「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a method for estimating a range of breaking stress capable of obtaining the range of breaking stress of an object material to be evaluated that may be fatigue broken under an oxidizing atmosphere with a high temperature through a rational and relatively versatile examination process.例文帳に追加

高温酸化雰囲気下で疲労破壊に至ることがある評価対象材料の破壊応力範囲を、合理的かつ比較的汎用性のある試験工程を経て得ることができる破壊応力範囲の推定方法を得る。 - 特許庁

To provide ITO powder in which the grains are dispersed into the ones with fine grain sizes by a simple treatment process, and capable of obtaining a transparent conductive film having satisfactory crystallinity even at low heating temperature, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

簡単な処理方法によって、微細な粒径の粒子に分散化するとともに、低い加熱温度であっても結晶性が良好な透明導電膜を得ることができるＩＴＯ粉末およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a two-layered flexible copper clad laminated sheet possible to handle at a high temperature even if the thickness of a copper foil is reduced and having both of handleability and bending properties so as to be softened in a final manufacturing process.例文帳に追加

銅箔の板厚が薄くなった場合でも、高温でのハンドリングが可能でかつ最終製造工程において軟化するような、ハンドリング性と屈曲性の双方を兼ね備えた二層フレキシブル銅張積層板を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a process for through-dyeing of cotton warp yarns with indigo in an indigo dyeing range, which comprises dyeing in one pass at a dyeing temperature of 30-90°C and an indigo concentration of 10-60 g/l.例文帳に追加

本発明は、インディゴ染色レンジ中でインディゴを用いて綿のたて糸を通し染色するための方法に関し、本方法は、染色温度３０〜９０℃、かつインディゴ濃度１０〜６０ｇ／Ｌで、１パスで染色することを含む。 - 特許庁

In the process, a silicon oxide film having an organic group coupled with a silicon atom is preferably used as the low dielectric constant interlayer insulating film, and an organic matter having a thermal cracking temperature lower than that of the organic group is preferably used as the source of the hole.例文帳に追加

ここで、低誘電率層間絶縁膜として、シリコン原子と結合した有機基を有するシリコン酸化膜を用い、空孔源として、この有機基よりも熱分解温度が低い有機物を用いるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a peeling method of peeling, at a relatively low temperature, a resist of poor peeling property, without eroding a semiconductor material such as a low dielectricity interlayer insulating film, in a wiring process of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の配線工程において、低誘電率層間絶縁膜等の半導体材料を腐食することなく、比較的低温で、剥離性の悪いレジストを剥離することのできるレジストの剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor which has a good voltage resistance characteristic and is equipped with a gate insulating layer which can be formed in a liquid-phase process without high temperature treatment, a reliable electronic circuit, a display unit and an electronic apparatus.例文帳に追加

優れた耐電圧特性を有し、液相プロセスを用いて高温による熱処理を行うことなく形成し得るゲート絶縁層を備える薄膜トランジスタ、信頼性の高い電子回路、表示装置、および、電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a filter and a filter control method by which the characteristic of the filter can be made constant independently of fluctuations in a power supply voltage and dispersion in the process and its temperature characteristic and to provide a receiver employing the filter as above.例文帳に追加

電源電圧の変動や、プロセス上や温度特性上のバラツキにかかわらず、その特性を一定とすることができるフィルタ装置及びフィルタ制御方法、及びこのようなフィルタ装置を用いた受信装置を提供する。 - 特許庁

To provide a food machine for controlling a supply quantity of cooling water supplied to a heat exchanger corresponding to a change of a vapor generation quantity, a change of an object to be treated in type and a quantity and change of the cooling water in temperature in a cooling process.例文帳に追加

冷却工程における蒸気発生量の変動、被処理物の種類や量の変化、および冷却用水の温度変化に対応して熱交換器への冷却用水の供給量を制御する食品機械の提供。 - 特許庁

To provide a method for effectively extracting water-soluble extract components under normal temperature without using an organic solvent such as alcohol for an extraction solvent and without bringing heating operation into an extraction process of an animal/plant raw material.例文帳に追加

抽出溶媒にアルコール等の有機溶媒を用いず、また、動・植物原料の抽出工程中は加熱操作を伴わずに常温のもとで効率よく水溶性エキス成分を抽出し得る方法を提供する。 - 特許庁

In the process, the supercritical fluid is obtained by pressurizing a fluid (for example, CO_2) and/or raising the temperature of the fluid and the organic EL elements are dissolved and removed from the metal mask by bringing the obtained supercritical fluid into contact with the organic EL element-stuck metal mask.例文帳に追加

その流れとして、流体（例えばＣＯ^２）に圧力および／または温度を付加して、超臨界流体とし、有機ＥＬ素子が付着したメタルマスクに接触させ、有機ＥＬ素子を溶解しメタルマスクから取り除く。 - 特許庁

The process (a) is provided by putting-in an ultra high molecular weight polyethylene 30 into an open roll 1 having a roll 20 set at a first temperature for winding the polymer over the roll 20, further putting-in carbon nanofibers 40 and mixing to obtain a mixture.例文帳に追加

工程（ａ）は、第１の温度の設定されたロール２０を有するオープンロール１に、超高分子量ポリエチレン３０を投入して該ロール２０に巻きつかせ、さらにカーボンナノファイバー４０を投入し、混合して混合物を得る。 - 特許庁

To provide a clock phase shift circuit which can adjust a phase shift of an input clock without depending upon fluctuations of a process condition, a power supply voltage, a temperature or the like and has an occupancy area smaller than that when using a conventional DLL circuit.例文帳に追加

プロセス条件、電源電圧、温度等の変動によらず、入力クロックの位相シフトの調整ができ、かつ、従来のＤＬＬ回路を用いた場合と比較して占有面積の小さいクロック位相シフト回路を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method, in an embedded growth process, capable of preventing the loss of the uniformity of the temperature in the growth space region by thermal radiation, to thereby prevent a crack of silicon carbide monocrystal.例文帳に追加

埋め込み成長において、熱輻射によって成長空間領域の均熱が保たれなくなることを防止し、ひいては炭化珪素単結晶の割れを防止することができる製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

And the glass composite is made a glass composite that has an operating point that is 30°C or more lower and 70°C or less higher than the firing temperature of the sealing process, and sealing is made by a sealing member containing this.例文帳に追加

また、ガラス組成物を、封着工程の焼成温度より３０℃低い温度以上、７０℃高い温度以下の作業点を有するガラス組成物とし、これを含む封着部材で封着することを特徴とする製造方法である。 - 特許庁

In this result, in the coating process for lubricator preformed after separating the product from the dies, the necessary die temperature is held, and moisture in the lubricator is smoothly vaporized and the good lubricated film can be generated on the dies.例文帳に追加

その結果、金型から製品を離型した後に実施される潤滑剤の塗布工程において、必要な金型温度を保持し、潤滑剤の水分を円滑に気化させて、金型に良好な潤滑剤皮膜を生成することができる。 - 特許庁

Since the temperature increasing rate is set to a level as high as about 50°C/min in the present burning method, there is little formation of seed crystal from amorphous silica fiber contained in the green sheet 12 in the heating process and little growth of seed crystal if any.例文帳に追加

昇温速度が 50(℃／分) 程度と高い値に設定されていることから、昇温過程において未焼成シート１２に含まれる非晶質シリカ繊維からは種晶が生成し難く、且つ生成した種晶も成長し難い。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition that does not cause coloring or deterioration of the physical properties during the molding process and gives a molded article which does not suffer from such defects even when the molded article is subjected to heat treatment under a high temperature and a high humidity.例文帳に追加

本発明は、成形時における着色や物性低下を起こさず、成形品としたときに、高温高湿下で熱処理されても不具合が生じない熱可塑性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide heat-resistant filter paper for an air filter manufactured by a wet papermaking process, having high strength and reduced in dusting even at a high temperature exceeding 400°C and stably used over a long period of time.例文帳に追加

湿式抄造により製造されるエアフィルタ用濾紙であって、４００℃を超える高温においても、高強度で発塵が少なく、長期にわたり安定的に使用することができるエアフィルタ用耐熱濾紙を提供する。 - 特許庁

In the first process, the burning is performed at a burning temperature of 200-400°C and at a holding time of 0.5-10 hr.例文帳に追加

第１工程は、焼成温度が２００〜４００℃かつ保持時間が０．５〜１０時間で焼成する工程であり、第２工程は、第１工程より後に行われ、焼成温度が３００〜４５０℃かつ保持時間が０．５〜１０時間で焼成する工程である。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyester which is excellent in long-term continuous moldability and can give a molded article, particularly a heat-resistant hollow molded article, excellent in transparency and high- temperature dimensional stability and undergoing little change in the rate of crystallization.例文帳に追加

長時間連続成形性に優れ、透明性および耐熱寸法安定性に優れ、結晶化速度変動が少ない成形体、特に耐熱性中空成形体を得ることができるポリエステルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the heating/temperature rising process of a ceramic crucible containing carbon or a carbon compound, concentration of CO_2 or CO in purge air flowing around the crucible varies upon occurrence of an abnormality, e.g. crack or flaking, on the outer surface of the crucible.例文帳に追加

カーボン又はカーボン化合物を含むセラミック製のルツボを加熱昇温する工程において、ルツボの外表面にクラックや剥離等の異常が生ずるとルツボの周囲を流れるパージ空気中のＣＯ_2又はＣＯの濃度が変化する。 - 特許庁

First, a measurement value obtained inaccurately from the parasitic components R1, R2 is compensated during a manufacturing process, such as an electrical final inspection in an electronic power circuit, regarding the current/temperature dependency or voltage dependency of the components.例文帳に追加

初めに、該寄生構成要素Ｒ１、Ｒ２から不正確に得られた測定値を、該構成要素の電流／温度依存性または電圧依存性に関して、製造工程（例えば、電子電力回路での電気系最終検査）中に補償する。 - 特許庁

To provide a method for culturing by which a gas is scarcely generated in a fermentation process by carrying out fermentation of photosynthetic bacteria at normal temperature under atmospheric pressure with a transparent (an acrylic, glass, etc.) water tank and to provide a cultured aqueous solution.例文帳に追加

光合成細菌を透明（アクリル、ガラス等）な水槽を使用して、大気圧で常温にて発酵させることにより発酵過程においてガスがほとんど発生すること無く培養する方法と培養された水溶液を提供する。 - 特許庁

High-temperature surface layer water of a reservoir is pumped up by a storage pump 1, an acid is added in an adequate amount to the pumped water to adjust the pH to 4-6, and the obtained acidic water is returned to the surface layer of the reservoir to make the pH of the surface layer water neutral or weak acidic in the process of mixing diffusion.例文帳に追加

酸を添加するには、表層のｐＨをｐＨ計6 で測定し、ｐＨ調節計2 の信号によりポンプあるいはバルブよりなる酸調整装置3 を制御し、酸を混合槽4 へ供給して水と混合する。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal aligning agent which allows low temperature baking, has good orientability of liquid crystals and can form, by a printing process, a liquid crystal alignment layer having short afterimage-erasing time when voltage is applied on liquid crystal cells.例文帳に追加

低温焼成が可能であり、液晶の配向性が良好で、液晶セルの印加時の残像消去時間の短い液晶配向膜を、印刷法による塗膜として形成しうる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a T-die which discharges molten plastic sheets in different temperature according to surfaces of sheet, and to provide an improved process using the T-die for producing various laminated materials e.g. a plastic foam board.例文帳に追加

溶融プラスチックシートを、シートの面によって異なった温度で吐出することが可能なＴ−ダイを提供し、そのＴ−ダイを利用した種々の積層材、たとえばプラスチック気泡ボードの改良された製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-strength Cu-Ga-based sputtering target material for use in manufacturing a light-absorbing thin layer of a solar cell, which can be highly densified by preventing the powder from being melted in a molding process at high temperature, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高温成形時の溶融を抑制することで高密度化を達成できる、太陽電池の光吸収薄膜層を製造するための高強度Ｃｕ−Ｇａ系スパッタリングターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a barrier film of a SiN_x film, which is formed at a low process temperature, has high water vapor barrier performance and high light transmittance, and is useful for sealing of a substrate formed of a flexible organic material, such as a plastic substrate.例文帳に追加

低いプロセス温度で形成でき、高い水蒸気バリア性と高い光透過性とを備え、かつ、プラスチック基板等のフレキシブルな有機材料からなる基板の封止に使用できる、ＳｉＮｘ膜のバリア膜を提供する。 - 特許庁

To provide a lens array for suppressing deformation or peeling of a diaphragm member due to high temperature of a reflow process and preventing optical performance from being deteriorated, and to provide a method for manufacturing the lens array, a lens and a method for manufacturing the lens.例文帳に追加

リフロー工程の高い温度によって絞り部材の変形や剥離が生じることを抑え、光学性能が低下することを抑えられるレンズアレイ及びレンズアレイの製造方法、並びに、レンズ及びレンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

When the wafer 10 is subjected to plasma process in this state, the wafer 10 and tray 11 are both cooled during the plasma processing, so that the wafer 10 is unlikely to have a temperature difference between a center part and an outer peripheral part thereof, thereby improving uniformity of etching.例文帳に追加

この状態でウエハ１０をプラズマ処理すれば、プラズマ処理中にウエハ１０とトレイ１１の両方が冷却されるため、ウエハ１０の中心部と外周部で温度差が生じにくくエッチングの均一性が向上する。 - 特許庁

To provide a novel organopolysiloxane which is volatile, has low-temperature stability, brings about excellent gloss, and has a property excellent in compatibility with an ultraviolet absorber, a process for producing the same, and a cosmetic containing the organopolysiloxane.例文帳に追加

揮発性であり、低温安定性であり、優れた光沢をもたらし、紫外線吸収剤との相溶性に優れる特性を有する新規なオルガノポリシロキサン、その製造法及び該オルガノポリシロキサンを含有する化粧料の提供。 - 特許庁

To provide a spread spectrum clock generating circuit that can easily be designed, facilitate changing a modulation protocol, and efficiently carry out frequency modulation constantly at all times independently of a process, a temperature, and variations in a power supply voltage.例文帳に追加

設計が容易、かつ変調プロファイルの変更も簡単であり、しかもプロセス、温度、電源電圧の変動に関わらず、常に一定の周波数変調を効率的に行うことができるスペクトラム拡散クロック生成回路を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which operation margin of a sense amplifier can be improved by canceling variation of a manufacturing process of threshold voltage of a MOS transistor and property variation of a single-ended sense amplifier due to temperature dependency.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の製造プロセスの変動や温度依存性によるシングルエンドセンスアンプの特性変動をキャンセルすることができ、以って、センスアンプの動作マージンを向上させることができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

In a substrate cleaning process, clean air the relative humidity and temperature of which are controlled is supplied vertically downward toward the surface of the cleaning solution in the cleaning tank, and air in the draft is discharged in a displacement within a prescribed range.例文帳に追加

基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。 - 特許庁

After the temperature of the semiconductor wafer reaches approximately 1,200°C, the wafer is fixed at the stopped position, and oxidation or diffusion process is carried out, while stopping feeding of nitrogen gas and instead, feeding oxygen gas (O2) to the semiconductor wafer.例文帳に追加

そして、半導体ウエハの温度が約１２００゜Ｃに達した後は、停止位置に固定した状態で、窒素ガスの供給を停止し、代わりに酸素ガス（Ｏ2）を半導体ウエハに供給しながら、酸化または拡散処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a titanium oxide photocatalyst thin film by which the photocatalyst thin film can be formed on a base material at a low temperature by a simple process and device, and to provide a laminated body having the titanium oxide photocatalyst thin film on the base material.例文帳に追加

低温でかつ簡便な工程および装置により、基材上に酸化チタン光触媒薄膜を形成する方法を提供すること、さらに、基材に酸化チタン光触媒薄膜を設けた積層体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for regenerating an etching waste liquid produced in a low-temperature etching process, which avoids blockage of a transportation path between a crystallization tank and an etching tank, without providing a special blockage-avoiding means between the tanks.例文帳に追加

晶析槽とエッチング槽との間に特殊な閉塞回避手段を付設することなく、両者間の移送路の閉塞を回避することができる低温エッチングにおいて生成したエッチング廃液を再生する方法の提供。 - 特許庁

Disclosed is a process of making irradiated crosslinked polyethylene by irradiating the polyethylene in contact with a sensitizing environment at an elevated temperature that is below the melting point, in order to reduce the concentration of residual free radicals to an undetectable level.例文帳に追加

本発明は、ポリエチレンを融点を下回る高温にて増感環境と接触させ、残留フリーラジカルの濃度を検出不可能なレベルまで減少させることによる放射線照射架橋ポリエチレンの製造方法が開示する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition excellent in reactivity in transfer molding, and simultaneously excellent in avoidance of involved voids, a high-temperature hardness in demolding and gate breaking property, as an optical semiconductor sealing material, only by a kneading or mixing process.例文帳に追加

光半導体封止材として、混練または混合行程のみでトランスファ成型時の反応性に優れ、同時にボイドの巻き込みの回避、脱型時の高熱時硬度、ゲートブレイク性に優れた硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the metal oxides, smoke produced in the vaporizing process of metal salts which vaporize at high temperature is introduced into a reaction field with a controlled atmosphere so as to allow an oxidation reaction to proceed to produce crystal grains of oxides.例文帳に追加

高温で蒸発する金属塩の蒸発過程に発生したスモークを雰囲気制御した反応場に導入して酸化反応を進行させて酸化物結晶粒子を生成させる金属酸化物の製造法。 - 特許庁

The semiconductor single crystal pulling process comprises the steps of retaining a semiconductor melt 14 in a crucible 13 by melting a semiconductor raw material with a heater 18, and pulling the semiconductor single crystal 11 while controlling the heater 18 based on the temperature profile as set in advance.例文帳に追加

半導体原料をヒータ１８により融解してるつぼ１３に半導体融液１４を貯留し、予め設定された温度プロファイルに基づいてヒータ１８を制御しながら半導体単結晶１１を引上げる。 - 特許庁

To provide a pressure display meter for allowing even a person having no skill to easily perform filling work without requiring a process of calculating proper pressure corresponding to an outside air temperature at refrigerant filling work of an air conditioner.例文帳に追加

空調機の冷媒充填作業時に、外気温度に対応する適正圧力を算出する工程が必要なく、熟練した技術を有さない者でも容易に充填作業を行うことができる圧力表示計を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which enables an insulating film using metal oxide to be crystallized in a low temperature process and can provide an element of improved characteristic on a glass substrate and a plastic substrate.例文帳に追加

金属酸化物を用いた絶縁膜を低温プロセスで結晶化することが可能で、これによりガラス基板やプラスチック基板上に特性の向上が図られた素子を設けることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The invention relates to the manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized in using and arranging a polymer film having different heat setting temperature of a drawing process for each of insulating layers, and the multilayer printed wiring board manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

絶縁層の各層毎に、延伸工程の熱固定温度が異なる高分子フィルム材料を、それぞれ用いて配置することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法と同製造方法による多層プリント配線板。 - 特許庁