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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ratio contactに関連した英語例文

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ratio contactの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 578



例文

To make contact resistance of a contact hole having a high aspect ratio low.例文帳に追加

高アスペクト比のコンタクトホールのコンタクト抵抗を低くする。 - 特許庁

ANALYSIS METHOD OF ONE SIDE-CONTACT RATIO FOR TEETH OF MESHING MECHANISM例文帳に追加

噛合い機構の歯の片当り率の解析方法 - 特許庁

MIXING RATIO OF IONIZED METAL FOR IONIZING CONTACT MATERIAL例文帳に追加

電離接触材のイオン化金属混合比 - 特許庁

Thus, the local ratio of contact between the pin parts in the neighborhood of the rim part and the wafer can approach the local ratio of contact between the rim part and the wafer.例文帳に追加

すなわち、リム部とウエハとの局部的な接触率に、リム部近傍のピン部とウエハとの局部的な接触率を近づけることができる。 - 特許庁

例文

A difference in the ratio of the contact area between the two areas is 20 to 95%.例文帳に追加

両領域の接触面積率の差は20〜95%である。 - 特許庁


例文

A ball contact ratio is 1.001 to 1.04 by reduction of a surface pressure.例文帳に追加

ボール接触率は面圧低減のため1.001〜1.04とする。 - 特許庁

To form a spacer and a contact hole without reducing an aperture ratio.例文帳に追加

開口率を低下させることなく、スペーサとコンタクトホールとを形成する。 - 特許庁

To provide a socket contact which is a small-size waterproof contact, having a high integration ratio, advantageous in reliability in contact, and effective in reducing cost.例文帳に追加

集積度の高い小型の防水コネクタであっても、充分な接触信頼性があり、コストの低減化に有利なソケットコンタクトを提供する。 - 特許庁

When the user performs the contact operation on the touch panel 6, the input processor detects the contact area by the contact operation, starts the application program associated to the contact area, or performs magnification/reduction processing of a displayed object of a display part 5 such that the magnification ratio and the reduction ratio become a magnification ratio and a reduction ratio corresponding to the contact area.例文帳に追加

そして、ユーザが、タッチパネル6上を接触操作した際に、この接触操作による接触面積を検出し、この接触面積に関連付けされているアプリケーションプログラムを起動し、或いはこの接触面積に対応する拡大率、縮小率となるように、表示部5の表示物を拡大/縮小処理する。 - 特許庁

例文

A four-contact ratio C_f which is a ratio of surface pressure of smaller surface pressure to larger surface pressure with respect to respective maximum contact pressures P_1, P_2 of the respective two raceway surfaces and rolling elements of the inner ring, is employed as the contact state.例文帳に追加

この接触状態として、内輪の2つの軌道面と転動体とのそれぞれの最大接触圧力P_1,P_2についての、大きい方の面圧力に対する小さい方の面圧力の比である4点接触率C_fを用いる。 - 特許庁

例文

The input processor stores information showing a different magnification ratio and reduction ratio associatively to each contact area.例文帳に追加

また、上記各接触面積に対してそれぞれ異なる拡大率及び縮小率を示す情報を関連付けして記憶しておく。 - 特許庁

A larger and smaller diameter ratio (d_2/d_1) of the contact roller 29 is smaller than a larger and smaller diameter ratio (D_2/D_1) of the winding bobbin 22.例文帳に追加

そして、当該接触ローラ29の大小径比(d_2/d_1)は、巻取ボビン22の大小径比(D_2/D_1)よりも小さくなっている。 - 特許庁

To eliminate influence on air fuel ratio feed back control even if cylinders from which exhaust gas does not come into contact with air fuel ratio sensor well.例文帳に追加

空燃比センサへの排気当たりの悪い一部気筒があっても、空燃比フィードバック制御に影響することがないようにする。 - 特許庁

The contact ratio refers to a value based on the bearing ratio measured by using an inter-atomic force microscople.例文帳に追加

なお、接触比率とは、原子間力顕微鏡を用いて測定されるベアリングレシオに基づく値である。 - 特許庁

The gas-liquid ratio (digestive gas/water) at the time of the counterflow contact is caused to be within the range of 1/500 to 1/5.例文帳に追加

向流接触時のガス液比は、(消化ガス)/(水)=1/500〜1/5の範囲とする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INCREASING CONTACT AREA RATIO OF FINE-BLANKED PART HAVING TOOTH, TOOTH SECTION OR THE LIKE例文帳に追加

歯、歯部分等を有する精密打抜き部品の接触面積の割合を高めるための方法及び装置 - 特許庁

To provide an etching method of forming high aspect ratio contact openings in a dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層に高アスペクト比のコンタクト開口部を形成するエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To form a contact hole having a high aspect ratio, and to suitably etch a low-permittivity film.例文帳に追加

高アスペクト比のコンタクトホールを形成する、及び低誘電率膜を良好にエッチングする。 - 特許庁

To reduce an aspect ratio of a contact connecting a bit line and a transistor.例文帳に追加

ビット線とトランジスタとを接続するコンタクトのアスペクト比を低減させる。 - 特許庁

In all positions in the width direction of cast slab, the non-contact ratio is 0 to 20%.例文帳に追加

鋳片の全ての幅方向位置において、非接触比率が、0%以上且つ20%以下である。 - 特許庁

According to this method, the aspect ratio of the contact hole in the SiO_2 cover layer formed on the multilayer structure is decreased.例文帳に追加

積層構造上に形成されるSiO_2カバー層のコンタクト孔のアスペクト比が減少する。 - 特許庁

To provide a linear motion brake (lock) device excellent in energizing ratio and contact pressure.例文帳に追加

増力比及び面圧に於いて、優れた直線運動ブレーキ(ロック)装置を提供する。 - 特許庁

The helical gears can be set at a greater contact ratio and reduced in mating vibration.例文帳に追加

はす歯ギヤは噛み合い率を大きくすることができ、噛み合い振動を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method of forming a high aspect ratio contact hole without causing the surface roughness of an insulating film.例文帳に追加

高アスペクト比のコンタクトホールを、絶縁膜の表面荒れなく形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device which can be miniaturized and reduce an aspect ratio for a contact.例文帳に追加

微細化およびコンタクトのアスペクト比を低下可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

As a result, the efficiency of contact between the blade-like fins (43) and air is enhanced, and further a heat exchange ratio is increased.例文帳に追加

その結果、羽根状フィン(43)と空気との接触効率、更には熱交換率が増大する。 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING RESIST, CONTACT PROBE WITH HIGH ASPECT RATIO AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジストのパターニング方法、高アスペクト比のコンタクトプローブ及びその製法 - 特許庁

In this case, the contact spacer 106a is made of a substance with an etching selective ratio with the contact electrode 108a.例文帳に追加

この際、コンタクトスペーサ106aはコンタクト電極108aとエッチング選択比を有する物質で形成される。 - 特許庁

To easily execute a process for embedding a metal film in a contact hole, even if the aspect ratio becomes large for contact.例文帳に追加

コンタクトのアスペクト比が大きくなっても、コンタクトホールに金属膜を埋め込む工程が困難になる事態を回避する。 - 特許庁

A degree of curvature (a curveture ratio) of the sliding face 26 of the movable contact 24 side is set to be larger than that of the sliding face 25 of the fixed contact 23 side.例文帳に追加

可動接点24側の摺接面26の湾曲の程度(曲率)は固定接点23側の摺接面25のそれよりも大きくなっている。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display device in which: a contact defect is reduced; an increase in contact resistance is suppressed; and an opening ratio is high.例文帳に追加

接触不良を低減し、コンタクト抵抗の増大を抑制し、開口率が高い液晶表示装置を得ることを課題とする。 - 特許庁

To form a contact hole generating no damage of the opening section of the contact hole, having a uniform and minute sectional diameter and having a high aspect ratio.例文帳に追加

コンタクトホールの開口部のやられが発生せず、断面径が均一で微小な高アスペクト比のコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

Agitation is performed to raise a void ratio of a gas-liquid mixture 105, to expand the gas-liquid contact region and to extend the gas-liquid contact time and for uniformizing.例文帳に追加

また、気液混合体のボイド率を上げる事と気液接触領域の拡大と気液接触時間延長と均等化のための撹拌を行なう。 - 特許庁

Changes in external quantum ratio currents caused by the internal quantum ratio on which the biological quantum ratio and the nonlocal quantum ratio fluctuating irregularly and pulsatively, act synergistically, are converted into physical changes in a conductor in contact with a body surface so as to simply and visually detect the internal quantum ratio and, to stretch a point, the biological quantum ratio and the nonlocal quantum ratio.例文帳に追加

生体量子比および不規則かつ脈動的に変動する非局所性量子比が相乗的に作用する体内量子比に起因する体外量子比電流の変化を、体表面に接する導電体の物理的な変化に変換させることによってこそ体内量子比、強いては生体量子比および非局所性量子比を簡単かつ視的に検知できる。 - 特許庁

The shrinkage ratio of the second via contact 134 is set so as to be higher than that of the first via contact 124, and the first via contact 124 has a shape which spreads inside the second via contact 134, after baking.例文帳に追加

第2のビアコンタクト134は、第1のビアコンタクト124に比べて収縮率が高く、焼成後、第1のビアコンタクト124は、第2のビアコンタクト134の内部に拡がった形状を有している。 - 特許庁

Contact holes 14 are formed so that the ratio of the area (Sc) of a part 15, which comes into contact with each contact hole 14, of each plane coil terminal 15 to the aperture area (So) of each contact hole 14 exceeds 1.0.例文帳に追加

コンタクトホール14と平面コイル端子15の接触する部分15の面積(Sc)とコンタクトホール14の開口部面積(So)との比が1.0を越えるようにコンタクトホール14を形成する。 - 特許庁

To form a hole having a high aspect ratio and reaching a contact part in a silicon oxide film, which enables a sufficient contact to be made between a contact material in the hole and the contact part.例文帳に追加

シリコン酸化膜にコンタクト部に到達する高アスペクト比のホールを形成する際に、ホール内のコンタクト材料とコンタクト部との間で十分なコンタクトがとれるようなホールを形成すること。 - 特許庁

The substrate for the information recording medium of 2 to 7 nm in height at a contact ratio of 0.4% of surface ruggedness when the case of 50% in the contact ratio of the surface ruggedness is defined as a reference height is manufactured.例文帳に追加

表面凹凸の接触比率が50%の場合を基準高さとしたとき、その表面凹凸の接触比率0.4%における高さが2〜7nmである情報記録媒体用基板を製造する。 - 特許庁

The local expansion ratio is determined as the ratio dB/dA of the non- contact circumferential length dA of the tube stock held by contact points between the tube stock 2 and the die 1 to the inner circumferential length of the die corresponding thereto.例文帳に追加

局所拡管率とは、素材管2と金型1との接触点に挟まれた素材管上の未接触の周長dAと、それに対応する金型内周長dBとの比dB/dAとして定義される値である。 - 特許庁

It is preferable that the water accompanying in the oil field is brought into contact with Y-type zeolite having 170-200 molar ratio of SiO_2/Al_2O_3 and then brought into contact with ZSM-5 having 100-200 molar ratio of SiO_2/Al_2O_3.例文帳に追加

油田随伴水を、SiO_2/Al_2O_3のモル比が170〜200の範囲内にあるY型ゼオライトと接触させ、次いで、SiO_2/Al_2O_3のモル比が100〜200の範囲内にあるZSM−5と接触させることが好ましい。 - 特許庁

The surface of the magnetic disk is so formed that a contact ratio value [BH1.0 nm] at a height of 1.0 nm or above is 7 to 15% when the height at which the contact ratio is 50% is adopted as a reference in a surface roughness versus loading curve.例文帳に追加

磁気ディスク表面は、表面粗さ負荷曲線において、接触比率が50%となる高さを基準として、高さが1.0nm以上の接触比率値「BH1.0nm」が7%以上15%以下に形成されている。 - 特許庁

By adopting the above structure, even in the case a ratio of an area occupied by the contact hole to the pixel area gets larger due to the narrow pitch, the opening ratio is ensured to the maximum and the contact hole is easily formed.例文帳に追加

このような構造により、狭ピッチで画素に占めるコンタクトホールの面積の割合が大きくなる場合でも、開口率を最大限に確保してコンタクトホールが容易に形成できる。 - 特許庁

To provide an analysis method of a one-side contact ratio for teeth of a meshing mechanism for simply, accurately determining the one-side contact ratio based on the inspection result of shape and dimension of products actually manufactured and considering the probability distribution of material strength.例文帳に追加

実際に製造された製品の形状寸法検査結果を用い、簡単に高精度な歯の片当り率を定め、材料強度の確率分布を考慮した噛合い機構の歯の片当り率の解析方法を提供すること。 - 特許庁

Communicating part channel width ratio which is ratio of channel width WLi to WSi (WLi/WSi) in the peripheral direction in communicating parts 6i, 7i of the first and second shoulder lateral channels 5, 7 with the shoulder longitudinal channel 4 is smaller than ground contact end channel width ratio which is ratio of the channel width WLo to WSo (WLo/WSo).例文帳に追加

第1、第2のショルダ横溝5、7のショルダ縦溝4との連通部6i、7iにおける周方向の溝幅WLi、WSiの比(WLi/WSi)である連通部溝巾比を、前記溝幅WLo、WSoの比(WLo/WSo)である接地端溝幅比よりも小とする。 - 特許庁

The presence of the fine gap in the contact surface S or the degree of the contact stress of the contact surface S can be detected from the ratio (A2/A1) of the amplitude A2 of the secondary higher harmonic produced in the contact surface S and the amplitude A1 of the fundamental wave reflected from the contact surface S.例文帳に追加

接触面Sで生じる二次高調波の振幅A2と、当該接触面で反射した基本波の振幅A1の比(A2/A1)の値より、接触面Sにおける微細間隙の有無や接触応力の程度を検出することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a contact hole of a semiconductor device, wherein increase in contact resistance is prevented effectively even with a contact hole with a small but large aspect ratio.例文帳に追加

小さくてアスペクト比の大きなコンタクトホールであっても接触抵抗の増加を効果的に防止できる半導体装置のコンタクトホール製造方法を提供すること。 - 特許庁

To optimize press-contact in the axial direction related to the moment and gear ratio of an axially movable cone-shaped disk, and avoid dependence of press-contact pressure within a press-contact chamber upon, in particular, rotational speed.例文帳に追加

軸方向可動の円錐形ディスクの、モーメントおよび変速比に関連した軸方向圧着が最適化され、この場合、圧着チャンバ内の圧着圧が、特に回転数に依存しないようにする。 - 特許庁

The number of the contact points of the ink delivery roller 4 with the other party side roller 3 is set to be at least ten under the condition that the ratio of the sum total contact lengths of all the contact points to the effective length of the ink delivery roller 4 is set to be not more than 20%.例文帳に追加

インキ受渡ローラ4が相手側ローラ3に接触する接触点は10点以上とし、全接触点の合計接触長さのインキ受渡ローラ4の有効長さに対する比率は20%以下とする。 - 特許庁

A contact hole is formed in the interlayer insulating film, the contact hole is hole-opened followed thereto, by removing the silicon nitride film by anisotropic etching having a high selection ratio to the silicon oxide film, and the contact wire 43 is formed thereby.例文帳に追加

層間絶縁膜にコンタクトホールを形成し、続いてシリコン酸化膜との選択比が高い異方性エッチングによってシリコン窒化膜を除去することでコンタクトホールを開孔し、コンタクト配線43を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a contact capable of reducing an aspect ratio of the contact formed in a logic circuit region so as to reduce an etching process time of a contact hole.例文帳に追加

論理回路領域に形成されるコンタクトのアスペクト比を小さくでき、コンタクトホールのエッチング加工時間を短縮できるコンタクトの製造法を提供すること。 - 特許庁

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