒体中で分散後、体積収縮工程を経て粒子化することを特徴とする乾式トナーの製造方法。 - 特許庁

Then, after a p-type InP block layer 7 and an n-type InP block layer 8 are formed on both the sides of a ridge 6, the n-type InP block layer 8 formed on the (111) B surface of the p-type InP block layer 7 is removed by a second dry etching process.例文帳に追加

次に、リッジ部６の両側に、ｐ型ＩｎＰブロック層７およびｎ型ＩｎＰブロック層８を形成した後、ｐ型ＩｎＰブロック層７の（１１１）Ｂ面の上に形成されたｎ型ＩｎＰブロック層８を第２のドライエッチングによって除去する。 - 特許庁

A method for producing the tablets which lose no tablet hardness and retain decay properties has a production process of making tablets, using royal jelly dry powder having a characteristic in which a ratio of including a particle diameter of a fixed range is constant or above when compressing and making tablets.例文帳に追加

圧縮打錠時に一定範囲の粒子径を含む割合が一定以上である特徴をもつローヤルゼリー乾燥粉末を用いて打錠する製造過程、及び錠剤硬度を失わず、かつ崩壊性を保った特徴を持つ錠剤および製造方法。 - 特許庁

In the drying process, the honeycomb molded body is expanded by the expansion of the expansible material to dry the honeycomb molded body so that the drying expansion ratio B/A being the ratio of the diameter A of the honeycomb molded body before drying and the diameter B of the honeycomb molded body after drying becomes 1.01-1.12.例文帳に追加

乾燥工程においては、膨張材の膨張によりハニカム成形体を膨張させ、ハニカム成形体の乾燥前の直径Ａと乾燥後の直径Ｂとの比である乾燥膨張比Ｂ／Ａが、１．０１〜１．１２の範囲になるように乾燥させる。 - 特許庁

To provide a dispersion of dry process silica which is useful for a coating composition such as a gas barrier layer-forming composition, a rust preventive composition, and a coating material composition and excels in stability when the coating material composition is produced by using the dispersion.例文帳に追加

本発明はガスバリアー層形成用組成物、防錆剤組成物、塗料組成物等のコーティング組成物に有用な乾式シリカ分散液に関し、該分散液を使用してコーティング組成物を製造したときの安定性に優れた乾式シリカ分散液を提供する。 - 特許庁

To establish a manufacturing method of a semiconductor device using a residue removing liquid by providing the residue removing liquid after the dry process capable of suppression of slight crack-like corrosion which can not have been resolved by a conventional polymer peeling liquid without giving damage to a Cu and low-k film.例文帳に追加

本発明は、Cu及びlow-k膜にダメージを与えずに、従来のポリマー剥離液で解決し得なかったわずかな亀裂状のCu腐食の抑制が可能なドライプロセス後の残渣除去液を提供し、これを用いた半導体デバイスの製造方法を確立する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing metallic foil for printed wiring circuit boards through which three-layered laminates can be continuously produced with a low rolling rate at an ordinary temperature and by which a strip material and dry process deposition layers are surely joined and provide metallic foil for the printed wiring circuit boards.例文帳に追加

常温において低い圧延率で三層積層板の連続生産が可能であり、且つ帯材と乾式成膜層とが確実に接合されるプリント配線基板用金属箔の製造方法及びプリント配線基板用金属箔を提供する。 - 特許庁

To provide ultrafine metal powder slurry by which reduction in labor and treatment time can be realized in a conductive paste forming process, and further, since aggregation of particles of the ultrafine metal powder is prevented, an ultrafine metal powder slurry free from aggregated particles, and having superior dispersibility and dry film density can be provided.例文帳に追加

導電ペースト作製工程における省力化、処理時間の短縮化を図ることができ、また、超微粒子の凝集を防止することで凝集粒子が存在しない、分散性および乾燥膜密度に優れる金属超微粉スラリーの提供。 - 特許庁

The fermented functional tea is obtained by the following process: regulating degreened tea leaves, roughly rolled tea leaves, rolled/twisted tea leaves, medium-rolled tea leaves, finely rolled tea leaves or crude tea leaves so as to have 25-80 wt.% of moisture; fermenting the regulated tea leaves via the action of Eumycetes; and heating the fermented tea leaves to dry.例文帳に追加

青殺後の茶葉、粗揉後の茶葉、揉捻後の茶葉、中揉後の茶葉、精揉後の茶葉または荒茶を２５〜８０重量％の水分を含むように調整し、真菌類の作用により発酵させ、次いで加熱乾燥させることにより得られる発酵機能茶。 - 特許庁

In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.例文帳に追加

ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁

The fine processing method of a glassy carbon base material has a step for providing the glassy carbon base material and performing a heat treatment for 1-10 hours at a temperature not lower than 2,000°C and not higher than 2,500°C in an atmosphere of a halogen gas, and a step for performing a dry etching process after said step.例文帳に追加

本ガラス状カーボン基材の微細加工方法は、ガラス状カーボン基材を用意し、ハロゲンガス雰囲気、２０００℃以上２５００℃以下の温度で１〜１０時間の熱処理を行う工程と、この工程後にドライエッチング加工を行う工程を有する。 - 特許庁

The method for producing yeast richly containing taurine comprises the following process: suspending yeast in a solution containing taurine at a concentration of ≤9% (w/v); and nonproliferatively steering or shaking the solution so as to contain the taurine at a concentration of 12% (w/w) based on a dry fungus body.例文帳に追加

タウリンを９％（ｗ／v）以下の濃度で含有する溶液中に酵母を懸濁し、非増殖的に攪拌又は振とう処理することにより、乾燥菌体当りタウリンを１２％（ｗ／ｗ）以下の濃度で含有するタウリン高含有酵母を製造する方法。 - 特許庁

In this organic EL display panel of a passive matrix system, an insulating layer provided between an area other than a pixel area on a first electrode on a transparent substrate and the first electrode is made of an insulating carbon film formed by the dry process.例文帳に追加

パッシブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、透明基板上の第一電極上の画素領域以外の領域および第一電極間に設けられる絶縁層が、ドライプロセスで製造された絶縁性炭素膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a machining method of a leader tape tip part by which various processing such as medicine application, washing, dry can be omitted and shortening a process time and reducing a cost can be performed, also junction strength is improved and durability is obtained.例文帳に追加

薬品処理のときに行っていた薬品塗布、洗浄、乾燥等の各種工程を省略できて加工時間の短縮化、コスト削減を図ることができ、しかも接合強度が向上し、耐久力が得られるリーダーテープ先端部分の加工方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the film 32 is etched and removed, and thereafter the underlying film 42 is subjected to a dry etching process with use of the Pt film 45 as a mask, thus forming a lower electrode of a capacitive element with use of the Pt film 45 and the conductive underlying film 42 remaining thereunder.例文帳に追加

その後、酸化シリコン膜４３をエッチングで除去した後、Ｐｔ膜４５をマスクにして導電性下地膜４２をドライエッチングすることにより、Ｐｔ膜４５とその下部に残った導電性下地膜４２とで容量素子の下部電極を形成する。 - 特許庁

The manufacturing process of the flame resistant core material for a built-up panel using a polyester floss comprises; a step to apply and dry a foaming flame retardant to the polyester floss, and a step to foam the flame retardant fixed in a fibrous structure of the floss by heating.例文帳に追加

ポリエステル絹綿を用いて組立式パネル用難燃芯材を製造する方法において、ポリエステル絹綿に発泡性難燃剤を処理し乾燥させる工程と、絹綿の繊維構造の間に固着された難燃剤を加熱によって発泡させる工程とを含む。 - 特許庁

To provide an apparatus for separating solid matters utilizing a dry separating process wherein two or more solid matters with different specific gravities are classified by air flow by mixing two or more solid matters in the air flow and giving a cyclone movement to this air flow.例文帳に追加

気流中に２以上の固形状物を混入させ、この気流にサイクロン運動を与えることにより、比重の異なる２以上の固形状物を気流選別するためのドライ分離方法を採用した、固形状物分離装置を提供することにある。 - 特許庁

This regenerated film having ≥50 and ≤90 mass % mixing ratio of the regenerated material and ≥0.1 and ≤2 mass % mixing ratio of foreign materials based on the total film is produced by a method including a dry cleaning process shown in figure 1.例文帳に追加

フィルム全体に対する再生材の混入率が５０質量％以上９０質量％以下で、異物の混入率が０．１質量％以上２質量％以下である再生フィルムを、図１に示すドライ洗浄の工程を含む方法で製造する。 - 特許庁

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

A manganese compound and a lithium compound as raw materials are subjected to a mechanochemical reaction in a dry process to form a reaction precursor, which is then fired to obtain a composite compound comprising a spinel crystal structure represented by the formula: Li_1+xMn_2-xO_4 (0≤x≤0.33).例文帳に追加

マンガン化合物とリチウム化合物とを原料とし、乾式でメカノケミカル反応を行うことにより、反応前駆体を形成し、次いで焼成してＬｉ_１＋ｘＭｎ_２−ｘＯ_４（０≦ｘ≦０．３３）で表されるスピネル型結晶構造を含む複合化合物を得る。 - 特許庁

A process to open contact holes 26, 27 on a passivation film 32 includes: a step to pattern form a photoresist on the interlayer insulating film; and a step to apply dry-etching to the passivation film 32 with the photoresist being used as a mask not through a step for post-baking the photoresist.例文帳に追加

パッシベーション膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程は、層間絶縁膜上にフォトレジストをパターン形成する工程と、フォトレジストをポストベークする工程を経ることなく、フォトレジストをマスクとしてパッシベーション膜３２にドライエッチングを施す工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a coke oven port dust collector capable of more surely capturing dust emitted via the ports of a coke oven in a coal dry distillation process, particularly ensuring properly responding to the timing of emitting much dust via the ports.例文帳に追加

石炭乾留工程でコークス炉の窯口から放出される粉塵をより確実に捕捉し得るコークス炉の窯口集塵装置を提供することを目的とし、特に大量の粉塵が窯口から放出されるタイミングに確実に対応し得るようにする。 - 特許庁

The negative electrode current collector for the dry cell has a surface of wire rod made of iron formed in a prescribed shape by forging process on which a plating treatment is applied, and the plating is made of two layer structure of which the inner layer is made by copper plating and the outer layer is by galvanization.例文帳に追加

鍛造加工により所定形状に形成された鉄製の線材の表面にメッキ処理が施されており、前記メッキが、内層が銅メッキ、外層が亜鉛メッキの二層構造とされていることを特徴とする乾電池用負極集電体である。 - 特許庁

To provide a treating method for sealing pores, in which pores in a compact, such as pores in the surface of a bonded magnet is selectively and easily sealed by a dry process, an excellent sealing effect is exhibited without influence on the surface precision of the compact.例文帳に追加

ボンド磁石表面の空孔部などの成形体空孔部に対して選択的に、かつ簡易で乾式的に行うことができ、優れた封孔効果を発揮し、成形体の表面精度に影響を及ぼすことのない封孔処理方法を提供すること。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufactured by exposing and developing the photoresist on the substrate to form the first rugged patterns, subjecting the substrate to dry etching using the photoresist as a mask to form the second rugged patterns, removing the photoresist remaining on the substrate and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the second rugged patterns of the substrate with the laser beam in the dry etching process step.例文帳に追加

また、基板上のフォトレジストを露光現像して第１の凹凸パターンを形成し、フォトレジストをマスクとして基板に対してドライエッチングを行って第２の凹凸パターンを形成して、基板上に残ったフォトレジストを除去し、ドライエッチング工程において、基板の第２の凹凸パターンにレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

The production method for a vehicle window glass for forming an infrared reflective film using a vacuum deposition method is characterized by involving a process for removing, by means of dry etching, the film edge of an infrared reflective film having an electromagnetic wave transmission window that has been formed using a masking material and transmits electromagnetic waves, and is particularly characterized by using a whetstone or a laser as the dry etching means.例文帳に追加

真空成膜法を用いて赤外線反射膜を形成する車両用窓ガラスの製造方法であって、マスキング材を用いて形成した電磁波を透過する電磁波透過窓を有する赤外線反射膜の膜端部をエッチングにより除去する工程を有することを特徴とし、特に上記エッチング手段として砥石又はレーザーを使用することを特徴とする車両用窓ガラスの製造方法。 - 特許庁

Hydrogen chloride and hydrogen fluoride in gas generated by decomposing chlorofluorocarbon containing chlorine or dry etching exhaust gas are collected by a dry process using a multi-stage solid substance layer which makes sodium hydrogencarbonate a major component, wherein chlorine component only is selectively fixed and collected as sodium chloride at the front layer and fluorine component is fixed and collected as sodium fluoride and/or acidic sodium fluoride at the back layer.例文帳に追加

塩素を含有するフロンを破壊処理して生成したガス、または、ドライエッチング排ガス中の塩化水素、および、フッ化水素を、炭酸水素ナトリウムを主成分とする多段の固形物層を用いた乾式法により、前方の層では塩素分だけを選択的に固定化した塩化ナトリウムとして回収し、後方の層ではフッ素分を固定化したフッ化ナトリウム、および／または、酸性フッ化ナトリウムとして回収する。 - 特許庁