| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
Moreover, this is provided with a first electrode 2 which functions as a window electrode, and a second electrode 5 arranged opposed to the first electrode by interposing an electrolyte layer 6 at least at one part.例文帳に追加
また、窓極として機能する第一電極2と、少なくとも一部に電解質層6を介して前記第一電極と対向して配される第二電極5とを備える。 - 特許庁
Then, a third resist layer 18 is selectively formed on the second insulating film located at the boundary between the side wall of the opening 10w and the bottom thereof from the back of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加
次に、半導体基板10の裏面から開口部10wの側壁と底部との境界に位置する第2の絶縁膜上に、第3のレジスト層18を選択的に形成する。 - 特許庁
When a voltage V is applied between aluminum electrodes 45a, 45b in a second layer, current flows to the side of an electrode pattern 43a from that of an electrode pattern 43b for functioning as a resistor.例文帳に追加
第2層のアルミ電極45a,45b間に電圧Vが印加されると、電極パターン43b側から電極パターン43a側に電流が流れ、抵抗体として機能するようになる。 - 特許庁
Subsequently, a single crystal silicon film 3 is formed in a second layer forming process (2) by stopping introduction of oxygen and growing only silicon epitaxially on a silicon film 2 containing oxygen.例文帳に追加
引き続いて、第2層形成工程 において、酸素の導入を止め、シリコンのみを酸素含有シリコン膜2上にエピタキシャル成長させることにより、単結晶シリコン膜3が形成される。 - 特許庁
A film thickness of the part of the heating resistor 7 at the protecting film 8 is made smaller than that of the other part, and a protecting film 9 of a second layer is formed to a surface of the protecting film 8.例文帳に追加
前記保護膜8のうち前記発熱抵抗体7の部分における膜厚さを、他の部分よりも薄くして、この保護膜8の表面に2層目の保護膜9を形成する。 - 特許庁
Further a cushioning section 16 formed of a high-hardness second rubber member, which is formed in one body with the first rubber member, is arranged on a lower side of the bottom plate cored bar 12 under the shear rubber layer 132.例文帳に追加
剪断ゴム層132において、底板芯金12の下側には、第1のゴム部材と一体的に成形される高硬度の第2のゴム部材からなる緩衝部16が設けられる。 - 特許庁
The decorative layer 34 on the first protrusion 32b is removed to form the first exposed surface 32c, and the second protrusion 33b is disposed furthermore below than the extended surface of the first exposed surface 32c.例文帳に追加
第1凸部32b上の加飾層34を除去することにより第1露出面32cを形成し、第2凸部33bを、第1露出面32cの延長面より下方に配設する。 - 特許庁
The resin layer 30 is formed such that an end part 34 forming the second opening 32 in the surface on the passivation film 20 side is arranged on the inner side face 24 of the first opening 22.例文帳に追加
樹脂層30は、パッシベーション膜20側の面における第2の開口32を形成する端部34が第1の開口32の内側面24上に配置されるように形成されてなる。 - 特許庁
Then, the first and the second changing means are controlled, the light converging position is set to the position of a j-th (where j is a natural number) of one recording layer and the amount of tilt at that position is detected.例文帳に追加
第1変更手段と第2変更手段を制御して、集光位置を、一の記録層の第j(但し、jは自然数)番目の位置に合わせ、その位置のチルト量を検出する。 - 特許庁
A signal for evaluation is supplied between the first second-layer wiring 21 and wiring 51 for evaluation to easily evaluate the resistance of a via-hole and specify the via-hole on which abnormality occurs.例文帳に追加
第1の2層目配線21と評価用配線51との間に評価用の信号を流すことで、ビアの抵抗評価や異常が発生したビアの特定を容易に行うことができる。 - 特許庁
The second capacitive electrode 202 facing to the first electrode 201 is provided in the middle of the layer.例文帳に追加
補助電極203は、第1のキャパシタ電極201及び第2のキャパシタ電極202の面積より小面積に構成され、第1のキャパシタ電極201に電気的に接続されている。 - 特許庁
As for the second layer 11b, an elastic modulus E' measured by a stretch method at a frequency of 10 Hz and a temperature of 20°C in the dynamic viscoelasticity measurement is in a range of 3.0×10^6 Pa to 2.0×10^7 Pa.例文帳に追加
第2層11bは動的粘弾性測定により、周波数10Hz、温度20℃で引張法で測定した弾性率E’が3.0×10^6Pa〜2.0×10^7Paの範囲にある。 - 特許庁
One or both of the first metal film and the second metal film are formed so that an adhesive layer (adhesive agent 21) of a specimen is brought into contact with the metal layers and the specimen can be placed on the metal layers.例文帳に追加
第1の金属膜または第2の金属膜の一方または双方は、被試験体の接着層(接着剤21)が接触して被試験体が載置可能に形成されている。 - 特許庁
The time for a constant rate drying is adjusted to be 6 s or longer by lowering the temperature in the first half portion of a drying process and raising its second half portion after the application of the coating layer.例文帳に追加
コート層を塗布し、乾燥工程の前半部分の温度を下げるとともに後半部分の温度を上げて、恒率乾燥の時間が6秒以上となるように調整した。 - 特許庁
On a side wall of the second distillation column 52, an adhesion deposit prevention layer for preventing a precipitable component contained in the raw material solution from precipitating, and then adhering to and accumulated on the side wall, is provided.例文帳に追加
第2の蒸留塔52の側壁に、原料溶液に含有される析出成分が析出して付着堆積することを防止する付着堆積防止層を備える。 - 特許庁
A nonmetallic thin film 1 whose thermophysical value is unknown is sandwiched between a first metallic thin film 2 and a second metallic thin film 3 situated on its opposite side, and a sample of a three-layer structure is obtained.例文帳に追加
熱物性値が未知の非金属薄膜1を、第1金属薄膜2とその反対側に位置する第2金属薄膜3とにより挟んで3層構造の試料を得る。 - 特許庁
Since both surfaces of the second thin layer are protected, it can be utilized even in an industrial field necessary for excluding refuse, dust or the like, a computer field, a medical field or the like.例文帳に追加
また、第2の薄層の両面が保護されているので、コンピュータ分野・医療分野等のようにゴミ・塵等を排除する必要がある産業分野についても利用することができる。 - 特許庁
The color image screen includes improved blue emitting phosphor layer which is furnished with a first blue emitting phosphor and a second phosphor to exhibit light emission in the range 380-450 nm.例文帳に追加
本発明によるカラー画像スクリーンの青色発光蛍光体層は第1の青色発光蛍光体と、380−450nmの範囲内の発光を示す第2の蛍光体とを具える。 - 特許庁
The flat surface of the first structural part of one of two adjacent layers is in contact with the surface of the second structural part of the other layer opposite to the flat surface.例文帳に追加
隣接2層のうち一方の層における第1の構造部分での平坦面が、他方の層における第2の構造部分の上記平坦面とは反対側の面に接している。 - 特許庁
Thus, the action of suppressing passing of the magnetic flux is obtained by the second insulation layer, and a large magnetic path cross-sectional area is ensured inside the coil and a high inductance is obtained.例文帳に追加
従って、第2の絶縁体層によって磁束の通過を抑制する作用を得つつ、コイルの内側に大きな磁路断面積が確保され、大きなインダクタンスを取得可能となる。 - 特許庁
Each of the light-emitting elements 110 has a thin-film crystal layer, a second conductivity-type electrode, and a first conductivity-type side electrode on a transparent substrate, and a fist light extraction direction is a substrate side.例文帳に追加
発光素子110は、透明な基板上に薄膜結晶層、第二導電型側電極、第一導電型側電極とを有し、第1の光取り出し方向が基板側とされる。 - 特許庁
Furthermore, second insulating parts 14 are provided on the first insulating parts 13 so as to narrow the groove between the first insulating parts 13, after the reagent layer 6 is formed to be bonded thereto under pressure.例文帳に追加
さらに試薬層6を形成したにち、第一の絶縁部13上に第一の絶縁部13より溝幅が狭くなるような第二の絶縁部14を設け、圧着したバイオセンサ。 - 特許庁
By having connected state realized, saturation of the charged amount of the isolated region 10 during disconnection can be eliminated, that is, saturation of the change in electrical conductivity of a second electron layer 104.例文帳に追加
接続状態の実現により、遮断状態における孤立領域10の帯電量の飽和ひいては第2電子層104の電気伝導率の変化の飽和が解消されうる。 - 特許庁
The outer layer 9 has a region, made of a second element body that has ZnO as a main constituent, contains Co, and allows the content of Co to be smaller than that of the first element body.例文帳に追加
外層部9は、ZnOを主成分とすると共にCoを含み且つ当該Coの含有量が第1の素体よりも少ない第2の素体からなる領域を有する。 - 特許庁
The conductive layer 32 is divided into a first region R1 connected to the center conductor 12, and a second region R2 connected to a wiring 52 of a PCB 50 as a mother board.例文帳に追加
導電層32は、中心導体12に接続された第1領域R1と、母基板であるPCB50の配線52に接続される第2領域R2とに分けられている。 - 特許庁
In the second step, the Hf-Si film is irradiated with near ultraviolet light when the Hf-Si film is oxidized and a surface layer portion of the Si substrate is oxidized to form an SiO_2 film 104.例文帳に追加
第2工程において、Hf−Si膜を酸化する際にHf−Si膜に近紫外光を照射し、Si基板の表層部を酸化してSiO_2膜104を形成する。 - 特許庁
The second winding part 26 is wound in a region outside an outermost layer of rows of coil wires 27, comprising the first winding part 25 in a coil-winding region A1.例文帳に追加
第2巻装部26は、コイル巻装領域A1のうち、第1巻装部25を構成するコイル巻線27の列の最外層となる列よりも外側の領域において巻装された部分である。 - 特許庁
In the state of covering the sacrificial layer 105, an insulating first material film 107 and a conductive second material film 109 having a larger coefficient of thermal expansion are deposited in order.例文帳に追加
この犠牲層105を覆う状態で、絶縁性の第1材料膜107とこれよりも熱膨張係数の大きな導電性の第2材料膜109とをこの順に成膜する。 - 特許庁
The first upper layer 4 is removed in an area between a first track area in which information is recorded, and a second track area adjacent to the first track area.例文帳に追加
情報が記録される第1のトラック領域と、前記第1のトラック領域に隣接する第2のトラック領域との間の領域において、前記第1の上部層4が除去されている。 - 特許庁
A sensor part 20 is provided with: a dielectric film 22 provided over a second multi-layer reflecting film 15; a metal film 23 provided over it; and a receptor 26 fixed to its surface.例文帳に追加
センサ部20は、第2多層反射膜15上に設けられた誘電体膜22と、その上に設けられた金属膜23と、その表面に固定化された受容体26とを具備する。 - 特許庁
A leading end of the first paper P1 is deviated rather on a rear end side than a leading end of the second paper P2 by lifting up the leading end PSa side of the paper layer PS by the lift plate 16.例文帳に追加
用紙層PSの先端PSa側をリフト板16で持ち上げることにより、第1枚目の用紙P1の先端が第2枚目の用紙P2の先端よりも後端側にずれる。 - 特許庁
A second cylindrical part 42 of a rubber plug 30 is conductively connected to a shielded shell 16 with adhesion, and thus the shielded shell 16 is conductively connected to the shielded layer 23 via the rubber plug 40.例文帳に追加
また、ゴム栓30の第2筒部42は、シールドシェル16に密着して導通接続され、もってシールドシェル16は、ゴム栓40を介してシールド層23に導通接続される。 - 特許庁
By providing a U-shape part whose bottom is facing downward to the part in the second pipe, the temperature boundary layer can be formed only in the U-shape part.例文帳に追加
底部が下方を向いているU字形状部分を前記第二の管の前記一部分に設けることにより、前記温度境界層を前記U字形状部分にのみ形成させることもできる。 - 特許庁
The first pseudo-memory cell transistor 10 comprises a third gate 2 formed on an element separation layer 21 of the second region 32; and a fourth gate 3 formed on the side of the third gate 2.例文帳に追加
第1擬似メモリセルトランジスタ10は、第2領域32の素子分離層21上に形成された第3ゲート2と、第3ゲート2の側面に形成された第4ゲート3とを備える。 - 特許庁
In at least one of the first and second rolled polarizing plates 71 and 71', a first cellulose resin film 23 being a biaxial retardation film is provided between the polarizing film and the adhesive layer.例文帳に追加
第1,第2のロール状偏光板71,71´のいずれか一方は、二軸性位相差フィルムである第1のセルロース系樹脂フィルム23を偏光フィルムと粘着剤層との間に有する。 - 特許庁
The width of the base side of the current injection part 112 of the second cladding layer 114 is formed more widely than that of the top side of the current injection part 112.例文帳に追加
そして第2のクラッド層114の電流注入部112の基部側の幅が、電流注入部112の頂部側の幅より広く形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
Furthermore, the second printing layer has non-adhesive properties, and is formed in a non-adhesive region set by corresponding to a specified face of the packaging container 10 of the packaging material 11.例文帳に追加
また、前記第2の印刷層は、非粘着性を有し、包材11における包装容器10の所定の面に対応させて設定された非粘着領域に形成される。 - 特許庁
One of the masks is used for forming a via or a contact opening in the insulator layer, and the second mask is used for forming a recess for interconnection in the integrated circuit.例文帳に追加
マスクのうちの1個は、絶縁体層のビアあるいはコンタクト開口を形成するのに用いられ、第ニのマスクは集積回路に相互接続のための凹部を形成するのに用いられる。 - 特許庁
Furthermore, the wiring board 1 is equipped with a BGA pad 13 where a solder ball mounting solder layer 19 for manufacturing a BGA package by mounting a solder ball is formed on the second main surface of the board main body 10.例文帳に追加
また、基板本体の第二主表面に、ハンダボールを取り付けてBGAパッケージを製造するためのハンダボール取付用ハンダ層19が形成されたBGAパッド13を備えている。 - 特許庁
Then, a second resist film 13, in which a connection hole pattern 14 is formed, is formed, and the connection hole pattern 14 is transferred to the surface layer of the first resist film 9 and the insulating film 6.例文帳に追加
次に、接続孔パターン14を形成した第2のレジスト膜13を形成し、第1のレジスト膜9および絶縁膜6の表層に接続孔パターン14を転写する。 - 特許庁
The collecting part 3a is formed in a first region R1 of the first insulative part 2a of the base insulation layer 2, and the collecting part 3b is formed in a second region R2 of the first insulative part 2a.例文帳に追加
集電部3aはベース絶縁層2の第1絶縁部2aの第1領域R1に形成され、集電部3bは第1絶縁部2aの第2領域R2に形成される。 - 特許庁
Moreover, this is the manufacturing method of the substrate with the transparent film which is equipped with a process of forming the first thin film layer composed of zinc oxide on the substrate by a magnetron sputtering method, and a process of forming the second thin film layer composed of indium oxide containing tin on the first thin film layer sequentially by a magnetron sputtering method.例文帳に追加
また、基板上に酸化亜鉛からなる第1の薄膜層をマグネトロンスパッタリング法により形成する工程と、該第1の薄膜層上にスズを含むインジウム酸化物からなる第2の薄膜層をマグネトロンスパッタリング法により形成する工程とを順に備えることを特徴とする透明導電膜付き基板の製造方法とした。 - 特許庁
The battery metal component 21 is provided with a base material 25 containing iron; a first nickel-plated layer 26 formed on the outer surface 25a of the base material 25 and virtually containing no sulfur and no sulfur compound and a second nickel-plated layer 27 formed on the first nickel-plated layer 26 and containing sulfur and sulfur compound.例文帳に追加
この電池用金属部品21は、鉄を含有する母材25と、母材25の外側表面25a上に形成され、硫黄及び硫黄化合物を実質的に含有しない第1ニッケルめっき層26と、第1ニッケルめっき層26上に形成され、硫黄及び硫黄化合物を含有する第2ニッケルめっき層27とを備える。 - 特許庁
The capacitor 30 includes: a base body 100; a first electrode 34 formed on the base body 100; the ferroelectric layer 36 formed on the first electrode 34 with the thickness of not more than 100 nm; and a second electrode 38 formed on the ferroelectric layer 36, having the thickness being smaller than that of the layer 36.例文帳に追加
キャパシタ30は、基体100と、前記基体100の上方に形成された第1電極34と、前記第1電極34の上に形成され、膜厚が100nm以下の強誘電体層36と、前記強誘電体層36の上に形成され、膜厚が該強誘電体層36の膜厚より小さい第2電極38と、を含む。 - 特許庁
In the light emitting element having a first electrode, a dielectric layer, an emitter layer and a second electrode layered sequentially on a substrate, the dielectric layer is formed of a dielectric composed of a crystalline material with perovskite structure where the lattice constant of a c-axis is greater than the lattice constant of an a-axis obtained by X-ray diffraction.例文帳に追加
基板の上に、第1電極と、誘電体層と、発光体層と、第2電極とが順次積層された発光素子であって、前記誘電体層は、ペロブスカイト構造の結晶体からなる誘電体で構成され、且つ、前記結晶体は、X線回折法で求めたa軸の格子定数よりc軸の格子定数が大きい。 - 特許庁
The evaluation test device of the silicide film manufacturing process provided with a first pattern A comprising the crossing resistance pattern of a polycide layer formed on the field area 500 of the semiconductor board 500 and a second pattern B comprising the bridge resistance pattern of the polycide layer and the silicide layer formed on the active area 500a of the semiconductor board 500 is constituted.例文帳に追加
半導体基板500のフィールド領域500b上に形成されたポリサイド層の交叉抵抗パターンから成る第1パターンAと、半導体基板500のアクティブ領域500a上に形成されたポリサイド層及びシリサイド層のブリッジ抵抗パターンから成る第2パターンBと、を備えたシリサイド膜製造工程の評価試験装置を構成する。 - 特許庁
The user data area S1 includes a plurality of recording magnetic parts 21 each having a layered structure including a perpendicular magnetic layer 21a made of a first magnetic material having relatively high magnetically anisotropic energy and a perpendicular magnetic layer 21b made of a second magnetic material having relatively low magnetically anisotropic energy and exchange coupled with the perpendicular magnetic layer 21a.例文帳に追加
ユーザデータ領域S1は、相対的に大きな磁気異方性エネルギを有する第1磁性材料よりなる垂直磁性層21aと、相対的に小さな磁気異方性エネルギを有する第2磁性材料よりなり且つ垂直磁性層21aと交換結合する垂直磁性層21bと、を含む積層構造を有する複数の記録磁性部21を含む。 - 特許庁
This agricultural anti-frost film is obtained by forming a membrane layer consisting of (a) an aqueous membrane containing a polysaccharide derivative or an acrylamide-based derivative in a first layer and (b) a membrane consisting mainly of colloidal inorganic fine particles and an acrylic copolymer in a second layer, on at least one side of a thermoplastic resin film.例文帳に追加
熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、第1層に多糖類誘導体又はアクリルアミド系誘導体を含有する水性被膜(a)および第2層にコロイド状無機微粒子とアクリル系共重合体を主成分とする被膜(b)の2層からなる被膜層を形成されてなることを特徴とする農業用防曇性フィルム。 - 特許庁
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