「一次ビーム」を含む例文一覧(279)
1 2 3 4 5 6 次へ＞- 一次ビームと回折ビームが試料から出射する。
The primary and diffracted beams exit from the specimen. - 科学技術論文動詞集 - 複数の回折光ビームは、複数の一次回折ビームと、複数の二次回折ビームとを含む。
The plurality of diffracted light beams includes a plurality of primary diffracted order beams and a plurality of secondary diffracted order beams. - 特許庁 - 格子欠陥は、一次(入射)ビームと回折ビームの振幅に影響を及ぼす。
Lattice defects affect the amplitudes of the primary and diffracted beams. - 科学技術論文動詞集 - また、帯電制御用一次ビームの電流や、帯電制御用一次ビームと検査用一次ビームの間隔を制御する。
A current of the primary beam for charge control, and an interval between the primary beam of the charge control and the primary beam for inspection are controlled. - 特許庁 - 一次電子ビームと二次電子ビームとの重複領域で二次電子ビームの空間電荷効果による収差増大を抑制する。
To restrain an aberration increase caused by a spatial charge effect of a secondary electron beam in an overlapped area of a primary electron beam and the secondary electron beam. - 特許庁 - 一次ビームと二次ビームの一方のビームを直進させ、他方のビームを９０°曲げることができるビームセパレータおよび反射電子顕微鏡を実現する。
To provide a beam separator and a reflection electron microscope that can direct either the primary beam and the secondary beam straight, and bend the other beam by 90°. - 特許庁 - 光源からの出射光を回折光学素子１３ａによりメインビーム（０次光）、第一のサブビーム群（±１次回折光）、第二のサブビーム群（±２次回折光）、第三のサブビーム群（±３次回折光）に分割する。
The outgoing light from the light source is divided into a main beam (0-th order beam), a first sub-beam group (±1st-order diffracted beams), a second sub-beam group (±2nd-order diffracted beams), and a third sub-beam group (±3rd-order diffracted beams). - 特許庁 - 対物レンズ４のビーム通過孔２４を通過した電子ビーム（一次ビーム）８は、試料６に照射される。
The electron beam (primary beam) 8 passed through a beam passing hole 24 of the objective lens 4 is irradiated on a sample 6. - 特許庁 - 第２ビーム形成部３５は、ＡＧＣ処理後の一次ビーム信号ＳＴＢを用いて受信ビーム信号を生成する。
The second beam formation part 35 generates a receive signal beam signal using the primary beam signal STB after the AGC processing. - 特許庁 - ビームエネルギー減衰部を備えたビームエネルギー変更部を複数設け、ビームが複数のビームエネルギー変更部を順次通過するようにビームを偏向し、一つのビームエネルギー変更部をビームが通過している間に、他のビームエネルギー変更部のビームエネルギー減衰量を変更するようにした。
There is provided a plurality of beam energy changing units each provided with a beam energy attenuation unit; a beam is deflected in such a way as to sequentially passes through the plurality of beam energy changing units; while a beam passes through one of the beam energy changing unit, the beam energy attenuation amount of another beam energy changing unit is changed. - 特許庁 - 単一の電子源から複数本の一次ビームを形成し、少なくとも一本の一次ビームで試料の帯電を制御し、同時に、これとは別の一次ビームを用いて試料の検査を行う。
A plurality of primary beams are formed from a single electron source, and charge of a sample is controlled by at least one primary beam, and at the same time, inspection of the sample is conducted by using another primary beam. - 特許庁 - 音響光学変調器は進入する元ビームが少なくとも２つの回折ビームとして回折次数１の第１の回折ビーム及び回折次数−１の第２の回折ビームに分割するように構成され、この２つの回折ビームの一方が測定ビームとなり、他方の回折ビームが参照ビーム１０となる。
The acousto-optical modulator is constituted so that the approaching original beam is divided into at least two diffraction beams of a first diffraction beam of diffraction order 1 and a second diffraction beam of diffraction order -1, one between the two diffraction beams becomes the measuring beam and the other becomes the reference beam 10. - 特許庁 - 一次回折ビームの最大パワーと最小パワーは、一次回折ビームの平均パワーの少なくとも１０％だけ異なる。
A maximum power of the primary diffracted order beams and a minimum power of the primary diffracted order beams differ by at least ten percent of an average power of the primary diffracted order beams. - 特許庁 - 一次放射器および移相器ならびにビーム走査アンテナ
PRIMARY RADIATOR AND PHASE SHIFTER, AND BEAM SCANNING ANTENNA - 特許庁 - ２ビーム用一次放射器、給電装置及び衛星信号受信用アンテナ
PRIMARY RADIATOR FOR TWO-BEAMS, FEEDER AND ANTENNA FOR RECEIVING SATELLITE SIGNAL - 特許庁 - マルチビームアンテナの一次放射器付コンバータ取付具
CONVERTER FIXTURE WITH PRIMARY RADIATOR OF MULTI-BEAM ANTENNA - 特許庁 - ビーム位置検出器が一次ファン・ビームの周辺エッジに配置され、そして一次検出器上のビーム位置を示すように一次検出器に対して相対的に固定されている。
A beam position detector 30 is arranged at the peripheral edge of a primary fan beam and is relatively fixed on a primary detector 24 so as to indicate the position of the beam on the primary detector 24. - 特許庁 - 入力ビーム２２を受け取り且つ後方反射した相反的出力ビーム２８を伝送する光反射器であって、互いに平行な第一の二次的ビーム２７及び第二の二次的なビーム２８を提供するビームスプリッタ２０と、各々が、二次的なビームをビームスプリッタに向けて方向変更し且つサニャック干渉計を形成する後方反射手段２１とを備える反射器。
An optical reflector which receives an input beam 22 and transmits a retroreflected reciprocal output beam 28 is provided with a beam splitter 20, which provides first and second parallel secondary beams 27 and 28 and backward reflecting means 21, which changes the directions of the secondary beams 27 and 28 toward the beam splitter 20 and forms a Sagnac interferometer. - 特許庁 - 短期の焦点ドリフトは一次ファン・ビームから出ている二次ビームによって検出され、一次ビームに対するコリメータを調整することによって、リアルタイムで補正される。
The short-time focus drift is detected by a secondary beam 21 emitted from the primary fan beam to be corrected in real time by adjusting a collimator for the primary beam. - 特許庁 - 一次コラムは、試料表面に一次ビームを照射する電子銃を有する。
The primary column has an electron gun irradiating a primary beam on the surface of the testpiece. - 特許庁 - 電子ビームとレーザービームの焦点及び入射角度を精密に一致させることができ、かつ電子ビーム及びレーザービームの４次元プロファイル（３次元プロファイルの時間変化）を測定することができ、これによりレーザービームの利用効率を大幅に高めることができる電子ビーム及びレーザービームのプロファイル測定装置及び方法を提供する。
To provide a profile measurement device and method of an electron beam and a laser beam capable of accurately matching the focus and incident angle of the electron beam with those of the laser beam, of measuring four-dimensional profiles (temporal changes of three-dimensional profiles) of the electron beam and the laser beam, and of thereby remarkably increasing utilization efficiency of the laser beam. - 特許庁 - コラムは、一次荷電粒子ビーム源として一次荷電粒子ビームを放出する荷電粒子ビームエミッタ（２）と、２つの仮想源が作られるように一次荷電粒子ビームに作用するようになったバイプリズム（６）と、荷電粒子ビームを２つの仮想源の像に対応した試料（８）の２つの位置に同時に集束させるようになった荷電粒子ビーム光学系（１０）とを有する。
The column includes a charged particle beam emitter (2) for emitting primary charged particle beams as one source of the primary charged particle beams; a biprism (6) adapted for acting on the primary charge particle beams so as to generate two virtual sources; and a charged particle beam optical system (10) adapted to simultaneously focus the charged particle beams on two positions of a specimen (8) corresponding to images of two virtual sources. - 特許庁 - 一部分の円錐ビームデータから画像を再構築する方法は、２次元アレイで一部分の円錐ビームデータを収集することを含んでいる。
A method of reconstructing an image from fractional cone beam data contains the collection of the partial cone beam data in a two-dimensional array. - 特許庁 - 光源からの出射光を回折光学素子３ａにより０次光であるメインビーム、＋１次回折光である第一のサブビーム、−１次回折光である第二のサブビームに分割する。
An outgoing light from a light source is divided by a diffraction optical element 3a into a main beam which is a zero-order light, a 1st sub-beam which is a +1st order diffracted light, and a 2nd sub-beam which is a -1st order diffracted light. - 特許庁 - 続いて、第二のビーム照射工程ステップＳ３−２において、点Ｒから蓋体の外周に沿って第一のビーム照射工程ステップＳ３−１のビーム走査方向と対向する方向に順次ビームを走査して点Ｑまで電子ビームを照射する。
Then, in a second beam irradiation process step S3-2, electron beam scanning is conducted in the opposite direction from the beam scanning direction in the first beam irradiation process step S3-1 along the outer periphery of the cover from the point R to successively irradiate the electron beam to the point Q. - 特許庁 - 一次又は二次小球はプロセスビーム内で機械的及び熱的相互作用によって分解される。
The primary or secondary globule is decomposed in the process beam either mechanically or through thermal interaction. - 特許庁 - 結晶性試料では、一次ビーム(明視野)またはブラッグ反射ビーム(暗視野)の利用が、回折コントラストをもたらす。
In crystalline specimens, the use of the primary beam (bright-field) or a Bragg-reflected beam (dark-field) gives rise to diffraction contrast. - 科学技術論文動詞集 - 対物絞りは、一次ビームと1つの回折ビームの両方を通過させるように、的確に配置されなければならない。
The objective aperture must be adequately positioned to allow both the primary beam and one diffracted beam to pass through. - 科学技術論文動詞集 - スポット寸法制御光学系が光ビーム全体の寸法を調節し、主に一次元内で、ビームの楕円率を個々に調節する。
A spot size control optical system adjusts the overall size of the light beam and separately adjusts the ellipticity of the beam, primarily in one dimension. - 特許庁 - 電子銃１からの電子ビームは、一次照射ビーム４となり、ステージ５の上の試料６を落射照射する。
The electron gun 1 of this mapping type electron microscope emits an electron beam as a primary irradiation beam 4 to irradiate a sample 6 placed on a stage 5. - 特許庁 - 空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。
The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements. - 特許庁 - 一次コリメータは線放射源から射出された伝達ビームの幅を形成する１以上のビーム制限溝９５を含んでいる。
The primary collimator 56 includes at least one beam limitation groove 95 for forming a transmission beam width being emitted from the ray radiation source 35. - 特許庁 - 選択減衰フィルタ(27、52)が、一次照明ビーム(54)に応じて、対応する光減衰マトリックス(32、33)を用いて放射照明ビーム(56)を形成する。
A selection attenuation filters (27, 52) forms a radiation illumination beam (56) using corresponding optical attenuation matrices (32, 33) according to a primary illumination beam (54). - 特許庁 - 対物レンズ８の電子ビーム通路に加速円筒９を配置し、一次電子ビームの後段加速電圧１０を印加する。
An accelerating tube 9 is arranged in an electron beam passage of an object lens 8 and rear stage accelerating voltage 10 of a primary electron beam is applied thereto. - 特許庁 - 電子線装置において、一次電子を複数の開口でマルチビームに分割し、マルチビームを対物レンズで縮小し、試料上を走査する。
In the electron beam device, primary electrons are divided into multiple beams at a plurality of openings and the multiple beams are reduced by an objective lens, and scans on the test piece. - 特許庁 - ビームの直径は、ビームが不均一電極領域の導電部から二次電子を発生させるように増大される。
The diameter of the beam is increased so that the beam generates secondary electrons from the conductive portion of the non-uniform electrode area. - 特許庁 - 複数の２次光源から出射される複数の光ビームによる均一強度でのビーム照射をリアルタイムで管理する。
To manage irradiation of multiple light beams being emitted from a plurality of secondary light sources with a uniform intensity in real time. - 特許庁 - これらのビーム形成処理および帯域制限処理により、一次ビーム信号ＳＴＢのＳＮ比は、受波信号のＳＮ比よりも大幅に高くなる。
By these beam formation processing and band restriction processing, the SN ratio of the primary beam signal STB becomes greatly higher than the SN ratio of the receive wave signal. - 特許庁 - 一次電子ビームの走査ずれに起因する擬似欠陥を低減する高感度高スループット電子ビーム式検査装置と検査方法を提供する。
To provide a high-sensitivity, a high-throughput electron beam type inspection device and an inspection method for alleviating artificial defects caused by scanning shift of primary electron beams. - 特許庁 - ＡＧＣ処理部３４は、一次ビーム信号ＳＴＢのレベルをクリップレベルまで増幅して、第２ビーム形成部３５へ出力する。
The AGC processing part 34 amplifies the level of the primary beam signal STB to a clip level and outputs to a second beam formation part 35. - 特許庁 - 第１ビーム形成部３１は、各受波信号を複数のグループに分割し、グループ毎に一次ビーム信号ＳＴＢを形成する。
A first beam formation part 31 divides each receive wave signal into a plurality of groups and forms a primary beam signal STB for each group. - 特許庁 - 回折素子１２は、周期的に凹凸を繰り返す格子面１２ａを有し、光源１１から出射されるレーザ光を反射／回折して、主ビーム（０次光）と一対の副ビーム（＋１次光と−１次光）とから成る３つのビームに分離し、偏光ビームスプリッタ１３に出力する。
And a diffraction element 12 has a lattice plane 12a having periodic recesses and projections, and reflects and diffracts the laser beam emitted from the light source 11, divides it into three beams composed of a main beam (zeroth order light) and a pair of sub-beams (+first order light and -first order light) and outputs them to a polarizing beam splitter 13. - 特許庁 - 偏心回折格子と共に使用される回折光学要素４１は、ビーム整形器４１、一次元のビーム分割器９１、又は２次元のビーム分割器９１のいずれであってもよい。
The diffraction optical element 41 used together with the deviation diffraction grating may be any of a beam shaping device 41, one-dimensional beam splitter 91 or two-dimensional beam splitter 91. - 特許庁 - 荷電粒子ビーム光学装置は、荷電粒子源からの一次荷電粒子ビームの照射により試料から得られる電子を二次荷電粒子ビームとして検出する。
The charged particle beam optical apparatus detects electrons obtained from a sample irradiated with a primary charged particle beam from a charged particle source as a secondary charged particle beam. - 特許庁 - ビームセパレータは、電子銃から発生し電子光学軸に沿ってビームセパレータに入射した一次電子ビームは常に電子光学軸に沿ってビームセパレータを出射し、試料から発生し一次電子ビームと逆向きに入射する２次電子は電子光学軸から離れる異なった第１及び第２の方向に選択的に偏向可能である。
The primary electron beams generated from the electron gun incident into the beam separator along an electron-optical axis always irradiate from the beam separator along the electron-optical axis, and the secondary electron beams generated from the sample and incident contrary to the primary electron beams can be selectively deflected in a first and a second directions away from the electron-optical axis. - 特許庁 - 光伝送回路（４３）を使用して、一次レーザビームから固定レーザビーム（２）を形成し、その固定レーザビームをレーザショックピーニング標的区域（４２）に向けて配向する。
A stationary laser beam (2) is formed from the primary laser beam by using an optical transmission circuit (43), and this stationary laser beam is directed toward a laser shock peening target area (42). - 特許庁 - ビームスプリッタにより一次レーザービームを偏向させて得られた部分ビームの角度誤差を最小化するため、簡便で機械的に安定した調整装置を提案することにある。
To provide a simple and mechanically stable alignment apparatus in order to minimize an angle error of a partial beam obtained by deflecting a primary laser beam by a beam splitter. - 特許庁 - 一周期の電子ビーム走査の終了時刻ｔ_1から次周期の走査開始時刻ｔ_2までの期間Ｔ_bの間、電子ビームに対してブランキング操作を行い、試料上に電子ビームが照射されないようにする。
During a period Tb from the finishing time t1 of one cycle of electron beam scanning to the scanning starting time t2 of the next cycle, a blanking operation is performed to the electron beam to prevent a sample from being irradiated with the electron beam. - 特許庁 - 以上の条件で、一次電子ビームＥＢを走査することで、試料面上の所定位置に常に電子ビームが照射され、試料１８に対する電子ビームの入射角度が連続的に走査される。
Under these conditions, the primary electron beam EB is scanned to always irradiate a prescribed position on the sample surface and is scanned continuously with an incident angle of the electron beam on the sample 18. - 特許庁 - スポット寸法制御光学系からの光は、光ビームの全体の焦点を制御し、一次元内で光ビームの焦点位置を変えることによりビームの非点収差を調節する焦点制御光学系に渡される。
Light from the spot size control optical system passes to a focus control optical system that controls the overall focus of the light beam and adjusts the astigmatism of the beam by altering the focal position of the light beam in one dimension. - 特許庁
- 特許庁
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