「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(736ページ目) - Weblio英語例文検索

The liquid crystal display panel 10A includes an array substrate AR having a pixel electrode 16 and a thin film transistor TFT in each pixel region enclosed by scanning lines and signal lines arranged in a matrix, and a color filter substrate CF having a black matrix BM and a color filter 26, wherein a light absorbing layer 30 is formed over the surface of the thin film transistor TFT with an insulating film 20 interposed therebetween.例文帳に追加

マトリクス状に配列した走査線と信号線とで囲まれる各画素領域に画素電極１６及び薄膜トランジスタＴＦＴを配置したアレイＡＲ基板と、ブラックマトリクスＢＭ及びカラーフィルタ２６を備えたカラーフィルタ基板ＣＦとを有する液晶表示パネル１０Ａにおいて、前記薄膜トランジスタＴＦＴの表面に絶縁膜２０を介して光吸収層３０を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The reflective liquid crystal display device is provided with glass substrates 581, 582, a transparent electrode 60 arranged on the glass substrate 581, an insulation film 44 arranged on the glass substrate 582 and with the projecting and recessing structure 50 formed on the surface, a reflection electrode 51 arranged on the insulation film 44 and a liquid crystal layer 61 held between the transparent electrode 60 side and the reflection electrode 51 side.例文帳に追加

本発明の反射型液晶表示装置は、ガラス基板５８１，５８２と、ガラス基板５８１上に設けられた透明電極６０と、ガラス基板５８２上に設けられるとともに表面に凹凸構造５０が形成された絶縁膜４４と、絶縁膜４４上に設けられた反射電極５１と、透明電極６０側と反射電極５１側とで挟み込まれた液晶層６１とを備えたものである。 - 特許庁

To provide a low reflection film negligible in surface glaring by suppressing interference unevenness (irregular color ) caused by involvement of incident light from a surface, particularly reflected light reflected on the interface between a transparent substrate film and a layer adjacent to it, when visual information such as a character and a graphic image used for various displays or the like to be recognized through a transparent substrate film, is observed.例文帳に追加

各種ディスプレイ等に使用して透明基板を通して認識する文字や図形画像などの視覚情報を観察する場合に、表面からの入射光が、特に透明基材フィルムとこれに隣接する層との界面で反射される反射光が関与することにより発生する干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができると共に面ギラの問題とならない低反射フィルムを提供することである。 - 特許庁

In the manufacturing step for the surface light laser with multiple wavelengths, after one surface light laser emitting one wavelength is formed on the substrate, the surface laser is partly removed by etching so that a space to laminate another surface layer is prepared, the surface light laser is wrapped with a protection film, and a different surface light laser emitting a light with different wavelength is formed on the substrate and protection film.例文帳に追加

また、多重波長の表面光レーザ製造工程は一波長の光を照射する１表面光レーザを基板上に形成した後、蝕刻工程を通じてその一部を除去することにより基板上に他の表面光レーザが積層される空間を設け、この１表面光レーザに保護膜を包んだ後で基板及び保護膜上に違う波長の光を照射する異なる表面光レーザを形成する。 - 特許庁

The above problem is solved by providing an optical sheet characterized in that it is provided with a sheet-like substrate having light transmissivity and an optical directivity control layer formed on the substrate and a plurality of slits are formed in parallel with each other, the slits are inclined to the thickness direction of the base and width of each slit is equal to or more than wavelength of an incident light beam.例文帳に追加

光透過性を有するシート状の基材と、基材上に形成され且つ複数のスリットを有する光指向性制御層とを備え、複数のスリットが互いに平行に形成されており、スリットが基材の厚さ方向に対して傾斜しており、且つ、スリットの幅が入射光線の波長以上であることを特徴とする光学シートを提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the photoelectric conversion device 1 which has a stacked structure of a lower electrode 20, a photoelectric conversion layer 30, and an upper electrode 50 on the anodic oxidation substrate 10 formed with an anodic oxidation film 12 on at least one face of a metal base 11 having Al as a main component, the anodic oxidation substrate 10 is formed by doping at least one kind of alkaline metal onto the anodic oxidation film 12.例文帳に追加

Ａｌを主成分とする金属基材１１の少なくとも一方の面側に陽極酸化膜１２が形成された陽極酸化基板１０上に、下部電極２０、光電変換層３０および上部電極５０の積層構造を有する光電変換素子１において、陽極酸化基板１０が、陽極酸化膜１２に少なくとも１種のアルカリ金属がドープされたものとする。 - 特許庁

To provide a method of obtaining high connection reliability by connecting all bumps definitely, and a member for a circuit substrate for the same without causing a big deformation by a pressure unevenness in the bump series formed on an electronic part to the member for the circuit substrate in which highly precise connection pattern excellent in the dimensional accuracy is formed by laminating a flexible film on a reinforced plate through an organic layer.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせた、寸法精度に優れた高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材に、電子部品上に形成されたバンプ列に圧力ムラによる大きな変形を引き起こすことなく、かつ確実に全てのバンプを接続させることで高い接続信頼性が得られる方法とそのための回路基板用部材を提供すること。 - 特許庁

The oxide superconductive thin film composed of a copper oxide super conductor, in which the atomic ratio of Y:Ba:Cu is 1:2:3, and having crystallinity c-axis-oriented in a direction vertical to the substrate is formed through the platinum(Pt) buffer layer having ≥40 Å, particularly ≥140 Åto <420 Å, particularly ≤400 Å thickness on the SiO2 substrate.例文帳に追加

ＳｉＯ_２基板上に、４０オングストローム以上、特に１４０オングストローム以上であって、４２０オングストローム未満、特に４００オングストローム以下の厚みの白金（Ｐｔ）バッファー層を介して、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕの原子比が実質上１：２：３である銅酸化物超電導体から成り、且つ基板と垂直方向にｃ軸配向した結晶性を有する酸化物超電導薄膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

After a dielectric substrate 1 is formed by thermoplastic liquid crystal polymer where palladium is mixed, a resin mask 2 is formed (B) to expose a surface part where a conductive layer 4 with a specific pattern is formed and the other surface parts are covered, and the resin mask and the entire surface of the dielectric substrate 1 that is exposed from the resin mask are subjected to roughening treatment 3 (C).例文帳に追加

パラジウムを混入した熱可塑性の液晶ポリマーで誘電体基板１を成形（Ａ）した後、この誘電体基体の表面のうち、所定パターンの導体層４が形成されるべき表面部分を露出させ、これ以外の表面部分を覆うように樹脂マスク２を形成（Ｂ）し、この樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体１の全表面を粗面化処理３する（Ｃ）。 - 特許庁

The magnetite thin film containing Co is deposited on a long-length substrate consisting of polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), its substrate side is made to run while being brought into contact with a drum whose circumferential surface is cooled and the side of the magnetite thin film containing cobalt is subjected to thermal oxidation treatment to deposit the magnetic layer consisting of the maghemite thin film containing cobalt having 1 to 10 wt% cobalt content.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上にコバルト含有マグネタイト薄膜を形成し、続いて周面を冷却させたドラム上に基体側を接触させて走行させ、かつコバルト含有マグネタイト薄膜側に対し加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成する。 - 特許庁

To provide an optical disk wherein changing quantity of warpage of a substrate due to the change of environmental humidity is reduced by suppressing the change in water content distribution across the thickness direction of a disk substrate in the optical disk having a information signal part on the principal surface thereof and which has a light transmission layer having low double refraction, satisfactory transparency and uniform thickness and can be made in larger capacity while having high reliability.例文帳に追加

一主面に情報信号部を有する光ディスクにおける、ディスク基板の厚さ方向に生じる含水率分布の変化を抑制して、環境湿度変化による基板の反り変化量を低減し、対物レンズの高ＮＡ化に十分対応可能で、小複屈折で、透明性良好で厚さも均一な光透過層を有し、高信頼性を有しつつ大容量化可能な光ディスクを提供する。 - 特許庁

A front panel 10 having a display electrode and a dielectric layer formed in pair on a glass substrate is set on a substrate holder 32 in a vacuum chamber 31, the vacuum chamber is evacuated, a panel 10 is heated by a heater 35, and a film material (MgO) in a crucible 38, irradiated with a thermionic current 36 via a filament 37, is evaporated to form a MgO film.例文帳に追加

ガラス基板上に対となる表示電極と誘電体層を形成してなる前面側パネル１０を真空チャンバ３１内の基板ホルダー３２にセットし、真空チャンバ３１の内部を排気し、ヒータ３５にてパネル１０を加熱し、るつぼ３８内の膜材料（ＭｇＯ）にフィラメント３７より熱電子流３６を照射させてＭｇＯを蒸発させて前面側パネル１０の誘電体層上にＭｇＯ膜を成膜する。 - 特許庁

The solid state imaging device comprises the photodiode PD and the floating impurity diffusion area 22 which are formed on the surface layer of a pixel area of a silicon (semiconductor) substrate 1 with an interval and a transfer gate 12 formed on the silicon substrate 1 between the photodiode PD and the floating impurity diffusion area 22 through a gate insulating film 5c and having ruggedness turned to the side of the floating impurity diffusion area 22.例文帳に追加

シリコン（半導体）基板１の画素領域の表層に、互いに間を隔てて形成されたフォトダイオードPD及び浮遊不純物拡散領域２２と、フォトダイオードPDと浮遊不純物拡散領域２２との間のシリコン基板１上に、ゲート絶縁膜５ｃを介して形成され、浮遊不純物拡散領域２２側に向けて凹凸を有する転送ゲート１２とを有する固体撮像装置による。 - 特許庁

The intermediate plate B used in the state held between the prepreg 22 and the hot plate 16 or in the state held between the prepregs 22 when the resin base substrate is manufactured by applying hot press treatment to the prepreg 22, is obtained by forming a release layer 2 comprising a fluoroplastic resin consisting of a fluorine-containing polyol, amino acid type high melting point wax and a polyisocyanate compound on a substrate 20 comprising an aluminum alloy.例文帳に追加

本発明は、プリプレグ２２に熱プレス処理を施して樹脂ベース基板を製造する際にプリプレグ２２と熱板１６の間、あるいはプリプレグ２２どうしに挟まれて使用される中間板Ｂであって、アルミニウム合金からなる基板２０上にフッ素系ポリオールとアミノ酸系高融点ワックスとポリイソシアネート化合物とを具備してなるからなる離型層２１が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the optical recording medium includes: a step of coating a dye solution on a substrate by a spin coating method to form a dye recording layer, wherein the substrate is rotated at a rotation speed lower than during a period from the beginning to the end of the supply of the dye solution in the sequence from beginning to the end of the supply of the dye solution.例文帳に追加

基板上に、スピンコート法により色素溶液を吐出して塗布し、塗布後乾燥させ色素記録層を形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、前記色素溶液吐出開始から乾燥完了までのシーケンスに、基板を、前記色素溶液の吐出開始時又は吐出終了時の回転速度よりも低速とするステップを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing a substrate holder for use in a lithographic apparatus includes: providing a main body having a surface, and a plurality of burls projecting from the surface and having end surfaces to support a substrate; providing a carrier surface adjacent to the main body surface; and forming a conductive layer on at least a part of the main body surface and an integral part on at least a part of the carrier surface.例文帳に追加

リソグラフィ装置で使用する基板ホルダの製造方法であって、方法は、表面を有する本体と、表面から突出して基板を支持する端面を有する複数のバールとを提供することと、本体表面に隣接するキャリア表面を提供することと、本体表面上の少なくとも一部上に導電層を、キャリア表面の少なくとも一部上の一体部分を形成することとを含む。 - 特許庁

A BGA semiconductor device (resin-encapsulated semiconductor device) includes a wiring substrate 1 with a semiconductor chip 10 placed in a given region; a plurality of metal bumps 30, which are formed in a region different from the region, where the semiconductor chip 10 on the wiring substrate 1 is placed and are arranged at given intervals; and a sealing resin layer 20, covering at least the semiconductor chip 10.例文帳に追加

このＢＧＡ型半導体装置（樹脂封止型半導体装置）は、半導体チップ１０が所定領域上に搭載された配線基板１と、この配線基板１の半導体チップ１０が搭載された領域とは異なる領域に形成され、互いに所定の間隔を隔てて配列された複数の金属バンプ３０と、少なくとも半導体チップ１０を覆う封止樹脂層２０とを備えている。 - 特許庁

The charge transfer device 100 comprises: a semiconductor substrate 101 provided with a photodiode 122 and a charge transfer passage 120; a P^+ region 104 provided on the semiconductor substrate and isolating the region arranged with the photodiode 122 and the charge transfer passage 120 from other regions; and an insulation layer 106 formed on the P^+ region 104 by depositing a silica compound.例文帳に追加

電荷転送装置１００は、フォトダイオード１２２と電荷転送路１２０とが設けられた半導体基板１０１と、前記半導体基板に設けられ、フォトダイオード１２２と電荷転送路１２０とが配置された領域を他の領域から分離する分離領域であるＰ^＋領域１０４と、Ｐ^＋領域１０４上に設けられ、珪素化合物を堆積して形成された堆積絶縁層１０６と、を含む。 - 特許庁

A manufacturing method of a fixing heater includes: providing an adhesive ceramic sheet 31 including ceramic particles 32 and an organic binder 33 on a substrate 21; providing a resistance heating element on the adhesive ceramic sheet 31; and calcining the adhesive ceramic sheet to thermally decompose the organic binder, thereby forming an adhesive ceramic layer with the resistance heating element adhered on the substrate.例文帳に追加

セラミック粒子３２および有機バインダ３３を含む固着用セラミックシート３１を基板上２１に設置し、抵抗発熱体を前記固着用セラミックシート３１の上に設置し、前記固着用セラミックシートを焼成して、前記有機バインダを熱分解し、それによって、前記抵抗発熱体を前記基板上に固着させる固着用セラミック層を形成することを特徴とする定着用ヒータの製造方法。 - 特許庁

This lithography system projects a patterned radiation beam on the target of a substrate containing a radiation photosensitive layer by a radiation source, a patterning structure and a projection system is provided with a gas flashing system for supplying air from a region between the projection system and the substrate in order to remove gas spread from the target section while the target section is exposed by the patterned radiation beam.例文帳に追加

放射線源、パターニング構造、投影システムによって放射線感光層を含む基板の標的部分上にパターン化放射線ビームを投影するリソグラフィシステムにおいて、投影システムと基板の間の領域から空気を供給することによって、標的部分をパターン化放射ビームで露光する間に標的部分から発散するガスを除去するためのガス・フラッシング・システムを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

This contact input detecting display filter includes a laminate including a base substrate arranged at the front of a display panel for displaying an image, and an optical filter part having an antireflective layer laminated on the base substrate; and a vibration detecting part installed on the laminate to detect vibration generated from a contact position of the laminate when a contact factor contacts a predetermined position of the laminate.例文帳に追加

本発明による接触入力検知ディスプレイフィルタは、画像を表示するディスプレイパネルの前面に配置されるベース基板と、ベース基板に積層される反射防止層を有する光学フィルタ部とを含む積層体、及び上記積層体に設置され、接触因子が上記積層体の所定の位置に接触することで上記積層体の接触位置から発生する振動を検知する振動検知部と、を含む。 - 特許庁

To solve problems wherein a current pass breaks off because continuity of oxide superconductive layer is damaged, and critical current density becomes smaller due to degradation of flatness by a concave by a crystal grain boundary on the surface of the Ag substrate, in an oxide superconductor tape filament in which the oxide superconductor is formed by means of CVD method on a crystal-oriented Ag or Ag alloy substrate.例文帳に追加

結晶配向したＡｇ或いはＡｇ合金基材上にＣＶＤ法によって酸化物超電導体を成膜する酸化物超電導体テープ線材において、前記Ａｇ基材表面の結晶粒界による凹みによる平坦性の低下によって、酸化物超電導層の連続性が損なわれるために電流パスが途切れて、臨界電流密度が小さくなる問題を解決することにある。 - 特許庁

To provide a ceramics having sufficient fracture toughness without degrading a bending strength remarkably even when surface roughening treatment is applied to obtain a satisfactory anchor effect, particularly aluminum nitride substrate or a silicon nitride substrate having high heat conductivity, high reliability to insulation property, high bending strength and strong fracture toughness and further having anchor effect to improve the bonding strength to a metallic layer.例文帳に追加

十分なアンカー効果を得るために粗面化処理を行っても、強い破壊靱性を有し、抗折強度を著しく低下させることのないセラミックス、特に高熱伝導性でしかも絶縁特性に対して高い信頼性と、高抗折強度と強破壊靱性を有し、しかもアンカー効果によって金属層との接合強度が強めることができる窒化アルミニウム基板又は窒化ケイ素基板を提供する。 - 特許庁

In an electrochromic display element having a display layer, containing an electrochromic composition carrying an organic electrochromic compound in conductive or semiconductor particulates, on a transparent conductive substrate, a display element formed by a manufacturing method including a step of pressurization press processing after at least the transparent substrate is coated with a film containing conductive or semiconductive particulates is used for the electrochromic display element.例文帳に追加

透明導電基板上に、導電性または半導体性微粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持したエレクトロクロミック組成物を含んだ表示層を有するエレクトロクロミック表示素子において、少なくとも透明導電基板上に導電性または半導体性微粒子を含んだ膜を塗布した後、加圧プレス処理する工程を含む作製方法で作成した表示層をエレクトロクロミック表示素子に用いる。 - 特許庁

The organic EL light emitting device 100 is formed with a flattened film 106 for flattening a color filter on an element substrate 103 made of transparent glass, a positive electrode 109 arranged on the flattened film 106, an organic EL layer 102 formed between the positive electrode 109 and a negative electrode 111, and an opposing base plate 104 opposing the element substrate 103.例文帳に追加

本発明にかかる有機ＥＬ発光装置１００は、透明なガラスである素子基板１０３の上に、カラーフィルターを平坦化するための平坦化膜１０６、平坦化膜１０６上に設けられた陽極１０９と、陽極１０９と陰極１１１の間に設けられた有機ＥＬ層１０２を備え、素子基板１０３と対向する対向基板１０４とを有し、平坦化膜１０６の外周部１０８はテーパーを有する。 - 特許庁

The method for producing the magnetic recording medium includes a step for forming at least a magnetic recording layer and a protective film on a nonmagnetic substrate, a step for applying a lubricant to the surface of the protective film after plasma treatment and a step for subjecting the lubricant to irradiation with UV and/or heat treatment.例文帳に追加

非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及び保護膜を積層形成する工程と、該保護膜の表面をプラズマ処理してから潤滑剤を塗布する工程と、潤滑剤に紫外線照射処理或いは熱処理或いはそれ等両方の処理を加える工程とが含まれる。 - 特許庁

A wiring pattern containing pads 2g is formed by patterning the metal layer 5 which has been used as a mask, at least a passivation film 6 is formed on the surface of the semiconductor substrate 1 where the empty groove 4 is formed, and an opening is provided to the passivation film 6 to make the pads 2g exposed.例文帳に追加

マスクとして用いられた金属層５をパターニングしてパッド２ｇを含む配線パターンを形成し、空堀４が形成された半導体基板１表面に少なくとも１層のパッシベーション膜６を形成し、パッシベーション膜６を開口して前記パッド２ｇを露出させる。 - 特許庁

When an apparatus or material with the film resistant to high-temperature corrosion formed thereon is used in a high-temperature corrosion environment, e.g. in a power generation plant using waste, the contact of combustion ash with the substrate layer 4 is prevented and an excellent resistance to dew-point corrosion during operation stopping is exhibited.例文帳に追加

この高温耐食性皮膜を形成した機材を、廃棄物発電設備などの高温腐食環境下で使用したときに、燃焼灰などが下地層４に接触することが防止され、また、運転停止時における露点腐食に対しても優れた耐食性を発揮することができる。 - 特許庁

Then, a single crystal silicon carbide is epitaxially grown on the surface of the single crystal SiC substrate 15 in a liquid phase by a metastable solvent epitaxy (MSE) method using, as driving force, the concentration gradient generated in the Si melt layer based on the difference between free energies of the substrates 15, 20.例文帳に追加

そして、基板１５，２０の自由エネルギーの差に基づいてＳｉ溶融層に発生する濃度勾配を駆動力とする準安定溶媒エピタキシー（ＭＳＥ）法により、単結晶ＳｉＣ基板１５の表面に単結晶炭化ケイ素を液相エピタキシャル成長させる。 - 特許庁

The optical integrated device has a multiple quantum well structure active layer formed of a nitride-based III-V compound semiconductor on an insulating substrate 1 provided with an optical waveguide 7 formed of a nitride-based III-V compound semiconductor, and integrates at least a semiconductor laser 2 which emits light in accordance with the transition between sub-bands.例文帳に追加

ナイトライド系III-Ｖ族化合物半導体からなる光導波路７を設けた絶縁性基板１上に、ナイトライド系III-Ｖ族化合物半導体からなる多重量子井戸構造活性層を有し、サブバンド間の遷移によって発光する半導体レーザ２を少なくとも集積化する。 - 特許庁

A process to remove projected type exposure portions 51 of a columnar semiconductor defective portion is performed prior to a laminating process after a substrate removing process, wherein the semiconductor defective portion remains on a second main surface of a layer 50 subject to device forming, without being dissolved by selective chemical etching.例文帳に追加

基板除去工程後において素子化対象層５０の第二主表面に、選択化学エッチングにより溶解されずに残留した柱状半導体欠陥部の突起状露出部分１１を除去する突起除去工程を、貼り合わせ工程に先立って実施する。 - 特許庁

To provide an acrylic resin release agent composition bearing a long chain alkyl group which exhibits excellent solvent resistance, heat resistance and adhesion to a substrate without exerting bad influences on electronic parts and the like and is capable of controlling peel strength, and a release liner having a release layer comprised of the composition.例文帳に追加

電子部品などへの悪影響を与えることなく、耐溶剤性、耐熱性および基材密着性に優れるとともに、剥離力の調整が可能な長鎖アルキル基を含有するアクリル樹脂系剥離剤組成物、および該組成物からなる剥離層を有する剥離材を提供すること。 - 特許庁

In the manufacture of a semiconductor device 10, driving circuits 50a, 50b preliminarily fabricated on a temporary substrate are transferred onto the surface of a flexible board 20, and then, an organic semiconductor layer is formed by a liquid phase process to fabricate an organic TFT 10a.例文帳に追加

半導体装置１０の製造に際して、予め暫定基板に形成した駆動回路５０ａ、５０ｂをフレキシブル基板２０の表面に転写し、その後に、有機半導体層を液相プロセスで形成して有機ＴＦＴ１０ａを形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The surface light emitting semiconductor laser 100 includes a lower DBR portion 3 provided on an n-type GaAs substrate 1, an upper DBR portion 7 provided on the lower DBR portion 3, and an active layer 5 provided between the lower DBR portion 3 and upper DBR portion 7.例文帳に追加

面発光型半導体レーザ１００は、ｎ型ＧａＡｓ基板１上に設けられた下部ＤＢＲ部３と、下部ＤＢＲ部３上に設けられた上部ＤＢＲ部７と、下部ＤＢＲ部３と上部ＤＢＲ部７との間に設けられた活性層５とを備える。 - 特許庁

(1) The leader tape wherein a coating layer including powder and a binder is provided on at least one surface on a substrate has 10 to 60 nm center line average surface roughness (Ra) and 0 to 1 mm/ 1/2 inch width cupping of at least one surface thereof.例文帳に追加

１）支持体上の少なくとも一方の面に粉体と結合剤を含む塗布層を設けてなるリーダーテープにおいて、前記リーダーテープの少なくとも一方の面の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、かつカッピングが１／２インチ幅あたり０〜１ｍｍであることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit having on a principal surface of an SOI substrate a high breakdown voltage element formed on an island-shaped semiconductor layer surrounded by a dielectric, which prevents decrease in a breakdown voltage of the high breakdown voltage element due to influence on potential from a surrounding region thereby improving an output current density.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の主面に、誘電体によって囲まれた島状の半導体層に形成された高耐圧素子を有する半導体集積回路装置において、周辺領域の電位の影響による高耐圧素子の耐圧の低下を防いで、出力電流密度を向上する。 - 特許庁

The manufacturing method of a color filter comprises a protective film forming process of forming a protective film on a semiconductor substrate; a recessed part forming process of forming a recessed part by dry-etching the formed protective film; and a filter forming process of forming a color filter layer on the formed recessed part.例文帳に追加

半導体基板上に保護膜を形成する保護膜形成工程、形成された保護膜をドライエッチングにより加工して凹部を形成する凹部形成工程、及び形成された凹部にカラーフィルタ層を形成するフィルタ形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

The organic TFT 10 is provided with a block layer 14, a gate electrode 16, a gate insulation film 18, and an organic semiconductor 20 that are formed in sequence on the plastic substrate 12, and it is also provided with a source electrode 22 and a drain electrode 24 that are apart from and opposite to each other on the organic semiconductor 20.例文帳に追加

有機ＴＦＴ１０は、プラスチック基板１２の上に、順次、ブロック層１４、ゲート電極１６、ゲート絶縁膜１８および有機半導体２０を有し、さらに、有機半導体２０の上に対向、離間してソース電極２２およびドレイン電極２４を有する。 - 特許庁

To provide a marking film whose coating film layer has excellent adhesion with the passage of time, which can ensure a good appearance, even when the coating film is thin, can be treated with a simple incineration facility, after used, and is excellent in followability to a curved surface, when a specific soft olefin resin is disposed as a substrate.例文帳に追加

経時での塗膜層の密着性に優れ、薄い塗膜であっても外観が良好に確保でき、使用後は簡単な焼却設備で処理可能であるとともに、特定の軟質オレフィン樹脂を基材に配合する場合には曲面追従性にも優れるマーキングフィルムを提供する。 - 特許庁

An opening 7a for allowing video image light from the luminous function layer 6 to pass through is formed in one portion of the second electrode 7, a first luminous region L1 is formed on the side of the glass substrate 2, and a second luminous region L2 is formed on the side of the sealing member 8.例文帳に追加

第二電極７の一部には発光機能層６からの映像光を通過させる開口７ａが形成されており、前記ガラス基板２側において第一発光領域Ｌ１ が形成され、封止部材８側において第二発光領域Ｌ２ が形成される。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable screen ink composition which forms a thermal transfer-printed recorded layer on an optical information storage medium substrate, has good transferability and does not cause sticking of the discs with each other, even when they are left stacked.例文帳に追加

本発明は、光情報記録媒体の基材上に熱転写印刷の被記録層を形成することのできるインキ組成物であって、転写性が良好で、重ねておいてもディスク同士の貼りつきが無い活性エネルギー線硬化型スクリーンインキ組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

In a liquid crystal device, on a first substrate 10 on which two-terminal nonlinear element 14 is formed, an auxiliary capacitance line 17, an auxiliary capacitance 18, and an interlayer insulating film formed on the upper layer side of the auxiliary capacitance 18 and the two-terminal nonlinear element 14 are further formed.例文帳に追加

液晶装置において、二端子型非線形素子１４が形成された第１基板１０には、さらに、補助容量線１７と、補助容量１８と、補助容量１８および二端子型非線形素子１４の上層側に形成された層間絶縁膜とが形成されている。 - 特許庁

The heat developable photosensitive material contains a compound of the formula in a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains or at least one of nonphotosensitive layers on at least one side of the substrate.例文帳に追加

支持体の一方の側に、感光性ハロゲン化銀粒子を含有する感光性層及び非感光性層を有する熱現像感光材料において、感光性層又は非感光性層から選ばれる１層に、下記一般式（１）で表される化合物又は（２）で表される化合物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The optical disk is so constituted that the information signal part 2 which is so constituted that the information signal can be recorded and/or reproduced by irradiating the laser beam, and the protective layer 3 covering at least the information signal part 2 are successively laminated on a principal surface of a substrate 1 having a center hole 1a.例文帳に追加

光ディスクは、センターホール１ａを有する基板１の一主面に、レーザ光を照射することにより情報信号を記録可能および／または再生可能に構成された情報信号部２と、情報信号部２を少なくとも覆う保護層３とが順次積層されて構成される。 - 特許庁

The method for burying the recess having a high aspect ratio such as a separated trench of a semiconductor substrate includes processes for depositing a fluid layer in the recess to decrease a high aspect ratio while preventing a fluid material from existing on a flat portion around a recess opening, and burying the recess with the other material.例文帳に追加

半導体基板のトレンチ分離構造のような高アスペクト比の凹部埋設方法において、流動性の層を凹部に堆積させて凹部のアスペクト比を低下させ、かつ凹部口の平坦部に前記流動性材料を存在させないようにし、続いて当該凹部に他の材料を埋設する。 - 特許庁