「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(561ページ目) - Weblio英語例文検索

This device 100 for manufacturing the optical recording medium is provided with a resin substrate 200, the stamper 120 for transferring the prescribed pattern 122 to the resin substrate 200, a heating means 140 for heating the stamper and a cooling means 160 for cooling the stamper so that the means 140 and 160 are made to retreat independently with respect to the stamper.例文帳に追加

樹脂基板２００と、前記樹脂基板に対して所定のパターン１２２を転写するためのスタンパ１２０と、を有する光学式記録媒体の製造装置において、前記スタンパを加熱するための加熱手段１４０と、前記スタンパを冷却するための冷却手段１６０と、が設けられていると共に、これら加熱手段と冷却手段が、前記スタンパに対して、それぞれ独立して退避可能に形成されていることで光学式記録媒体の製造装置１００を構成する。 - 特許庁

The groove depth " D1 " of the projecting part 201 for forming the groove bottom is set deeper than the quantity of the swellings 104 by material flow when the groove is forged and the bottom part 107 of the highly accurate groove pattern is forged by making the material flow of the shaft 101 free.例文帳に追加

溝底成形用凸部２０１の溝深さ「Ｄ１」を、溝の転造成形する際に材料流動による盛り上がり１０４の分量より深く設定し、軸１０１の材料流動を自由として高精度の溝パターン底部１０７を転造成形することによる。 - 特許庁

Consequently, the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or object such as the attributes changing in, for example, the color, the thickness, the shape, and the pattern can be changed according to the zooming operation contents of the browsing person, so the operability of zooming can be improved.例文帳に追加

これにより、例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って変化させることができるので、ズーミングにおける操作性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming an image capable of deforming the image in a predetermined range while holding a rough profile shape so as not to largely collapse a previously prepared pattern to deform the image by a reaction diffusion system by using a computer.例文帳に追加

コンピュータを用いて反応拡散系による画像変形を行うにあたり、あらかじめ用意した模様が大きく崩れないように大まかな輪郭形状を保ったまま、所定の範囲で画像変形を行うことが可能な画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

If data are effectively stored in a backup area 13b when the power is turned on again, a main control circuit board C transmits a power return command 40, left or right pattern specifying commands 34-37, and a player waiting command 41 to a control circuit board D for display in this order.例文帳に追加

電源再入時にバックアップエリア１３ｂにデータが有効に記憶されている場合には、主制御基板Ｃは、表示用制御基板Ｄへ電源復帰コマンド４０、左又は右図柄指定コマンド３４〜３７、客待ちコマンド４１の順番で制御用コマンドを送信する。 - 特許庁

This scanner characteristic evaluating device is characterized in that when receiving irradiation of a laser beam, a mask 62 of a chrome film is arranged on a color glass filter 61 having a property of emitting fluorescence, and a regular test pattern 63 for exposing the color glass filter is formed by an opening part of the mask.例文帳に追加

レーザ光の照射を受けると、蛍光を放出する性質を有する色ガラスフィルタ６１上に、クロム膜のマスク６２が設けられ、マスクの開口部によって、色ガラスフィルタが露出される規則的なテストパターン６３が形成されたことを特徴とするスキャナの特性評価用デバイス。 - 特許庁

As for the wiring pattern 22, there are provided a wire-connecting electrode 22b formed in a mounting surface F side, an external terminal 22c formed in a rear R side and a through-hole electrode 22d which passes through the insulating substrate 21 and connects the wire connecting electrode 22b and the external terminal 22c.例文帳に追加

配線パターン２２としては、搭載面Ｆ側に形成されたワイヤ接続電極２２ｂと、裏面Ｒ側に形成された外部端子２２ｃと、絶縁性基板２１を貫通して、ワイヤ接続電極２２ｂおよび外部端子２２ｃを接続するスルーホール電極２２ｄとが設けられている。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer for which erroneous fault dotting is not performed by having a characteristic checking device and a marking device recognize the same element as a reference element regardless of the arrangement of an element pattern inside the wafer and even in the case that an element size is reduced, and its manufacturing method.例文帳に追加

ウエハ内の素子パターンの配置によらず、又、素子サイズが縮小化された場合でも特性チェック装置とマーキング装置とが同一の素子を基準素子と認識することにより、誤った不良打点を行うことのない半導体ウエハとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor, method, and program for detecting a direction of presence of a border or a pattern or the like around a missing part in an image, capable of performing proper interpolation processing along the direction and increasing the processing speed by reducing number of arithmetic processing times.例文帳に追加

画像の欠陥部の周囲における境界や模様等の存在する方向を検出し、その方向に沿って適切な補間処理を行うことを可能とするとともに、演算処理の回数を抑えて処理速度を高めることが可能な画像処理装置、方法、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

Circuit patterns 210R, 220G, 230B to connect the feeding terminals to the high potential side of respective color emitting diodes connected in series for every color, and a circuit pattern 240C to connect all low potential sides of respective color emitting diodes connected in series to the common terminals are provided.例文帳に追加

直列接続された各色発光ダイオードの高電位側に給電端子を各色毎に接続するための回路パターン２１０Ｒ、２２０Ｇ、２３０Ｂと、直列接続された各色発光ダイオードの全ての低電位側と共通端子を接続するための回路パターン２４０Ｃとが設けられている。 - 特許庁

Reflecting mirror surface treatment is performed on a face 14a opposed to the laser beam, of the reflector 14, and the reflecting mirror surface 14a is constituted to reflect an outer peripheral part of the laser beam and to change the advancing direction to the direction forming the laser pattern for short distance.例文帳に追加

リフレクター１４は、レーザ光線と対向する面１４ａが反射鏡面処理されており、この反射鏡面１４ａは、レーザ光線の外周部分を反射させて、近距離用のレーザパターンを生成する方向に進行方向を変更するように構成されている。 - 特許庁

Varing cell size is provided to distribute trapped contaminated particles along a distribution pattern for reducing the risk of melting of trapped contaminated particulates during heat concentration and regeneration or minimize the possibility of hot spot meltdown caused by the densely concentration of the trapped particulates.例文帳に追加

様々なセル寸法が、捕獲した汚染粒子を熱集中および再生の間の融解の危険を減少させる分布パターンに沿って分散して、さもなくば捕獲された粒子の高密度集中によりひき起こされるホットスポットメルトダウンを最小にするために設けられる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method capable of reducing a cost required for a transfer process and minimizing influence upon a metal pattern to improve the reliability of a product by using a substance that varies adhesion with temperature as an adhesion layer in transferring a circuit.例文帳に追加

回路を転写することにおいて、温度に応じて粘着力が変化する物質を粘着層として用いることにより、転写工程に必要とする費用を節減でき、金属パターンへの影響を最小化して製品の信頼度を向上できる、印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A material having a spectral transmittance of 70% or higher to detection light and having a spectral transmittance of 50% or lower to part of light having a visible wavelength (for example, blue light) is adopted in a translucent part relative to at least a code pattern of the code disc in the optical encoder.例文帳に追加

光学式エンコーダにおけるコード板の少なくともコードパターンについて、透光部において、検出光に対し７０％以上の分光透過率を有し、且つ、可視波長の一部の光（例えば青色光）に対して５０％以下の分光透過率を有しているものを採用する。 - 特許庁

To prevent losing of interest due to performance corresponding to a special ready-for-winning variable display pattern of carrying out performance of suggesting that the result of the variable display of identification information becomes a second specific display mode or a non-specific display mode.例文帳に追加

識別情報の可変表示の結果が第２の特定表示態様又は非特定表示態様となることを示唆する演出が実行される特別リーチ可変表示パターンに対応する演出による興趣の減退を防止することができる遊技機及びシミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide the forming method and device for a cloth-tone sheet, in which the pattern represented by a cloth braided with warp yarn and weft yarn is produced so as to allow to falsely form a cloth-tone sheet having enough depth and neither wrinkles nor slops by means of a computer.例文帳に追加

縦糸と横糸により織られてできる布地を表現したシートの作成に関し、コンピュータを用いて擬似的に、充分な深さを持ち、かつ、皺やよれのない布地調シートを自由なデザインで作成可能な布地調シートの作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

A fiber sheet having a natural stone-like pattern preliminarily printed thereon is cut to form flat granular decorative particles and these decorative particles are compounded with a curable resin liquid to prepare a compound for the decorative molded article and this compound is cured and molded.例文帳に追加

予め天然石調の模様が印刷された繊維シートを切断して扁平粒子状の加飾用粒子を作製した後に、該加飾用粒子を硬化性樹脂液に配合して加飾成形品用コンパウンドを作製し、該加飾成形品用コンパウンドを硬化成形してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an embroidery thread excellent in strength in overedging of an embroidery pattern as compared with those of conventional nylon or rayon embroidery threads, capable of reducing its thickness, and capable of improving the appearance quality of a product, and touch and texture of an overedge part using the same for sewing up the overedge of the embroidery patterns.例文帳に追加

刺繍柄の縁かがりにおいて、従来のナイロンやレーヨンの刺繍糸に比べて強度に優れ、太さを細くすることができ、刺繍柄縁かがりの縫い合せに使用して製品の外観品位と縁かがり部の風合触感を改善することが可能な刺繍用縫い糸を提供する。 - 特許庁

When a means for floating the substrate above the chuck by utilizing air force is provided and the substrate is held in non-contact, impairment of flatness and creasing of the substrate, which may occur due to contact conditions, are prevented and thereby the substrate can be exposed with high accuracy by using an exposure pattern.例文帳に追加

基板をチャック上に空気力を利用して基板を浮上させる手段を設けて、非接触で基板を保持することにより、接触状態により発生する可能性がある平坦度の棄損と皺の発生を防ぎ、露光パターンを高精度で基板に露光することができる。 - 特許庁

This is a motor torque control method which performs control by making the range of the quantity of torque compensation for a torque pattern narrower than specified, and returning the quantity of torque compensation to the specified value in a specified time after reaching a target rotating speed, when the target rotating speed of the motor is changed from a low speed to a high speed.例文帳に追加

モータの目標回転数を低速から高速に変化させるとき、上記トルクパターンのトルク補償量の幅を所定値よりも一旦狭くし、目標回転数に到達して所定時間経過後、トルク補償量を所定値に戻すことを特徴とするモータのトルク制御方法である。 - 特許庁

Then the Cu film 5 is etched by using a second wiring resist pattern 6 for a mask to embed the Cu film 5 into the via-holes 3 and the trenches 4, and a second wiring layer 7 is formed at the same time when vias 3a of the dual damascene structure and a first wiring layer 4a are formed.例文帳に追加

その語、第２配線用レジストパターン６をマスクとしてＣｕ膜５をエッチングすることにより、ビア３および第１配線用トレンチ４内にＣｕ膜５を埋め込んで、デュアルダマシン構造のビア３ａおよび第１配線層４ａを形成するのと同時に第２配線層７を形成する。 - 特許庁

In the client, drawing data of the pop-up window P on the drawing data G for display developed on a frame buffer is read according to the window area information received from the server, and displayed by fitting its size on an input device (soft keyboard) 27 in which an arrangement pattern of a key is normally displayed.例文帳に追加

クライアントでは、サーバから受信されたウインドウ領域情報に従い、フレームバッファに展開されている表示用描画データＧ上のポップアップウインドウＰの描画データが読み出され、通常はキーの配列パターンが表示される入力装置(ソフトキーボード)２７にそのサイズを合わせて表示される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition suitable for the formation of an interlayer insulating film having high heat resistance, high solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant, and having a large development margin that allows formation of a favorable pattern even when a developing time exceeds the optimal developing time in a developing process.例文帳に追加

高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率及び低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できる大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

When detecting an object by inter-scan integral 31 of radar beam scanning, a pattern wherein the object T is moved in the distance direction during scanning is predicted beforehand, and distance correction data for correcting the distance so as to compensate the movement are housed in a target movement correction value table 4.例文帳に追加

レーダビーム走査のスキャン間積分（３１）により目標物を検出する際、スキャン走査の間に、目標物Ｔが距離方向に移動するパターンを予め予測し、その移動を相殺するように距離補正するための距離補正データを目標運動補正値テーブル４に格納する。 - 特許庁

Based on an image (inspection image data 102) obtained by imaging a substrate under inspection, the generating part 201 performs outline smoothing process for a pad pattern to be inspected and generates inspection mask data 103 by finding a logical sum of reference mask data 101 generated by the generating part 200.例文帳に追加

検査マスク生成部２０１が検査対象基板を撮像した画像（検査画像データ１０２）に基づいて、検査すべきパッドパターンに対して輪郭平滑化処理を行い、基準マスク生成部２００により生成された基準マスクデータ１０１との論理和をとって、検査マスクデータ１０３を生成する。 - 特許庁

A filtering processing generating means 20 generates the filtering processing for removing components having a feature amount larger than a feature amount in an area corresponding to a sample pattern 12 and a feature amount smaller than it therein, based on an image obtained by executing a plurality of processings according to the processing procedure to an original image.例文帳に追加

フィルター処理生成手段２０は、原画像１１に処理手順に従う複数の処理を実行して得られる画像から、サンプル図形１２に対応する領域の特徴量よりも大きな特徴量および小さな特徴量を有する成分を除去するフィルター処理を生成する。 - 特許庁

A mark 14 of a symmetrical shape such as a square frame pattern for inspection which deforms when a barrel 11 is caulked is engraved with a press machine or the like on the outer surface of a bottom face 12 of a crimping terminal 10 so as not to be scraped off by caulking.例文帳に追加

圧着端子１０の底面部１２の外表面には、バレル１１が加締められたときに変形を生じる検査用の四角状の枠型等の左右対象な形状であるマーク１４が加締めによって消えることのない様にプレス機等により刻設されている。 - 特許庁

To provide a substrate which can prevent variation of capacity and reduction of aperture ratio caused by misalignment of a mask pattern, when the substrate is used for a planar display device and which can maintain good display characteristics even in a large-size high-definition planar display device.例文帳に追加

平面表示装置用のアレイ基板及びその製造方法において、マスクパターンの位置合わせズレに起因する容量変動や開口率の低下を防止することができ、大型かつ高精細の平面表示装置にあっても良好な表示特性を確保できるものを提供する。 - 特許庁

This alignment mark is formed in a manner whereby a a first film (insulating film) 2 transparent to light for mask alignment is formed on the prescribed region of a semiconductor substrate, and a second film (conductive film) 4 which is formed like a diffraction grating pattern composed of islands and provided on the first film 2 to reflect the mask aligning light.例文帳に追加

半導体基板１上の所定の領域に、マスク合わせ用の光に対して透明性の第１の膜（絶縁膜２）を形成し、その第１の膜上に、複数の島状体からなる回折格子パターンで、マスク合わせ用の光を反射する第２の膜（導電膜４）を形成する。 - 特許庁

To reduce image quality degradation due to beating caused by ink overlap by planning a mask pattern used for completing an image in a predetermined region of a recording medium with a plurality of times of scanning of a first and a second nozzle group (C nozzle group, M nozzle group).例文帳に追加

インクを吐出するための第1および第２のノズル群（Ｃノズル群、Ｍノズル群）の複数回の走査によって記録媒体の所定領域の画像を完成させるために用いるマスクパターンを工夫することによって、インクの重なりに起因するビーディングによる画質劣化を軽減する。 - 特許庁

To enhance the fun of games by diversifying the contents of the games in a game machine such as a slot machine which is provided with a plurality of variable display parts for displaying variable display images with a plurality of figures and offers a game using a plurality of valid lines in a straight pattern such as longitudinal, lateral or oblique one.例文帳に追加

複数の図柄の可変表示画像を表示する可変表示部を複数備え、縦、横または斜めといった直線状パターンの有効ラインを複数用いた遊技を行えるスロットマシン等の遊技機において、遊技の内容に多様性を持たせ、遊技の面白みを高めるようにする。 - 特許庁

To perform satisfactory control to enhance image quality while shortening user's waiting time in an image forming apparatus that has a mechanism for contacting/separating a transfer member and an image carrier each other, and detects a toner pattern on the transfer member, so as to control an image forming condition based on the detected results.例文帳に追加

転写部材と像担持体とを接離させる機構を有し、かつ、転写部材上のトナーパターンを検知し、この検知結果に基づき画像形成条件を制御する画像形成装置において、使用者の待ち時間を低減させつつ、高画質化のための良好な制御がおこなう。 - 特許庁

Since four pixels adjacent to a current point required for tracing the contour of a character pattern can be always read out of 16 pieces of divided memories and utilized, a relative advancing direction CV 201 can be determined from the (x) and (y) coordinates of the current point and an advancing direction CV 201 by a combination circuit.例文帳に追加

文字パタンの輪郭追跡に必要なカレントポイントに隣接する４画素が１６個の分割メモリから常に読み出されて利用できるので、カレントポイントのｘ座標、ｙ座標および進行方向ｃｖ２０１から組み合わせ回路により相対進行方向ｓｖを決定できる。 - 特許庁

To provide a patch transfer medium, easily transferring a patch onto a body to be transferred, and having a cholesteric liquid crystal layer hologram and a reflective pattern layer enabling to simply determine genuineness, in addition to scratch resistance, solvent resistance and the like for protecting a surface of the medium, even when used repeatedly over many times.例文帳に追加

被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なコレステリック液晶層ホログラム及び反射性パターン層を有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁

To obtain a developer for a resist excellent in such dissolution selectivity as to promote solvent power to a part to be dissolved and to inhibit solvent power to a part not to be dissolved even in a fine resist pattern and attaining development in a shorter time and to provide a developing method using the developer.例文帳に追加

微細なレジストパターンにおいても、溶解部に対しては溶解性を促進し、非溶解部に対しては溶解性を抑制するという溶解選択性に優れ、より短い時間で現像できるレジスト用現像液及びこの現像液を用いた現像方法を提供すること。 - 特許庁

The electronic device 10 includes a circuit board 11 having a land 24, connected to a ground pattern at least at one periphery of a plurality of screw holes 25; and a substrate packaging tool 12 for storing the circuit board 11, in an internal space S1 and electromagnetically shielding the circuit board 11.例文帳に追加

電子装置１０は、複数の螺子孔２５における少なくとも一つの周辺にグランドパターンに接続されたランド２４が設けられた回路基板１１と、回路基板１１を内部空間Ｓ１に収容し、回路基板１１の電磁波シールドを行う基板梱包具１２とを備えている。 - 特許庁

To provide satisfactorily dry a substrate surface while preventing the generation of fall of a pattern formed on the substrate surface in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for drying the substrate surface wetted with a liquid using steam of an organic solvent such as IPA (isopropyl alcohol).例文帳に追加

ＩＰＡなどの有機溶剤の蒸気を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面に形成されたパターンの倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To provide a data reproducing apparatus and reproduction output control method in which a function of reproduction output control is realized for removing the same data as or data similar to a data pattern preset as a target to inhibit a reproduction output from digital data of a target to be reproduced.例文帳に追加

予め再生出力の禁止対象として設定したデータパターンと同一又は類似しているするデータを、再生対象のディジタルデータから除去する再生出力制御の機能を実現したデータ再生装置及び再生出力制御方法を提供することにある。 - 特許庁

Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加

その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁

The house information panel 1 installed in each house inside a multiple dwelling house is provided with a reject means, which has sounds in a plurality of patterns, for rejecting back a speaking party by outputting the sound of a prescribed pattern to the speaking party during speaking with the speaking party.例文帳に追加

集合住宅などの各住戸に設置される住宅情報盤１において、複数パターンの音声を有し、通話相手と通話中に、所定パターンの音声を通話相手に出力することによって、その通話相手を撃退する撃退手段を備える構成とした。 - 特許庁

In the device for recording/reproducing the disk whereon a regular and constant-sized reference pattern is recorded on the data area, the servo error of the recording/reproducing device is detected by the ratio of sizes of reproduced signals corresponding to the reference patterns recorded on at least two positions separated away from each other.例文帳に追加

データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁

The deflection yoke apparatus has at least one printed circuit board 4 disposed near a deflection yoke for a correction circuit, wherein a printed wiring pattern 5 which generates magnetic field having canceling direction against the leaked magnetic field from the deflection yoke is formed on the printed circuit board 4.例文帳に追加

偏向ヨークに近接して配置された少なくとも１枚の補正回路用プリント基板４とを備えた偏向ヨーク装置において、補正回路用プリント基板４に、偏向ヨークからの漏洩磁界を打ち消す向きの磁界を発生するプリント配線パターン５が形成されている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device with which no extinction pattern due to liquid crystal molecules is recognizable for a user even when the in-plane component of an orientation direction on voltage application is oriented along a crossed Nicols axis exist in the vertical alignment mode liquid crystal display device.例文帳に追加

垂直配向モードの液晶表示装置において、電圧印加時の配向方向の面内成分がクロスニコルに沿って配向するような液晶分子が存在していても、当該液晶分子に起因する消光模様を使用者が認識できない液晶表示装置を確実に提供する。 - 特許庁

To provide an etching method applicable in a process for etching an organic material film with an inorganic material film serving as a mask, capable of maintaining a high etching rate according to a pattern to be etched with a superior result in shape and in in-plane uniformity, and which is free of inorganic material film exfoliation.例文帳に追加

無機材料膜をマスクとして有機材料膜をエッチングする場合に、エッチングパターンに対応して、高いエッチングレートを維持しつつ、良好なエッチング形状で、良好な面内均一性でかつ無機材料膜の膜剥がれが生じずにエッチングすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁