「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

A resist film is beforehand exposed by an exposure method that does will generate fogging, and by having the non-exposed part of the resist film exposed with electron beam, a dense pattern region can be formed, while suppressing the influence due to fogging at electron beam exposure.例文帳に追加

あらかじめ、ｆｏｇｇｉｎｇが発生しない露光方法によりレジスト膜を露光し、前記レジスト膜の未露光部を電子線で露光することにより、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を抑えながら、密なパターン領域を形成することが出来る。 - 特許庁

Thus, even when the position of the laser beam L incident on the spatial light modulator is deviated or the like for example, the position of the modulation pattern H can be changed according to this deviation, and the laser beam L can be always modulated favorably by the spatial light modulator.例文帳に追加

そのため、例えば空間光変調器に入射するレーザ光Ｌの位置がズレた場合等においても、かかるズレに応じて変調パターンＨの位置を変化させることができ、空間光変調器でレーザ光Ｌを常に好適に変調させることが可能となる。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus which applies a desired angular intensity distribution to a radiation beam by using an array of mirrors, this radiation beam overcoming or alleviating one or more shortcomings of a lithographic apparatus used for projecting a pattern onto a target part of a substrate.例文帳に追加

所望の角度強度分布を放射ビームに与えるためにミラーのアレイが使用され、この放射ビームが続いて、基板のターゲット部分上へパターンを投影するために使用されるリソグラフィ装置の１つまたは複数の短所を克服しまたは軽減する。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern by using a high energy beam or electron beam having a wavelength of 300 nm or less, and to provide a resin that is used for a topcoat composition in immersion lithography and has water repellency, especially a large receding contact angle.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。 - 特許庁

The optical element is irradiated with a UV radiation beam from a radiation source LA for mask pattern projection or a radiation source 7 exclusive for purge whereby the beam of radiation decomposes oxygen and produces an oxygen radical which cleans the optical element very effectively.例文帳に追加

マスクパターン投影用の線源ＬＡからの、またはパージ専用線源７からのＵＶ放射線ビームをこの光学要素に照射するので、この放射線が酸素を分解して酸素ラジカルを作り、それらが非常に効果的に光学要素をクリーニングする。 - 特許庁

A marker beam for showing a reading position irradiated to a reading target by the marker beam irradiating unit 16 is composed of four L-shaped patterns corresponding to four corner parts of an imaging field of view of a light receiving sensor and a cross-shaped pattern showing its center.例文帳に追加

マーカ光照射部１６により読取対象に対して照射される読取位置を示すためのマーカ光は、受光センサの撮像視野の４つのコーナー部に対応した４個のＬ字状のパターンと、その中心部を示す十字状のパターンとからなる。 - 特許庁

The beam adjusting means 34 is constituted of an opening 34A for cutting an outer circumferential part of the beam emitted from the collimator lens 32 and is positioned by the solenoid 40 so that it can be inserted and pulled out in the vicinity of a position where a far field pattern by the collimator lens 32 is formed.例文帳に追加

また、ビーム調整手段３４は、コリメータレンズ３２より射出されるビームの外周部をカットする開口３４Ａで構成し、コリメータレンズ３２によるファーフィールドパターンができる位置近傍に挿抜可能なようにソレノイド４０によって位置決めする。 - 特許庁

Thereby, at the time of low beam, the reflecting light from the additional reflector 28 is reflected in the prescribed reflection region 24a1 and a light distribution pattern having a cut off line at the upper end edge is formed, and at the time of high beam, also the reflecting light from the additional reflector 28 can be utilized.例文帳に追加

これにより、ロービーム時には、付加リフレクタ２８からの反射光を所定反射領域２４ａ１で反射させて、上端縁にカットオフラインを有する配光パターンを形成し、またハイビーム時にも付加リフレクタ２８からの反射光を利用可能とする。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

A light shielding element that shields the illuminating beam for irradiating parts of the multiply-overlapped-exposure acceptable region is installed in a beam shaping opening to reduce the count of the exposure on the multiply-overlapped-exposure acceptable region, and to consequently mitigate the decrease in contrast of the device pattern on the sensitized substrate.例文帳に追加

ビーム成形開口に、多重重複露光可能領域に当たる部分への照明ビームを遮る遮光部が設け、多重重複露光可能領域に対する露光回数を減らし、感応基板上のデバイスパターンのコントラスト低下を低減する。 - 特許庁

A pattern of a contrast waveform 18A of the image 14A varies depending upon whether the through taper 4A is a reverse taper such that a particle-beam incident-side opening is wider than an exit-side opening or a normal taper such that the particle-beam incident-side opening is not wider, so the tapered shape can be nondestructively inspected.例文帳に追加

貫通テーパ４Ａが、粒子線入射側開口が射出側開口に比べて広くなった逆テーパであるかその逆の順テーパであるかにより、画像１４Ａのコントラスト波形１８Ａのパターンが異なるため、テーパ形状の非破壊的検査ができる。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a resist layer composed of an oxonol-based dye on a substrate; scanning a laser beam to the formed resist layer at a scanning speed of 1 m/s or more and 30 m/s or less; and developing the resist layer scanned by the laser beam with a developer containing alcohol as a main component.例文帳に追加

基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 - 特許庁

The complex device including the FIB lens barrel and the SEM lens barrel has a slit formed into a shape to be worked at an aperture for the FIB, whereby ion beam work is performed by transferring a pattern to a sample surface instead of running a converged ion beam thereon.例文帳に追加

本発明はＦＩＢ鏡筒と、ＳＥＭ鏡筒を備えた複合装置において、ＦＩＢ用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 - 特許庁

The common sample holder for a scanning electron microscope device and a focused ion beam device is set mountable on a scanning electron microscope device with an electron beam backscatter pattern measurement function and on a focused-ion beam device with a microsampling function, and enables a crystal orientation analysis and microsampling, without having to remount a sample.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡装置と集束イオンビーム装置との共用試料ホルダーは、電子線後方散乱パターン計測機能を有した走査型電子顕微鏡装置と、マイクロサンプリング機能を装備した集束イオンビーム装置とに装着可能で、試料の載せ替え作業をせずに結晶方位解析とマイクロサンプリング加工が可能であることを特徴とする。 - 特許庁

The electrically charged particle beam drawing apparatus 1 includes a drawing chamber 51 wherein a guide 4 provided with a stage 3 where a mask substrate 2 is mounted is disposed at a bottom part, an electron lens barrel 20 capable of performing irradiation with an electron beam, and a drawing control computer 50 which draws a predetermined pattern by irradiating the mask substrate 2 with the electron beam in accordance with predetermined drawing data.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１は、マスク基板２が載置されるステージ３が設けられたガイド４を底部に配置した描画室５１と、電子ビームを照射可能な電子鏡筒２０と、所定の描画データに従い、マスク基板２に電子ビームを照射して所定のパターンを描画する描画制御コンピュータ５０とを備える。 - 特許庁

The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

In a diffraction grating 14 for generating a diffracted light from an optical beam reflected on an optical recording medium, a grating pattern of the diffraction grating 14 is selected so as to generate ± secondary diffracted lights for the optical beam of a first wavelength, and ± primary diffracted lights for the optical beam of a second wavelength roughly double of the first wavelength.例文帳に追加

光記録媒体で反射された光ビームから回折光を生成する回折格子１４において、第１の波長の光ビームに対しては±２次回折光を生成するとともに、第１の波長の略２倍の第２の波長の光ビームに対しては±１次回折光を生成するよう、回折格子１４の格子パターンを選定した。 - 特許庁

This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加

表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

During work of removing a damaged layer which arises from an ion beam, transmitted electrons are detected with a two-dimensional detector, the transmitted electrons arising by irradiating a sample with an electron beam formed by an electron beam optical system, and the timing of the completion of the work of removing the damaged layer is determined on the basis of the blur amount of a diffraction pattern obtained with the two-dimensional detector.例文帳に追加

イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 - 特許庁

In an optical system for forming a rectangular beam spot, an optical system that unifies longitudinal or lateral energy distribution of a rectangular beam spot on an irradiated surface is replaced by an optical element having a curved surface pattern on an injection side face of a laser beam and two reflective faces opposed to each other.例文帳に追加

本発明は、長方形状のビームスポットの形成用光学系において、被照射面における長方形状のビームスポットの長辺方向または短辺方向のエネルギー分布を均一化する光学系を、レーザビームの入射側面に曲面形状を有し、かつ向かい合う二つの反射面を有する光学素子に置き換えるものである。 - 特許庁

To irradiate the whole substrate with an electronic beam having a uniform irradiation energy and also to shorten the plotting time in an electron beam plotting method for plotting a desired pattern on a substrate coated with a photosensitive material by rotating the substrate by a rotary stage and moving the electronic beam in the radial direction of the rotation.例文帳に追加

感光材料が塗布された基板を回転ステージにより回転させるとともに、電子線を上記回転の半径方向に移動させながら照射して所望のパターンを基板上に描画する電子線描画方法において、基板全体に一様な照射エネルギーの電子線を照射するとともに、描画時間の短縮を図る。 - 特許庁

In an original plate exposure method for forming a latent image by irradiating a resist layer formed on a substrate with an exposure beam while the substrate 15 is rotated, when a space pattern is formed, the exposure beam is blanked (31) or the exposure beam is deflected to a latent image to be recorded next (33).例文帳に追加

基板１５を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか（３１）、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか（３３）、の何れかを選択的に実行する。 - 特許庁

To provide a mask blank for charged particle beam exposure which improves the yield of mask manufacture, by removing selectively the eaves of a curvature adjustment layer generated when forming an opening by the wet etching method, in the manufacture of the mask for charged particle beam exposure using an SOI substrate with a curvature adjustment layer, and to provide a mask for charged particle beam exposure and a pattern exposure method.例文帳に追加

反り調整層を有したＳＯＩ基板を用いた荷電粒子線露光用マスクの製造にて、ウェットエッチング法により開口部形成を行った際に発生する反り調整層のひさしを選択的に除去し、マスク製造の歩留まりを向上させる荷電粒子線露光用マスクブランク、荷電粒子線露光用マスク、パターン露光方法を提供する。 - 特許庁

Between a laser beam oscillator 10 and a printed wiring board 20 being a member to be worked, a polygon mirror 11, a mask 12 having a plurality of holes in a line providing for a working pattern, a galvanomirror 16, and a working lens 17 are arranged successively, and then laser beam from the laser beam oscillator is made to project on the printed wiring board successively through the forementioned elements.例文帳に追加

レーザ発振器１０と被加工部材としてのプリント配線基板２０との間に、ポリゴンミラー１１、加工パターンを規定する一列状の複数の穴を持つマスク１２、ガルバノミラー１６、加工レンズ１７を順に配置して、レーザ発振器からのレーザ光が前記各要素を順に経由してプリント配線基板に照射されるようにする。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting fixture capable of selectively forming a light distribution pattern for a high beam and a light distribution patter for driving in rainy weather and capable of forming in a low-cost structure a light distribution pattern for driving in rainy weather, excellent in visibility for a distant road shoulder part.例文帳に追加

雨天走行時用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを選択的に形成し得る構成の車両用照明灯具において、安価な構成で、遠方路肩部分の視認性に優れた雨天走行時用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a focused ion beam device for actualizing smooth and automatic processing of a processed pattern by improving the detecting probability of a processed pattern detecting mark and the reproductivity of a processing position, and to provide a sample processing method and program using the same.例文帳に追加

加工パターン検出用のマークの検出確率と加工位置の再現性を向上させ、加工パターンの自動加工を円滑化することができる集束イオンビーム装置、集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法及び試料加工プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for pattern formation and a liquid material drier which enable formation of a pattern with high definition and precision by controlling the arrangement position for a liquid material with a laser beam so as to dry the liquid material at a desirable arranging position.例文帳に追加

レーザ光によって液状体の配置位置を制御して所望の配置位置で液状体を乾燥させて、高精細、高精密なパターンを形成すことができるパターン形成方法、パターン形成装置及び液状体乾燥装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, generation of missing portion of light between the low beam light distribution pattern P and the sub-light distribution pattern LP, RP can be prevented, and visibility of the side direction of the vehicle can be certainly improved, thereby it can contribute to traffic safety.例文帳に追加

この結果、すれ違い用の配光パターンＰとサブ配光パターンＬＰ、ＲＰとの間に光の抜け部分が発生するのを防止することができ、車両の側方の視認性を確実に向上させることができ、交通安全に貢献することができる。 - 特許庁

In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.例文帳に追加

ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン４０において、パターン１ａは回折光束を時計回りにねじり、４分割光検出部６０の分割線ＬＸを跨ぐように光検出部Ａ，Ｂ上に半円形状の集光スポットＳａを形成する。 - 特許庁

In the charged particle beam aligner, manipulators 21, 27 for transferring a sensitive substrate and/or a pattern original comprises a first arm 53, a second arm 59, and a holding member 63 or the like, and freely moves the sensitive substrate and/or pattern original in XYZ direction.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置において、前記感応基板及び／又はパターン原版を搬送するマニュピレータ２１、２７は、第１アーム５３、第２アーム５９、保持部材６３等から構成され、感応基板やパターン原版をＸＹＺ方向に自由に移動させる。 - 特許庁

This HGA is provided with a magnetic head slider, a metallic suspension for supporting the magnetic head slider, and a magnetic head leading pattern formed on the suspension via an insulator, and a metal flexure and a load beam downward of the magnetic head lead pattern are partially removed.例文帳に追加

磁気ヘッドスライダと、磁気ヘッドスライダを支持する金属サスペンションと、このサスペンション上に絶縁体を介して形成された磁気ヘッド用リードパターンとを有するＨＧＡであり、磁気ヘッド用リードパターンの下方の金属フレクシャ−及びロードビームが一部除去されている。 - 特許庁

This method for manufacturing the stamper comprises a step of making the surface of a positive photoresist layer insolubilize, on which a latent image having the prescribed pattern is formed by exposing it to a laser beam, by treating it with a low-concentration alkaline developer and a step to furthermore develop the latent image by using the alkaline developer to form the prescribed pattern.例文帳に追加

レーザー光の露光により所定パターンの潜像が形成されたポジ型フォトレジスト層の表面を低濃度のアルカリ現像液で処理することにより、フォトレジスト層の表面を難溶化した後、さらにアルカリ現像液で現像してパターン形成を行う。 - 特許庁

A first working reticle WR1, in which circuit pattern units Pa to Pe commonly usable in a plurality of devices are formed, and a second working reticle WR2, in which another circuit pattern units Pf to Pw are formed, are manufactured by using a laser beam drawing device or the like.例文帳に追加

複数のデバイスで共通に使用できる回路パターンユニットＰａ〜Ｐｅが形成された第１のワーキングレチクルＷＲ１、及び別の回路パターンユニットＰｆ〜Ｐｗが形成された第２のワーキングレチクルＷＲ２をレーザビーム描画装置等を用いて製造する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A vehicle headlamp apparatus includes a lamp unit operable to form an additional light distribution pattern including a region above a cutoff line of a low beam light distribution pattern, and a controller which controls a light irradiation of the lamp unit in accordance with the vehicle ahead.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンを形成可能な灯具ユニットと、前方車両の存在に応じて灯具ユニットによる光の照射を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The image of a reference substrate is imaged on which a two-dimensional pattern is formed, the displacement of the positioning stage is obtained from the two-dimensional pattern acquired from the above imaging, the position of the positioning stage is two-dimensionally corrected on the basis of the above displacement, and the irradiation position of a laser beam is corrected.例文帳に追加

二次元パターンが形成された基準基板の画像を撮像し、この撮像で得た二次元パターンから位置決めステージの位置ずれを求め、この位置ずれに基づいて位置決めステージの位置を二次元で校正し、レーザー光の照射位置の位置補正を行う。 - 特許庁

To sufficiently enhance visibility in a road face of a vehicle in front in turning travel, in a vehicular headlight system provided with an auxiliary lamp unit for conducting beam emission using an auxiliary luminous intensity distribution pattern for intensifying lightness in a side end part of a headlamp light distribution pattern.例文帳に追加

ヘッドランプ配光パターンの側端部の明るさを補強する補助配光パターンでビーム照射を行う補助灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、旋回走行時における車両前方路面の視認性を十分に高める。 - 特許庁

In the automatic focusing mechanism, a sample to be inspected 10 in which a pattern is formed is mounted to a mounting part 12, and a pattern-formed surface of the sample to be inspected 10 is irradiated with a light beam for observation which has passed through a slit 20 formed in a field stop 16.例文帳に追加

自動焦点調節機構においては、パターンが形成された検査対象試料１０が載置部１２に載置され、検査対象試料１０のパターン形成面に視野絞り１６に形成されたスリット２０を通過した観察用光ビームが照射される。 - 特許庁

A mask 10 having a machining pattern for a laser machining is formed of a mask member layer 12 made of a metallic material having the machining pattern and a first and a second base plate members 11 and 13, composed of a laser beam transmissible material, which clamp the mask member layers on the upper and lower faces.例文帳に追加

レーザ加工用の加工パターンを持つマスク１０を、前記加工パターンを持つ金属材料によるマスク部材層１２と、該マスク部材層を上下両面から挟んでいるレーザ光の透過材料より成る第１、第２の基板部材１１、１３とで形成した。 - 特許庁

In the manufacturing method of a conductive pattern forming substrate, a laser beam L of extremely short pulses with the pulse width being less than 1p second is irradiated in a given pattern on a transparent conductive layer A_1, made of an organic conductor formed on at least one surface of a transparent base material A_2.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

Since the permissible range of the energy is narrow with the photosensitive material, such as the X-ray film 12, the formation of the dot pattern at the point of the time the transient period is past by the previous irradiation with the laser beam LB is extremely effective in forming the dot pattern of the adequate shape.例文帳に追加

Ｘレイフィルム１２等の感光材料では、エネルギーの許容範囲が狭いため、予めレーザービームＬＢを照射して過渡期を過ぎた時点でドットパターンを形成することは、適正な形状のドットパターンを形成する上で非常に有効である。 - 特許庁

A thermic ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to thermic rays, a thermic ray shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な熱線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁