「導入部」を含む例文一覧(10697)

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  • 導入の最初の
    the initial part of the introduction  - 日本語WordNet
  • 劇への導入部
    an introduction to a play  - 日本語WordNet
  • 導入教育
    Division of First-Year Students in Transition  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • レーザ導入装置
    EXTERNAL LASER INTRODUCING DEVICE - 特許庁
  • 開口導入器デバイス
    ORIFICE INTRODUCER DEVICE - 特許庁
  • 全体の一として、導入する
    introduced into as a part of the whole  - 日本語WordNet
  • 音楽で,楽曲の導入部
    an overture in a piece of music  - EDR日英対訳辞書
  • 見事な導入部を作り上げた。
    He created excellent opening shots like mentioned above.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • ガス導入部及び処理装置
    GAS INTRODUCTION PART AND PROCESSING APPARATUS - 特許庁
  • 圧電材を用いたイオン導入
    IONTOPHORESIS APPARATUS USING PIEZOELECTRIC MEMBER - 特許庁
  • 車両の外気導入部構造
    OUTSIDE AIR INTRODUCTION PART STRUCTURE OF VEHICLE - 特許庁
  • 車体前の外気導入構造
    OUTSIDE AIR INTRODUCING STRUCTURE OF CAR BODY FRONT PART - 特許庁
  • ここで、導入部11は、導入部本体11a、導入部入口11b、及び導入部出口11cを備える。
    Here, the introduction part 11 includes an introduction part body 11a, an introduction part inlet 11b, and an introduction part outlet 11c. - 特許庁
  • 遺伝子導入用ベクター
    VECTOR FOR FOREIGN GENE TRANSFER - 特許庁
  • 導入部111は、導入通路116を形成し、EGRガスを導入する。
    An introducing part 111 forms an introducing passage 116, and introduces EGR gas. - 特許庁
  • 導入部は主導入部内でバイパス状に分岐することもある。
    The subsidiary introduction portion may be separated in a by-passing state within the main introduction portion. - 特許庁
  • 排ガスを、排ガス導入部12から加熱処理14へと導入する。
    The exhaust gas is introduced from an exhaust gas introducing part 12 to a heat treatment part 14. - 特許庁
  • 高プレストレス導入部材のプレストレス導入方法及び治具
    PRESTRESS INTRODUCTION METHOD FOR HIGH PRESTRESS INTRODUCTION MEMBER, AND JIG THEREFOR - 特許庁
  • 冷媒を導入部材40から下流側ヘッダタンク22に導入する。
    The refrigerant is introduced from the introducing member 40 to the downstream side header tank 22. - 特許庁
  • 空気導入部11は、空気を取り込んで燃料電池へと導入する。
    An air introduction part 11 takes in air and introduces it to a fuel cell. - 特許庁
  • 導入部34は集塵室31に含塵空気を導入する。
    The introduction part 34 introduces the dust-containing air to the dust collection chamber 31. - 特許庁
  • 導入管131に導入された原料ガスは、連通135を通って導入管131側の拡散中継管132に導入される。
    Material gas introduced to the introduction pipe 131 is introduced to a diffusion relay pipe 132 of an introduction pipe 131-side through a communicating pipe 135. - 特許庁
  • 下ケース1に備えられる圧力導入部1aは被測定物を導入するため圧力導入導入孔)1cを備える。
    A pressure introducing section 1a which is disposed at a lower case 1 includes a pressure introducing portion (introducing hole) 1c for introducing the object to be measured. - 特許庁
  • 気体導入部材1の気体導入空間1cに導入された気体は、複数の気体導出孔1bを通して気体導入部材1の外、すなわち気体導入部材1と可撓性シート2との間の空間に導かれる。
    The gas introduced in the gas introducing space 1c of a gas introducing member 1 is introduced to an exterior part of the gas introducing member 1 through a plurality of gas outlet holes 1b, that is, to the space between the gas introducing member 1 and a flexible sheet 2. - 特許庁
  • 導入室は、導入路と接続された第1導入部46aと、第1導入部に対して整流材を挟んで配置された第2導入部46bと、を有している。
    The introduction room has a first introduction part 46a connected to the introduction path, and a second introduction part 46b disposed across the flow straightening member with respect to the first introduction room. - 特許庁
  • HVPE装置1は、反応管10、ガス導入部20(第1のガス導入部)、ガス導入部30(第2のガス導入部)、ガス導入部40(第3のガス導入部)、保持材50、対向材60、および供給70を備えている。
    HVPE equipment 1 comprises a reaction tube 10, a gas introducing section 20 (first gas introducing section), a gas introducing section 30 (second gas introducing section), a gas introducing section 40 (third gas introducing section), a holding member 50, a counter member 60, and a supply section 70. - 特許庁
  • スプレーチャンバ1に二つの液導入部12,13を設け、一方の液導入部12を試料溶液導入用とし、他方の液導入部13を洗浄液導入用とした。
    Two liquid inlet parts 12, 13 are provided in the spray chamber 1, and one liquid inlet parts 12 introduces the sample solution, and the other liquid inlet part 13 introduces a cleaning liquid. - 特許庁
  • ガス導入部50から導入したガスを、まず、両側の側気室36,36に導入し、側気室36,36が展開する。
    Gas introduced from a gas introduction part 50 is first introduced to the side part air chambers 36, 36 on the both sides, and the side part air chambers 36, 36 are developed. - 特許庁
  • 導入8の途中に該導入8の導入方向Pと対向するように刃体21を設ける。
    A blade body 21 is disposed in the middle of the introducing hole part 8 so as to oppose to the introducing direction P of the introducing hole part 8. - 特許庁
  • ガス導入部3から導入されたキャリアガスCが、加熱2を通過する。
    Carrier gas C introduced from the gas introducing part 3 passes the heating part 2. - 特許庁
  • 排ガス導入部121は、加熱容器110の内に窒素元素を含む排ガスを導入する。
    The exhaust gas introducing part 121 introduces the exhaust gas including nitrogen element into an interior of the heating container 110. - 特許庁
  • 流入口5から導入した水を外かご1の外から内導入する。
    Water introduced from an inflow port 5 is led into the inside from the outside of outer cage 1. - 特許庁
  • 電極は気体導入口15から第1内空間に導入された気体の圧力を受ける。
    The electrode part 20 receives the pressure of a gas introduced into the first internal space S1 through a gas inlet port 15. - 特許庁
  • イオン化38には大気ガス導入部50で取り込まれた測定対象ガスも導入する。
    Gas to be measured which is taken in at an atmosphere gas introducing part 50 is also introduced to the ionization part 38. - 特許庁
  • 調圧装置6は、基礎信号圧導入部32と、二次圧導入部29とを有している。
    The pressure regulating device 6 has a basic signal-pressure inlet 32 and a secondary-pressure inlet 29. - 特許庁
  • 被検体導入部5は、前記主体内に形成され、前記被検体が導入される。
    The specimen introducing section 5 is formed within the main unit and receives a sample. - 特許庁
  • 導入10を介して導入された水は拡張貯留12に貯留される。
    The water introduced through the introduction cylindrical part 10 is stored in the extended water storage part 12. - 特許庁
  • 導入部96で導入方向を規制されたストッパリングを保持92へ挿入する。
    A stopper ring regulated of a guiding direction by a guide part 96 is inserted into a retainer 92. - 特許庁
  • 光束導入部121は、チャンバ1の内に、基板加熱用の光束を導入する。
    A light-flux introducing part 121 introduces a light flux for heating a substrate to the interior of the chamber 1. - 特許庁
  • このマイクロインジェクション装置は、内導入物質の充填された微小な注入針11を被導入体に挿入することにより、被導入体内に導入物質を導入するものである。
    The microinjection apparatus is designed to introduce the introduction material into each body to be introduced by inserting a microinjection needle 11 filled with the introduction material in the interior thereof into the body to be introduced. - 特許庁
  • 溝11は、導入部11aと水平11bとからなる。
    The groove 11 consists of a introducing part 11a and a horizontal part 11b. - 特許庁
  • 導入部16には光散乱17が設けられている。
    The inlet part 16 comprises a light scattering part 17. - 特許庁
  • 温度制御3は、導入部2の温度を制御する。
    The temperature control section 3 controls temperature at the gas guide section 2. - 特許庁
  • インク導入部の開口した分でインク導入口を覆うようにマニホールドがヘッドチップの側面に取り付けられた状態で、ヘッドチップの側面とインク導入部とによって、インク導入口に連通してインクを導入する導入路を構成する。
    Under a state where the manifold is fixed to the side face of the head chip to cover the ink inlet at the opening part of the ink introducing section, a passage communicating with the ink inlet and introducing ink is defined by the side face of the head chip and the ink introducing section. - 特許庁
  • 窒素ガス導入部16からはタンク13内に窒素ガスが導入され、導入された窒素ガスは、HMDS15の液面に吹き付けられる。
    Nitrogen gas is introduced into the tank 13 from a nitrogen gas introducing unit 16 and the introduced nitrogen gas is blown against the level of the HMDS 15. - 特許庁
  • 電力導入装置は、静電チャックに供給するための電力を外電源から導入する電力導入機構を備える。
    A power supply apparatus includes a power supply mechanism which supplies, from an external power supply, electric power to be supplied to an electrostatic chuck. - 特許庁
  • イオントラップ室2に、衝突ガス導入管25または浄化ガス導入管26より温調27で温調されたガスを導入する。
    Gas regulated in temperature by a temperature regulating part 27 is led into an ion trap chamber 2 from a collision gas leading pipe 25 or a purified gas leading pipe 26. - 特許庁
  • そして、不活性ガスは、供給孔7aからガス導入部4bに供給された後、導入孔4aからポッド6内に導入される。
    Then, the inert gas is supplied from the supply hole 7a to the gas introduction part 4b and then introduced from the introduction hole 4a into the pod 6. - 特許庁
  • ガス導入部11及び15は分岐導入管13,17を有しており、原料ガスは各反応空間10に導入される。
    The gas introducing parts 11 and 15 have branching introducing pipes 13 and 17, and the source gas is introduced to each reaction space 10. - 特許庁
  • 筐体21の上板には、電源線導入口31と、この電源線導入口31の右側に位置する信号線導入口32を設ける。
    The upper plate of the cabinet 21 has a power line port 31, and a signal line port 32 which lies at the right side of this power line port 31. - 特許庁
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