「dry- process」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereafter, in the dry etching process of the second stage, a mixture gas of CF_4 and O_2 is used, a bottom part 4R of the hole 4a is removed in a state where pressure in the reaction chamber is set to 50-1,000 Pa, and the upper surface of the carbon nanotube layer 3 is exposed.例文帳に追加

その後、第２段階のドライエッチング工程においては、ＣＦ_4およびＯ_2の混合ガスが用いられ、反応室内圧力が５０以上１０００Ｐａ以下に設定されている状態で、ホール４ａの底面部４Ｒが除去され、カーボンナノチューブ層３の上面が露出する。 - 特許庁

At least one surface of a rolled copper alloy that is not softened by heating for 1 hour at 300 °C is finished to a gloss surface, to which surface a dry-plating process is applied to yield Ni, Ni alloy, Cr, or Cr alloy of 10 nm or more.例文帳に追加

３００℃で１時間加熱しても軟化しない圧延銅合金箔の少なくとも一方の面を光沢面に仕上げ、その面に１０ｎｍ以上のＮｉ、Ｎｉ合金、ＣｒもしくはＣｒ合金を、乾式めっき法を用いて施すことを特徴とするプリント配線基板用金属材料。 - 特許庁

This manufacturing method for an alkaline dry battery 1 contains a process forming a conductive film 9 with a liquid conductive coating material on the inner surface of a battery case 2 to which a positive mix 3 is fit, and the conductive coating material is preheated, applied, then dried.例文帳に追加

正極合剤３が嵌合される電池ケース２の内面に液状導電性塗料により導電性被膜９を形成するアルカリ乾電池１の製造方法であって、予め前記導電性塗料を予備加熱処理して塗布し、乾燥させることを特徴とする。 - 特許庁

A membrane is produced by a dry-wet process from a spinning solution prepared by highly filling powdery ceramics or a powdery metal into a solution of a membrane-forming high polymer in an organic solvent, a terminal portion of the resulting wet composite membrane is crushed and the membrane is fired to produce the objective porous ceramic hollow fiber membrane.例文帳に追加

セラミックス粉末または金属粉末を膜形成性高分子物質の有機溶媒溶液中に高充填した紡糸原液を乾湿式製膜し、湿潤状態複合膜の端部を押し潰した後、焼成して多孔質セラミックス中空糸膜を製造する。 - 特許庁

To reduce differences in dimension due to difference in pattern density on the surface by using a mixed gas, in which reducing gas is added to reactive etching gas consisting of oxygen containing gas and halogen containing gas in dry etching process of a metal thin film.例文帳に追加

微細なパターンを形成する手段としてのドライエッチングにおいて、面内のパターンの疎密の違いに起因する寸法差を小さくするドライエッチング方法、この方法を利用して得たフォトマスクおよびその作製方法、ならびにこのフォトマスクを用いて得た半導体回路およびその製作方法の開発。 - 特許庁

Disclosed are adherent micro particles having an adhesion rate to mucous of 30-100%, in which fine adherent particles are dry-coated on the surface of micro particles with an average particle size of 5-50 μm containing a medicine, a production process therefor, and a preparation containing the micro particles.例文帳に追加

本発明は、薬物を含有する平均粒子径５〜５０μｍのマイクロ粒子の表面に付着性微粒子が乾式被覆された、粘膜付着率が３０〜１００％の付着性マイクロ粒子、その製造方法、並びに該マイクロ粒子を含有する投与剤である。 - 特許庁

To provide a sheet for packaging an electronic component which conserves the electronic component under a favorable dry state, does not require a baking process prior to a solder reflowing, and suppresses the generation of cracks when reflowing the solder, to provide an electronic component packaging container using the sheet, and to provide an electronic component package.例文帳に追加

電子部品を良好な乾燥下に保存し、はんだリフロー前にベーキング処理を行う必要がなく、はんだリフローの際のクラック発生を抑制する電子部品包装用のシート、及び当該シートを用いた電子部品包装容器、並びに電子部品包装体を提供することである。 - 特許庁

The detergent composition comprises the detergent particle group which is obtained by a manufacturing method comprising a process of dry-neutralizing a base granule group that comprises a water-soluble solid alkali inorganic substance (A) and is obtained by spray drying, with (B) a liquid acid precursor of a soapless anionic surfactant.例文帳に追加

水溶性固体アルカリ無機物質（Ａ）を含有し噴霧乾燥によって得られるベース顆粒群を、非石鹸性陰イオン界面活性剤の液体酸前駆体（Ｂ）で乾式中和する工程を有する製造方法により得られる洗剤粒子群を含有してなる洗剤組成物。 - 特許庁

To provide washing liquid and a washing method for removing strongly bonded etching residues remaining after dry etching in a short time, and for preventing copper wiring raw materials or insulating film materials or the like from being oxidized or corroded in the wiring process of a semiconductor element to be used for a semiconcudctor integrated circuit.例文帳に追加

本発明は、半導体集積回路に用いられる半導体素子の配線工程における、ドライエッチング後に残存する強固に固着したエッチング残渣を短時間で除去し、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等を酸化または腐食しない洗浄液、および洗浄法を提供する。 - 特許庁

To vertically and laterally replace clothes even if dewatering is not complete so that the clothes can be efficiently and uniformly dried in depending of the quantity and quality of the washes in a washing and drying machine having a process of blowing hot air into an inner tub to dry the clothes.例文帳に追加

内槽内に温風を送風して衣類を乾燥させる行程を有する洗濯乾燥機において、衣類の量や質に対応し、脱水が不十分であっても衣類の上下左右への入れ換えを行い、常に乾燥むらがなく効率よく乾燥できるようにする。 - 特許庁

A polyvinyl alcohol polymer and a halogen-containing polymer are dissolved in a common solvent and the resultant spinning dope is extruded into the coagulation bath through the dry or wet process to produce the objective PVA flame-retardant fiber wherein the particle size of the halogen polymer is adjusted to ≥150 μm on the average and ≤600 μm at a maximum.例文帳に追加

ビニルアルコール系ポリマー及び含ハロゲンポリマーを共通の有機溶媒に溶解して得られる紡糸原液を固化浴に湿式または乾湿式紡糸してＰＶＡ系難燃繊維を製造するにあたり、該ハロゲンポリマーの平均粒径を１５０μｍ以上、最大粒径を６００μｍ以下とする。 - 特許庁

The red sludge produced from an alumina manufacturing process, glass powder and a caking agent if need are mixed to obtain a mixture, then the mixture is granulated and fired at 900 to 1,100°C, thereby obtaining the lightweight aggregate having the absolute dry specific gravity of 0.40 to 1.35 and the 24 hrs water absorption of 1 to 20%.例文帳に追加

アルミナ製造工程から発生する赤泥と、ガラス粉末と、必要に応じて粘結材とを混合し、得られた混合物を造粒して、９００〜１１００℃で焼成し、絶乾比重０．４０〜１．３５、２４時間吸水率１〜２０％の軽量骨材とする。 - 特許庁

The cleaning method for the thermal head is characterized in that the thermal head of a thermal printer which performs thermal printing by bringing the thermal head into press contact with a thermal recording material while conveying the thermal recording material with a thermal layer is cleaned by the dry process with a nonwoven fabric comprising an acrylic fiber made into fibrils of a mean fiber diameter of ≤1 μm.例文帳に追加

感熱層を有する感熱記録材料を搬送しつつサーマルヘッドを圧接させ熱印字を行なう感熱プリンタの該サーマルヘッドを、平均繊維径１μｍ以下にフィブリル化したアクリル繊維を含有する不織布により乾式クリーニングすることを特徴とするサーマルヘッドのクリーニング方法。 - 特許庁

In the process for producing an oxide magnetic body having a step for obtaining a molding by dry molding a material mixture containing oxide magnetic particles and a lubricant in magnetic field, a carboxylic acid based lubricant having a carboxyl group as a functional group is added.例文帳に追加

酸化物磁性体粒子と潤滑剤とを含む原料混合物を磁場中で乾式成形して成形体を得る乾式成形工程を有する酸化物磁性体の製造方法において、官能基としてのカルボキシル基を有するカルボン酸系潤滑剤を添加する。 - 特許庁

The fine pillar structure is formed on the polymer material by carrying out dry-etching under the condition of process pressure of the reactive ion by mixed gas of more than 0.01 Pa and less than 0.2 Pa by using the mixed gas of oxygen or inactive gas mainly with oxygen and halogen containing gas.例文帳に追加

酸素もしくは酸素を主体とした不活性ガスやハロゲン含有ガスとの混合ガスを用いて、これら混合ガスによる反応性イオンのプロセス圧力を０．０１Ｐａ以上０．２Ｐａ以下の条件にして、ドライエッチングを行い、ポリマー材料に微細なピラー構造を形成する。 - 特許庁

The highly oriented transparent DNA-lipid fiber which completely remains the DNA double helix structure, is obtained by using an organic solvent solution of a DNA-lipid complex comprising the DNA and the lipid which is a cationic surfactant as a spinning dope and spinning in a wet or a dry spinning process and then hot drawing.例文帳に追加

ＤＮＡとカチオン性界面活性剤脂質とのＤＮＡ−脂質複合体の有機溶剤溶液を紡糸ドープとした湿式又は乾式紡糸後熱延伸によってＤＮＡ二重ラセン構造をそのまま残した高配向で透明のＤＮＡ−脂質複合体繊維が得られる。 - 特許庁

The photoresist compositions exhibit both acceptable resistance to dry etching processing and light transmittance suitable for use with various light sources such as KrF excimer lasers, ArF excimer lasers or F_2 excimer lasers, in a photolithography process to produce fine photoresist patterns.例文帳に追加

ドライエッチング工程で許容可能な耐性を提供し、微細なフォトレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ工程において、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、またはＦ_２エキシマーレーザーのように多様な光源の使用に適した光透過度を提供するフォトレジスト組成物。 - 特許庁

This adhesive for bonding cardboxes is obtained by solely using modified alkali treated starch improved in gelatinization properties of starch by making 0.5-20 wt.% alkali ingredient ununiformly adhered or absorbed to starch by dry process or the like or mixed with raw starch as a main starch.例文帳に追加

乾式法等により、澱粉に対し０．５〜２０重量％のアルカリ成分を不均一に付着または吸着させ、澱粉の糊化性を向上した改質アルカリ処理澱粉を、単独でまたは生澱粉と混合してなるメイン澱粉として用いて得られる段ボール貼合用接着剤。 - 特許庁

In the process for producing an oxide magnetic body having a step for obtaining a molding by dry molding a material mixture containing oxide magnetic particles and a lubricant in magnetic field, an aldehyde based lubricant having an aldehyde structure as a functional group is added.例文帳に追加

酸化物磁性体粒子と潤滑剤とを含む原料混合物を磁場中で乾式成形して成形体を得る乾式成形工程を有する酸化物磁性体の製造方法において、官能基としてのアルデヒド構造を有するアルデヒド系潤滑剤を添加する。 - 特許庁

To provide a method of reducing the concentration of the ammonia which inhibits methane fermentation of organic solid wastes in a dry process anaerobic digestion method so as to improve the digestion efficiency thereof and producing an organic fertilizer containing more ammonia and phosphoric acid and gaseous methane from the organic solid wastes.例文帳に追加

有機性固形廃棄物を乾式嫌気性消化法において、メタン発酵阻害を起こすアンモニア濃度を低減してその消化効率を改善すると共に該有機性固形廃棄物からアンモニアやリン酸をより多く含む有機性肥料やメタンガスを生産する方法を提供する。 - 特許庁

Dry distillation, reforming reaction and further hydrogen shift reaction of the biomass or the organic wastes are made to progress by using the apparatus and separated oil and recovered steam in a purification process are recycled to efficiently provide fuel gas, hydrogen gas or synthetic gas.例文帳に追加

この装置を用いることより、バイオマス又は有機系廃棄物を、乾留・改質反応更には水素シフト反応を進行させると共に、精製過程で分離した油分および回収した水蒸気を循環利用して、燃料ガス、水素ガス或いは合成ガスを効率良く得る。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device for using a mask material that has excellent dry etching resistance and can be formed at low temperature to achieve a fine via hole and a high yield in a semiconductor via hole-machining process, and achieving a high-performance ultra-high-frequency semiconductor device.例文帳に追加

半導体ヴィアホール加工工程において、ドライエッチング耐性良好、かつ低温において形成可能なマスク材料を使用することにより、ヴィアホール微細化や高歩留まり化を達成させ、高性能な超高周波半導体装置が実現できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a dry cleaning method, a resist is provided on a plurality of portions of a metal layer formed on a semiconductor device and the metal layer is etched, and after the remaining metal-contaminated resistor is ashed through reactive ion etching(RIE), downstream type microwave process is performed so as to make the remaining resist easily removable.例文帳に追加

半導体デバイス上に形成された金属層の複数の部分上にレジストを設け、該金属層をエッチングし、このとき残留する金属汚染されたレジストをＲＩＥアッシングした後、ダウンストリーム型マイクロ波プロセスを行って残留レジストを除去しやすくする。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid not oxidizing nor corroding a copper wiring material or an insulating film material and capable of removing an etching residue remaining after dry etching in a short time in a wiring process of a semiconductor element employed in a semiconductor integrated circuit, and to provide a cleaning method employing the cleaning liquid.例文帳に追加

半導体集積回路に用いられる半導体素子の配線工程における、ドライエッチング後に残存するエッチング残渣を短時間で除去でき、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等を酸化または腐食しない洗浄液を用いた洗浄法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing equipment of the cellulose triacetate film is equipped with a device to cut curled parts generated at web ends and a subsequent device to dry the web while conveying by the tenter between an exfoliating step from a support and a roll-up step of the web during the film forming process.例文帳に追加

ウエブを支持体から剥離する工程から巻き取り工程までの間の製膜工程において、ウエブ端部に発生するカール部分を裁断する装置、ついでテンターによって搬送しながら乾燥する装置を有することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造装置。 - 特許庁

To provide a sheet substrate conveying apparatus applicable to not only a wet conveying apparatus such as a development device but also a dry conveying apparatus such as a process device and an inspection device by applying a sheet conveying unit capable of constructing a constitution for periodically and automatically cleaning a substrate contact member at low cost.例文帳に追加

基板接触部材を定期的に自動清掃可能な構成を安価に構築し得る枚葉搬送ユニットを適用することで、現像装置のようなウェット搬送設備だけでなく、プロセス装置、検査装置等のドライ搬送設備へも適用可能な枚葉基板搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a hair-setting agent composition which can impart a sufficient thick film touch, a sufficient moist touch and a sufficient set-holding power to dry hair without giving a sticky touch and a slimy touch to a hand, when contacted with the hand, and without giving a creaking touch to the hair in a drying process.例文帳に追加

手にとったときにべとつき感・ぬるぬる感を生じさせず、乾燥過程における毛髪にきしみ感を生じさせず、乾燥後の毛髪に十分な膜厚感およびしっとり感並びにセット保持力を付与することができる毛髪セット剤組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a base-layer film forming composition for lithography which is used for a lithography process of manufacturing a semiconductor device, has a faster dry etching speed than photoresist, and does not cause intermixing with the photoresist, and is for forming an organic base layer film having excellent charging property of a hole on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、半導体基板上のホールの充填性に優れた有機下層膜を形成するためのリソグラフィー用下層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

This trilaminar woody cement board is manufactured by a dry or semidry process by adding a larger amount of an accelerator to a raw material mixture for the front and rear layers than the amount of the accelerator to be added to the raw material mixture for the core layer and hardening uniformly the front and rear layers and the core layer at a compressively heating/hardening step.例文帳に追加

三層構造の木質セメント板を乾式法あるいは半乾式法で製造するにあたり、表裏層用の原料混合物には芯層用原料混合物よりも多く硬化促進剤を添加し、圧縮加熱硬化工程における表裏層と芯層との硬化を均一にする。 - 特許庁

To provide a laminate which is good in adhesiveness between a substrate and a thin film laminated thereon by a dry film-forming method such as a chemical vapor growth method or a vacuum evaporation method even if the substrate is a polymer substrate made of a non-polar polymer; and a process for producing the same.例文帳に追加

本発明は、非極性のポリマーからなるポリマー基材であっても、該基材と化学的気相成長法や真空蒸着法等の乾式成膜法により積層された薄膜との密着性に優れる積層体およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a base material having a negative photoresist layer for an optical disk, which has superior contrast obtained in a developing stage, using dry process and superior mask performance also in a substrate etching stage in subsequent developing stages, and to provide a method for manufacturing a stamper for the optical disk, using the base material.例文帳に追加

ドライプロセスを用いた現像工程で優れたコントラストが得られ、その後の基板エッチング工程においても優れたマスク性能を有する、光ディスク用ネガ型レジスト層付き基材、上記基材を使用して光ディスク用スタンパを製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

When eliminating a reaction product material 4 containing halogen group gas on a wafer made of a piezoelectric substrate 2 by using a rinse liquid, after etching process wherein a pattern is formed on electrodes 1 on the wafer, using a dry etching apparatus, pure water is used, whose specific resistance is controlled to be 20 MΩ.m through the addition of alcohol.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用い圧電体基板２からなるウエハ上の電極１にパターンを形成するエッチング処理後にウエハ上のハロゲン系ガスを含んだ反応生成物４を洗浄液にて除去する際、アルコールを添加し比抵抗を２０ＭΩ・ｍ以下に制御した純水を用いる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which comprises a capacity element having a high reliability and a method of manufacturing the semiconductor device by preventing a capacity insulating film from deteriorating in electric characteristics in the process of forming a contact hole by means of dry etching for connecting an upper electrode with an electric wiring.例文帳に追加

上部電極と電極配線を接続するためのドライエッチングによるコンタクト孔形成における容量絶縁膜の電気的特性劣化を防止することにより、高い信頼性を有する容量素子を備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that useful materials in composite waste debris are recovered with a dry selection process manually, magnetically, or the like, but the recovery effect is low or the cost is high, accordingly, 80% or more useful materials are contained in the composite waste debris to be dumped in the final disposal site.例文帳に追加

複合廃材破砕物は、有用物を人手、又は磁力等の乾式の選別方法で回収されているが、回収効率又はコストが高く、最終処分場で破棄される複合廃材破砕物中には８０％以上の有用物が多く含まれている。 - 特許庁

A coating layer included with at least one selected from the group from the wax and the colorant into the resin is formed under a dry process on the surface of a core particle of the electrostatic charge image developing toner formed with the coating layer on the surface of the core particle containing at least the resin and the colorant.例文帳に追加

少なくとも樹脂と着色剤とを含むコア粒子の表面に被覆層が形成された静電荷像現像用トナーにおいて、上記のコア粒子の表面に、樹脂中にワックスと着色剤とから選択される少なくとも１つが含まれる被覆層を乾式下において形成した。 - 特許庁

This producing method comprises a slurry preparing process by mixing a material containing a powdery rare earth alloy magnetic body, a reaction curing resin and an organic solvent to form slurry by a slurry preparing device 1 and a drying process for producing a compound composed of the powdery rare earth alloy magnetic body and the reaction curing resin by spraying the slurry in a spray drying device 5 to dry it in a moment.例文帳に追加

希土類系合金磁石体粉末、反応硬化性樹脂、および有機溶剤を含む材料をスラリー製造装置１により混合してスラリーとするスラリー製造工程、および前記スラリーをスプレードライヤー装置５にて噴霧し、瞬間的に乾燥して希土類系合金磁石体粉末と反応硬化性樹脂からなるコンパウンドにする乾燥工程を備えたものである製造方法とする。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer of a semiconductor memory device, capable of filling a fluid first insulating film on the bottom surface of a trench, forming a second insulating film, then performing a dry etching process and a wet etching process and reducing the amount of fluorine (F) included in the second insulating film while expanding the top width of the trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの底面に流動性の第１の絶縁膜を満たし、第２の絶縁膜を形成した後に乾式エッチング工程及び湿式エッチング工程を行ってトレンチの上部の幅を広げながら第２の絶縁膜に含まれるフッ素(Ｆ；fluorine；フローリン)の量を減少させることができる半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated structure for the disk driving suspension assembly comprising using the multilayered lamination sheet having the first layer 50 consisting of the metallic spring material, the intermediate second layer 90 consisting of the electrical insulating material and the third layer 70 consisting of the conductive material and performing the dry etching process after wet etching as a process step of molding the second layer 90 and the laminated structure thereof are provided.例文帳に追加

金属ばね材からなる第１層５０と、電気絶縁材からなる中間の第２層９０と、導電材からなる第３層７０とを有する多層合わせシートを使用し、第２層９０の成形工程としてウェットエッチングの後、ドライエッチングプロセスを行うことを特徴とするディスク駆動サスペンションアセンブリ用の積層構造体の製造方法及びその積層構造体を提供する。 - 特許庁

In this method for manufacturing the organic EL element by forming a first electrode, one or more organic layers and a second electrode in order on a substrate, in any process before the film formation of the organic layer after forming a wiring electrode on the substrate, dry ice particles supplied from a dry ice supply means 3 are sprayed onto the substrate 2 together with a transport fluid to clean the substrate 2.例文帳に追加

少なくとも基板上に第１の電極と１層または２層以上の有機層と第２の電極とを順次形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、少なくとも前記基板２上に配線電極を形成した後、有機層成膜までのいずれかの工程で、ドライアイス供給手段３から供給されるドライアイス粒子を移送流体と共に基板２上に吹き付けて洗浄を行う有機ＥＬ素子の製造方法および装置とした。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which provides a pattern showing good exposure latitude (EL) and pattern profile in a pattern forming process with excimer laser light not only by normal exposure (dry exposure) but by immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード（EL：Exposure Latitude）、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for easily removing a residual generated in dry-etching on SiN (silicon nitride) which is an insulting film layer in a process for manufacturing a semiconductor substrate and efficiently cleaning the semiconductor substrate without the corrosion of a-Si, polysilicon and a wiring material, which are used for a glass substrate and a thin film circuit.例文帳に追加

半導体基板を製造する工程で、絶縁膜層であるＳｉＮ（窒化シリコン）等のドライエッチング時に発生する残渣物を容易に除去でき、さらにガラス基板や薄膜回路に使用されるａ−Ｓｉ、ポリシリコンや配線材料を全く腐食することなく極めて効率良く半導体基板を洗浄する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing high-quality acrylic fibers with slight fluffs afforded with sufficiently high orientation at low cost in high operability even by dry-wet spinning process, and furthermore enabling carbon fibers with high mechanical strength characteristics to be produced in high yield using such acrylic fibers.例文帳に追加

本発明の目的は、乾湿式紡糸法によっても、配向性が充分に高められ、毛羽の少ない高品質なアクリル系繊維を低コストに操業性良く得ることができ、さらに、かかるアクリル系繊維により高強度特性を有する炭素繊維を高収率で製造しうるアクリル系繊維の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a composite material uniform even in a local region, reduced in the content of an impurity component other than a metal seed being a target component, continuously reduced in flaw from its surface including a different kind of a metal interface to its bottom surface and particularly suitable as a target material of dry process vapor deposition, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

局所領域でも均一であって、目的成分とする金属種以外の不純物成分が少なく、異種金属界面を含む表面から底面まで連続して欠陥の少ない複合材、特にドライプロセス蒸着のターゲット材として好適な複合材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask blank has a thin film for forming a pattern on a light transmitting substrate, wherein the thin film comprises an upper layer made of a material containing Cr and oxygen and a lower layer made of a material that contains Ta or its compound and can be etched by a dry etching process that uses a fluorine-based gas.例文帳に追加

透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。 - 特許庁

To provide a post-ashing treatment solution which prevents the corrosion of metallic wiring and reliably removes residue such as a degenerated photoresist film and a metallic deposition from a substrate subjected a ashing after dry etching under severer conditions in an ultrafine patterning process and a treatment method using the solution.例文帳に追加

超微細パターン化プロセスにおけるより過酷な条件のドライエッチング、続いてアッシングが施された基板において、金属配線に対する腐食を防止し、かつホトレジスト変質膜、金属デポジション等の残渣物を確実に除去し得るアッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁