「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(560ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor wafer polishing pad for a polishing process of flattening micro unevenness of a fine pattern formed on a semiconductor wafer, which meets a need for incompatible properties of uniformity of an amount of polishing on the whole surface of the wafer and of unevenness- flattening on a minute region, and causes few scratches.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、ウエハ全面内において研磨量の均一性と、微小領域での凹凸平坦化特性という相反する要求に応え、なおかつスクラッチの発生の少ない半導体ウエハ研磨用パッドを提供するものである。 - 特許庁

A wavefront control part 20d of a control device 20 controls a phase modulation module 100 of a wavefront forming light source 10 based on data of an aberration cancel pattern for canceling desired aberration, generates detection light having the wavefront required for determining the contribution degree to the desired aberration of the lens L, and allows the lens L to be irradiated therewith.例文帳に追加

制御装置２０の波面制御部２０ｄは、所望の収差をキャンセルするための収差キャンセルパターンのデータに基づいて波面成形光源１０の位相変調モジュール１００を制御し、レンズＬの当該所望の収差に対する寄与度を判定するために必要な波面を有する検出光を生成させ、レンズＬに照射させる。 - 特許庁

The mask for lithography has divided patterns B1 to B5, and B9 formed by dividing an exposure pattern into a plurality of patterns and combines divided patterns for exposure, and divided parts of the divided patterns are characterized in that the divided patterns S1 and S2 mesh each other and opposite sides of the divided patterns are inverse patterns S2 and S3 which can mesh each other.例文帳に追加

露光パターンを複数に分割して形成される分割パターンＢ１〜Ｂ５、Ｂ９を有し、分割パターンを組み合わせて露光を行うためのリソグラフィ用マスクであって、分割パターンの分割部は分割パターンどうしＳ１、Ｓ２がかみ合う形状となっており、分割パターンの対向する辺は互いにかみ合わせ可能な逆パターンＳ２、Ｓ３となっている。 - 特許庁

Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.例文帳に追加

また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁

This biometric collating device for deciding whether or not a figure is the principal by using a face image is configured so that when the face region of an input image is positioned and sized suitably for collation, a circular pattern in green can be displayed in the same size as the size of the face image so as to be overlapped with the face region of the input image.例文帳に追加

顔画像を用いて当該人物が本人であるか否かを判定する生体照合装置において、入力画像の顔領域が照合に適した位置、大きさになったときに、顔領域の大きさと同じ大きさで緑色の円状パターンを、このときの入力画像の顔領域に重ね合わせて表示する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein the problems are prevented such as a short circuit, an adhesion failure, and focus deviation etc., due to over-etching of wiring because the areas of overlapping regions for connection are randomly different, in a method for forming fine wiring which is a test pattern and wide leads connected to it on a semiconductor substrate by double exposure using two masks.例文帳に追加

テストパターンである微細配線とそれに繋がる幅広の引き出し配線とを２枚のマスクを用いた２重露光により半導体基板上に形成する方法において、繋ぎ合わせるオーバーラップ領域の面積がランダムに異なっていたため発生していた、配線のオーバーエッチングにより短絡、密着性不良、フォーカスずれ等の諸問題を発生させない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

In order for the learner to perceive changing timing of a single sound interval, a timing stimulation indicating means 012 for indicating timing stimulation 013 which is generated by a timing stimulation generating means 011 and a voice indicating means 007 for indicating a voice data 005 are synchronized, from a segmentation pattern 009 which divides the voice data 005 into a plurality of single sound intervals on a time axis.例文帳に追加

単音区間の切り替わりのタイミングを学習者に知覚させるために、音声データ００５を時間軸上で複数の単音区間に分割するセグメンテーションパターン００９からタイミング刺激生成手段０１１によって生成されたタイミング刺激０１３を呈示するタイミング刺激呈示手段０１２と、音声データ００５を呈示する音声呈示手段００７とを同期させることを特徴とする。 - 特許庁

The letterpress plate for printing includes an adhesive layer formed on one surface of a substrate made of a metal, a solvent-resistant layer formed on the adhesive layer for protecting the adhesive layer, and a resin layer having projections in a prescribed pattern formed on the solvent-resistant layer, wherein a common resin material is used for the main components of the adhesive layer and of the resin layer to increase adhesiveness.例文帳に追加

印刷用凸版であって、金属製の基材の片方の面に接着層が形成され、前記接着層の上に、前記接着層を保護する耐溶剤層が形成され、前記耐溶剤層の上に、所定パターンの凸部を有する樹脂層が形成されており、前記接着層と前期樹脂層の主成分に共通の樹脂材料を使うことにより密着性を高めたことを特徴とする印刷用凸版。 - 特許庁

The composition for resin print for giving a pattern to a cloth surface comprises an aqueous dispersion including a resin chosen from an acrylic resin and a urethane-based resin, wherein when a volatile component is volatilized from the aqueous dispersion to be a solid state, under the condition of 170°C, the torque when adding torsion for 60 seconds by 1°/second while pressing by 0.35 MPa is 0.085 N×m-0.315 N×m.例文帳に追加

布帛表面に模様を付与するための樹脂プリント用組成物であって、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂から選択される樹脂を含む水性分散体からなり、当該水性分散体から揮発性成分を揮発させて固形状態とした際に、１７０℃の条件下で、０．３５ＭＰａでプレスしながらねじりを１°／秒で６０秒加えた時のトルクが、０．０８５Ｎ・ｍ〜０．３１５Ｎ・ｍであることを特徴とする。 - 特許庁

The anti-forgery sticker includes an original sticker designed suitable for a commodity with the sticker attached thereto, an identification number printed on the original sticker, fixed particles attached to and pressed against the original sticker for displaying an identifiable pattern, and a transparent sheet coating the original sticker having the particles press-attached thereto for fixing the particles and preventing any damage.例文帳に追加

本発明の偽造防止用ステッカーは、ステッカーを貼り付ける商品に適するデザインが図案されているステッカー原本と、ステッカー原本に印刷されている固有番号と、ステッカー原本に貼り付けられてから圧着され、固有の模様を表す固定粒子と、圧着された粒子を固定し、毀損を防止するために粒子が圧着されているステッカー原本にコーティングされている透明シートとを含む。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern arrangement method for stencil masks which previously executes the optimum arrangement circuit patterns from a design stage so as to allow the efficient selection of the circuit patterns arranged on the stencil masks used for direct electron beam drawing technique and draws the circuit patterns of high throughput on a wafer with the least possible correction and exchange of the stencil masks and a method for manufacturing semiconductor integrated circuits using the same.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム直接描画技術に用いられるステンシルマスクに配置される回路パターンを効率的に選択できるように、あらかじめ設計段階から回路パターンの最適配置を行うとともに、ステンシルマスクの修正や交換がなるべく少なくスループットの高い回路パターンをウエハー上に描画するステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法を得る。 - 特許庁

A monitoring system 1 includes a measuring sensor 4 installed near a drop line of a consumer 2 for measuring time series data regarding the power consumption, a spectral analysis conducting means 5 for spectrally analyzing the time series data measured by the sensor 4, and an estimating means 6 for the operating state of the electric device based on a pattern of a spectrum obtained by the means 5.例文帳に追加

モニタリングシステム１は、電力需要家２の給電線引込口付近に設置されて消費電力に関する時系列データを測定する測定センサー４と、測定センサー４で測定された時系列データに対してスペクトル解析を行うスペクトル解析実行手段５と、スペクトル解析実行手段５により得られたスペクトルのパターンに基づいて対象電気機器の動作状態を推定する推定手段６とを備える。 - 特許庁

The method for imparting the ID data to the biochemical analysis unit uses a spotting apparatus for dropping the solution including the specific binding material, records the ID data for indicating the type of the specific binding material included in the solution and the type of the drop pattern in an ID data recording adsorptive region 7 of the biochemical analysis unit, and imparts the ID data to the biochemical analysis unit.例文帳に追加

特異的結合物質を含む溶液を、生化学解析用ユニット１に滴下するスポッティング装置を用いて、どのような特異的結合物質を含む溶液が、どのようなパターンで、滴下されたかに関するＩＤデータを、生化学解析用ユニットのＩＤデータ記録用の吸着性領域７に記録し、生化学解析用ユニットに付与することを特徴とする生化学解析用ユニットへのＩＤデータの付与方法。 - 特許庁

The ink jet nozzle comprises a first step for forming an electrically insulating resist pattern 2a on an electroforming supporting substrate 1, a second step for electroforming a basic body of nozzle 3 on the electroforming supporting substrate 1, and a third step for forming an ink repellent treatment layer 4 on the basic body of nozzle 3 by ink repellent surface treatment while connecting the electroforming supporting substrate 1 with the basic body of nozzle 3.例文帳に追加

本発明のインクジェットノズルの製造方法は、電鋳支持基板１上に電気絶縁性のレジストパターン２ａを形成する第１の工程と、電鋳により電鋳支持基板１上にノズル基体３を形成する第２の工程と、電鋳支持基板１とノズル基体３を接続したまま撥インク表面処理によりノズル基体３上に撥インク処理層４を形成する第３の工程とを有する。 - 特許庁

The cleaning sheet 111 for cleaning the head 8 in a printer 1 for recording on a recording medium 2 with ink liquid drops comprises a base member 112, a member 113 for cleaning the head 8 provided in the base member 112, and a judgment pattern 116 provided in the base member 112 and representing printer readable information concerning to cleaning of the head 8.例文帳に追加

記録媒体２にインクの液滴を記録するプリンタ装置１におけるヘッド８をクリーニングするためのクリーニングシート１１１であって、ベース部材１１２と、前記ベース部材１１２に設けられており、前記ヘッド８のクリーニングを行うためのクリーニング部材１１３と、前記ベース部材１１２に設けられており、前記プリンタ装置１が読み取り可能であって前記ヘッド８のクリーニングに関する情報を示す判別パターン１１６とを設ける。 - 特許庁

In an imprint type transfer printer for transferring an irregular pattern formed on a transfer printing plate 1 directly onto the surface of a printed member 2 or onto a resin film formed on the printed member, the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the printed member 2 or the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the resin film formed on the printed member 2 are detected.例文帳に追加

転写印刷版１に形成した凹凸のパターンを、被印刷部材２の面上に直接に、または被印刷部材上に形成された樹脂膜上に転写するインプリント方式の転写印刷装置において、被印刷部材２に対する転写印刷版１の距離および傾き、または被印刷部材２上に形成された樹脂膜に対する転写印刷版１の距離および傾きを検出する。 - 特許庁

A device for cleaning the exposing optical path of an aligner is provided with a supplier 7 which supplies an inert gas into the exposing optical path 2 of the exposure device, and an F_2 laser oscillator 1 which projects exposing light for exposing a prescribed sample to a pattern by means of the exposure device or the other light which is different from the exposing light for cleaning the exposing optical path.例文帳に追加

露光装置の露光光路内に不活性ガスを供給する供給部７と、上記供給部７により不活性ガスが供給された上記露光装置の露光光路２内に、上記露光装置により所定の試料にパターンを露光するための露光光、あるいは露光光とは異なる光を露光光路洗浄のために照射するＦ_２レーザー発振機１とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of obtaining high connection reliability by connecting all bumps definitely, and a member for a circuit substrate for the same without causing a big deformation by a pressure unevenness in the bump series formed on an electronic part to the member for the circuit substrate in which highly precise connection pattern excellent in the dimensional accuracy is formed by laminating a flexible film on a reinforced plate through an organic layer.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせた、寸法精度に優れた高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材に、電子部品上に形成されたバンプ列に圧力ムラによる大きな変形を引き起こすことなく、かつ確実に全てのバンプを接続させることで高い接続信頼性が得られる方法とそのための回路基板用部材を提供すること。 - 特許庁

This exposure device for exposing a substrate to a pattern formed on an original plate using extreme ultraviolet light is characterized by comprising the optical element on which the extreme ultraviolet light is incident, a body tube for supporting the optical element, a chamber for housing the body tube, and partition walls provided in the body tube to surround the optical path of the extreme ultraviolet light without preventing the optical path of the extreme ultraviolet light.例文帳に追加

極端紫外光を用いて原版に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置において、前記極端紫外光が入射する光学素子と、該光学素子を支持する鏡筒と、該鏡筒が収納されるチャンバーと、前記極端紫外光の光路を妨げず、且つその光路を囲むように前記鏡筒内部に設けられた隔壁とを有することを特徴とする。 - 特許庁

This circuit is provided with a memory 10 provided with an additional memory cell for storing defective data bit information on a memory cell, a comparing circuit 20 comparing output data DATO of the memory 10 with its expected value EXP for each data bit, and a BIST circuit 30 generating a required and sufficient test input pattern for detecting the defect of memory cells constituting the memory 10 and the expected value EXP and controlling test sequence.例文帳に追加

メモリセルの不良データビット情報を格納するための付加メモリセルを備えたメモリ１０と、そのメモリ１０の出力データＤＡＴＯとその期待値ＥＸＰをデータビットごとに比較する比較回路２０と、そのメモリ１０を構成するメモリセルの不良を検出するために必要十分なテスト入力パターンおよび上記期待値ＥＸＰを発生しテストシーケンスをコントロールするＢＩＳＴ回路３０とを備えた。 - 特許庁

The device comprises a signal pattern control means 3 for controlling the inspection signal inputting in a plurality of TFT arrays 11 arranged on the substrate 10, and a signal monitoring control means 6 monitoring detection signal obtained from each TFT array for every TFT array by inputting the inspection signal and controlling the input to the TFT array of inspection signal individually for every TFT array based on the monitoring result.例文帳に追加

基板１０上に配列される複数のＴＦＴアレイ１１に入力する検査信号を管理する信号パターン管理手段３と、検査信号の入力により各ＴＦＴアレイから得られる検出信号を各ＴＦＴアレイ毎に監視し、その監視結果に基づいて検査信号のＴＦＴアレイへの入力をＴＦＴアレイ毎に個別に制御する信号監視制御手段６とを備える。 - 特許庁

The access control setting system for setting an access right to a resource 28 in a computer 12 is provided with an access right setting pattern storing part 24 for storing one or more access right setting patterns describing persons permitted to access the resource 28 and the contents of access right and a selection means 21 for selecting one of these access right setting patterns to set the access right.例文帳に追加

計算機１２上のリソース２８に対するアクセス権の設定を行うためのアクセス制御設定システムにおいて、リソースへのアクセス許諾を受ける者及びそのアクセス権内容を記述したアクセス権設定パターンを１以上格納するアクセス権設定パターン格納部２４と、アクセス権の設定を行うために、前記アクセス権設定パターンの何れかを選択する選択手段２１とを備えたアクセス制御設定システム。 - 特許庁

To provide a method for producing a letterpress plate in which a photosensitive resin layer in a portion freed of a mask layer is not affected by oxygen in the air, and by which a letterpress plate having a good fine pattern can be obtained after development, with respect to a method for producing a letterpress plate from a multilayer laminate for producing a letterpress plate including a photosensitive resin layer and a mask layer.例文帳に追加

感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層が空気中の酸素の影響を受けず、現像後に微細で良好なパターンを有する凸版印刷版を得ることができる凸版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method for manufacturing a multilayered wiring board includes the consecutive steps of a step of forming a curing insulation resin layer, a step of selectively forming a via hole in the curing insulation resin layer, a step of etching a metal for a wiring pattern, a step of curing the curing insulation resin layer after etching, and a step of applying a plating treatment for interlayer connection.例文帳に追加

配線パターンが形成された絶縁基材上に、硬化性絶縁樹脂層を設ける工程、該硬化性絶縁樹脂層に選択的にビアホールを形成する工程、配線パターンの金属をエッチングする工程、エッチング後に該硬化性絶縁樹脂層を硬化する工程、およびメッキ処理を行って層間接続を行う工程、をこの順に行うことを特徴とする多層配線基板の製造方法。 - 特許庁

The spray nozzle assembly includes a high impact attachment tube for accelerating liquid flow, a tungsten carbide spray chip at a discharge end of the high impact attachment tube for directing a flat spray pattern, an inlet defined by a strainer at an upstream end of the high impact attachment tube, and a staged vane section intermediate the inlet and the spray chip for reducing liquid turbulence in the flow passageway.例文帳に追加

本発明による噴射ノズルアセンブリは、液体の流れを加速するための耐衝撃性取付管と、フラット噴射パターンを方向付けるために耐衝撃性取付管の排出端にあるタングステンカーバイド噴射先端と、耐衝撃性取付管の上流端のストレーナによって画成される入口と、流路内の液体乱流を緩和するために入口と噴射先端との中間にある多段ベーン部とを含む。 - 特許庁

A manufacturing method includes the steps for forming a connection hole 32 on an interlayer insulating film 31 with an etching mask of a resist film 41 after the resist film 41 with an opening pattern 42 for forming a connection hole is formed in the interlayer insulating film 31 on a silicon substrate 11, and a step for ion-implanting impurities to the silicon substrate 11 with the ion implanting mask of the resist film 41.例文帳に追加

シリコン基板１１上に形成した層間絶縁膜３１上に接続孔を形成するための開口パターン４２を形成したレジスト膜４１を形成した後、レジスト膜４１をエッチングマスクに用いて層間絶縁膜３１に接続孔３２を形成する工程と、レジスト膜４１をイオン注入マスクに用いてシリコン基板１１に不純物をイオン注入する工程とを備えた半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

In a reflective mask blank for EUV lithography where a layer 12 reflecting EUV light, a layer 14 for absorbing EUV light, and a low reflection layer 15 for the inspection light (wavelength 190-260 nm) of a mask pattern are formed on a substrate 11 in this order, the low reflection layer 15 contains hafnium Hf, nitrogen N and oxygen O at content in total of 80 at% or more.例文帳に追加

基板１１上に、ＥＵＶ光を反射する反射層１２と、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層１４と、マスクパターンの検査光（波長１９０〜２６０ｎｍ）に対する低反射層１５が、この順に形成されたＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクであって、前記低反射層が、ハフニウム（Ｈｆ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）を合計含有率で８０ａｔ％以上含有する。 - 特許庁

This device 100 for manufacturing the optical recording medium is provided with a resin substrate 200, the stamper 120 for transferring the prescribed pattern 122 to the resin substrate 200, a heating means 140 for heating the stamper and a cooling means 160 for cooling the stamper so that the means 140 and 160 are made to retreat independently with respect to the stamper.例文帳に追加

樹脂基板２００と、前記樹脂基板に対して所定のパターン１２２を転写するためのスタンパ１２０と、を有する光学式記録媒体の製造装置において、前記スタンパを加熱するための加熱手段１４０と、前記スタンパを冷却するための冷却手段１６０と、が設けられていると共に、これら加熱手段と冷却手段が、前記スタンパに対して、それぞれ独立して退避可能に形成されていることで光学式記録媒体の製造装置１００を構成する。 - 特許庁

The groove depth " D1 " of the projecting part 201 for forming the groove bottom is set deeper than the quantity of the swellings 104 by material flow when the groove is forged and the bottom part 107 of the highly accurate groove pattern is forged by making the material flow of the shaft 101 free.例文帳に追加

溝底成形用凸部２０１の溝深さ「Ｄ１」を、溝の転造成形する際に材料流動による盛り上がり１０４の分量より深く設定し、軸１０１の材料流動を自由として高精度の溝パターン底部１０７を転造成形することによる。 - 特許庁

Consequently, the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or object such as the attributes changing in, for example, the color, the thickness, the shape, and the pattern can be changed according to the zooming operation contents of the browsing person, so the operability of zooming can be improved.例文帳に追加

これにより、例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って変化させることができるので、ズーミングにおける操作性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming an image capable of deforming the image in a predetermined range while holding a rough profile shape so as not to largely collapse a previously prepared pattern to deform the image by a reaction diffusion system by using a computer.例文帳に追加

コンピュータを用いて反応拡散系による画像変形を行うにあたり、あらかじめ用意した模様が大きく崩れないように大まかな輪郭形状を保ったまま、所定の範囲で画像変形を行うことが可能な画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

If data are effectively stored in a backup area 13b when the power is turned on again, a main control circuit board C transmits a power return command 40, left or right pattern specifying commands 34-37, and a player waiting command 41 to a control circuit board D for display in this order.例文帳に追加

電源再入時にバックアップエリア１３ｂにデータが有効に記憶されている場合には、主制御基板Ｃは、表示用制御基板Ｄへ電源復帰コマンド４０、左又は右図柄指定コマンド３４〜３７、客待ちコマンド４１の順番で制御用コマンドを送信する。 - 特許庁

This scanner characteristic evaluating device is characterized in that when receiving irradiation of a laser beam, a mask 62 of a chrome film is arranged on a color glass filter 61 having a property of emitting fluorescence, and a regular test pattern 63 for exposing the color glass filter is formed by an opening part of the mask.例文帳に追加

レーザ光の照射を受けると、蛍光を放出する性質を有する色ガラスフィルタ６１上に、クロム膜のマスク６２が設けられ、マスクの開口部によって、色ガラスフィルタが露出される規則的なテストパターン６３が形成されたことを特徴とするスキャナの特性評価用デバイス。 - 特許庁

As for the wiring pattern 22, there are provided a wire-connecting electrode 22b formed in a mounting surface F side, an external terminal 22c formed in a rear R side and a through-hole electrode 22d which passes through the insulating substrate 21 and connects the wire connecting electrode 22b and the external terminal 22c.例文帳に追加

配線パターン２２としては、搭載面Ｆ側に形成されたワイヤ接続電極２２ｂと、裏面Ｒ側に形成された外部端子２２ｃと、絶縁性基板２１を貫通して、ワイヤ接続電極２２ｂおよび外部端子２２ｃを接続するスルーホール電極２２ｄとが設けられている。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer for which erroneous fault dotting is not performed by having a characteristic checking device and a marking device recognize the same element as a reference element regardless of the arrangement of an element pattern inside the wafer and even in the case that an element size is reduced, and its manufacturing method.例文帳に追加

ウエハ内の素子パターンの配置によらず、又、素子サイズが縮小化された場合でも特性チェック装置とマーキング装置とが同一の素子を基準素子と認識することにより、誤った不良打点を行うことのない半導体ウエハとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor, method, and program for detecting a direction of presence of a border or a pattern or the like around a missing part in an image, capable of performing proper interpolation processing along the direction and increasing the processing speed by reducing number of arithmetic processing times.例文帳に追加

画像の欠陥部の周囲における境界や模様等の存在する方向を検出し、その方向に沿って適切な補間処理を行うことを可能とするとともに、演算処理の回数を抑えて処理速度を高めることが可能な画像処理装置、方法、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

Circuit patterns 210R, 220G, 230B to connect the feeding terminals to the high potential side of respective color emitting diodes connected in series for every color, and a circuit pattern 240C to connect all low potential sides of respective color emitting diodes connected in series to the common terminals are provided.例文帳に追加

直列接続された各色発光ダイオードの高電位側に給電端子を各色毎に接続するための回路パターン２１０Ｒ、２２０Ｇ、２３０Ｂと、直列接続された各色発光ダイオードの全ての低電位側と共通端子を接続するための回路パターン２４０Ｃとが設けられている。 - 特許庁

Reflecting mirror surface treatment is performed on a face 14a opposed to the laser beam, of the reflector 14, and the reflecting mirror surface 14a is constituted to reflect an outer peripheral part of the laser beam and to change the advancing direction to the direction forming the laser pattern for short distance.例文帳に追加

リフレクター１４は、レーザ光線と対向する面１４ａが反射鏡面処理されており、この反射鏡面１４ａは、レーザ光線の外周部分を反射させて、近距離用のレーザパターンを生成する方向に進行方向を変更するように構成されている。 - 特許庁

Varing cell size is provided to distribute trapped contaminated particles along a distribution pattern for reducing the risk of melting of trapped contaminated particulates during heat concentration and regeneration or minimize the possibility of hot spot meltdown caused by the densely concentration of the trapped particulates.例文帳に追加

様々なセル寸法が、捕獲した汚染粒子を熱集中および再生の間の融解の危険を減少させる分布パターンに沿って分散して、さもなくば捕獲された粒子の高密度集中によりひき起こされるホットスポットメルトダウンを最小にするために設けられる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method capable of reducing a cost required for a transfer process and minimizing influence upon a metal pattern to improve the reliability of a product by using a substance that varies adhesion with temperature as an adhesion layer in transferring a circuit.例文帳に追加

回路を転写することにおいて、温度に応じて粘着力が変化する物質を粘着層として用いることにより、転写工程に必要とする費用を節減でき、金属パターンへの影響を最小化して製品の信頼度を向上できる、印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A material having a spectral transmittance of 70% or higher to detection light and having a spectral transmittance of 50% or lower to part of light having a visible wavelength (for example, blue light) is adopted in a translucent part relative to at least a code pattern of the code disc in the optical encoder.例文帳に追加

光学式エンコーダにおけるコード板の少なくともコードパターンについて、透光部において、検出光に対し７０％以上の分光透過率を有し、且つ、可視波長の一部の光（例えば青色光）に対して５０％以下の分光透過率を有しているものを採用する。 - 特許庁

To prevent losing of interest due to performance corresponding to a special ready-for-winning variable display pattern of carrying out performance of suggesting that the result of the variable display of identification information becomes a second specific display mode or a non-specific display mode.例文帳に追加

識別情報の可変表示の結果が第２の特定表示態様又は非特定表示態様となることを示唆する演出が実行される特別リーチ可変表示パターンに対応する演出による興趣の減退を防止することができる遊技機及びシミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide the forming method and device for a cloth-tone sheet, in which the pattern represented by a cloth braided with warp yarn and weft yarn is produced so as to allow to falsely form a cloth-tone sheet having enough depth and neither wrinkles nor slops by means of a computer.例文帳に追加

縦糸と横糸により織られてできる布地を表現したシートの作成に関し、コンピュータを用いて擬似的に、充分な深さを持ち、かつ、皺やよれのない布地調シートを自由なデザインで作成可能な布地調シートの作成方法および装置を提供する。 - 特許庁