「残基」を含む例文一覧(7356)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 147 148 次へ＞- 又、飽和直鎖脂肪酸残基としては、ラウリン酸残基、ミリスチン酸残基、パルミチン酸残基、ステアリン酸残基、ベヘン酸残基等が好適に例示でき、ラウリン酸残基が特に好ましい。
As the saturated linear fatty acid residue, a lauric acid residue, myristic acid residue, palmitic acid residue, stearic acid residue, behenic acid residue or the like can be suitably exemplified, and the lauric acid residue is particularly preferable. - 特許庁 - （Ｒ_1は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有し、アルカン残基、シクロアルカン残基、ヘテロ環式化合物残基または芳香族化合物残基を示す。Ｒ_2は、水素原子、メルカプト基、アルカン残基、シクロアルカン残基、ヘテロ環式化合物残基または芳香族化合物残基を示す。）
The compound is produced by reacting a polythiol having ≥3 mercapto groups with a tetrahalogenogermanium. - 特許庁 - 光架橋は、シンナモイル基、シンナミリデン基、カルコン残基、イソクマリン残基、２，５−ジメトキシスチルベン残基、チミン残基、スチルピリジニウム残基、α−フェニルマレイミド残基、アントラセン残基及び２−ピロン残基、又は、芳香族ビスアジドにより行うことが望ましい。
It is desirable to make photo bridging with a cinnamoyl group, cinnamylidene group, chalcone group, isocoumarin residue, 2,5-dimethoxystilbene residue, thymine residue, styrylpyridinium residue, α-phenylmaleimide residue, anthracene residue and 2-pyrone residue, or bisazide of aromatic compound. - 特許庁 - シクロドデシリデンビスフェノール残基、およびまたは酸残基およびまたはエステル残基、およびまたはエーテル残基を含む環状オリゴマー。
The cyclic oligomer includes a cyclododecylidene bisphenol residue, and/or an acid residue and/or an ester residue, and/or an ether residue. - 特許庁 - ３残留基準等告示関係
3 Residue Standards - 厚生労働省 - （ｂ）システイン残基またはリジン残基を１個以上含む。
(b) A cysteine residue or a lysine residue is included by one or more. - 特許庁 - 下記一般式（１）：Ｆｒｕ−Ａ−Ｂ−Ｒ （１）〔式中、Ｆｒｕはフルクトシル残基、Ａはバリン残基又はイソロイシン残基を示し、Ｂはチロシン残基、フェニルアラニン残基、バリン残基又はイソロイシン残基を示し、Ｒはヒドロキシ基又はメトキシ基を示す。
There is provided fructosyl dipeptide represented by general formula (1): Fru-A-B-R (1) or a salt thereof, and also provided a skin care preparation for external use, a hair growth inhibitor and a wrinkle-preventing or improving agent, each containing the same. - 特許庁 - （Ｅ）では後続のアミノ酸残基が３個不足するため、アミノ酸残基Ａ_mをアミノ酸残基Ａ_m+3として、アミノ酸残基Ａ_m-1をアミノ酸残基Ａ_m+2として、アミノ酸残基Ａ_m-2をアミノ酸残基Ａ_m+1として割り当てる。
In figure (E), since succeeding amino acid residues are short by three, the amino acid residue A_m is assigned as an amino acid residue A_m+3, and the amino acid residue A_m-1 is assigned as the amino acid residue A_m+2, and the amino acid residue A_m-2 is assigned as the amino acid residue A_m+1. - 特許庁 - （Ｂ）芳香族ジカルボン酸残基を主成分とするジカルボン酸残基成分と、所定の脂肪族ジオール残基、及び必要に応じて脂環式ジオール残基を主成分とするジオール残基成分とからなるポリエステル系樹脂。
(B) The polyester-based resin comprising a dicarboxylic acid residue component consisting mainly of an aromatic dicarboxylic acid residue and a diol residue component consisting mainly of a prescribed aliphatic diol residue and, if necessary, an alicyclic diol residue. - 特許庁 - （Ｂ）では先行するアミノ酸残基が２個不足するため、アミノ酸残基Ａ_1をアミノ酸残基Ａ_-1として、アミノ酸残基Ａ_0をアミノ酸残基Ａ_-2として割り当てる。
In figure (B), since preceding amino acid residues are short by two, the amino acid residue A_1 is assigned as the amino acid residue A_-1, and an amino acid residue A_0 is assigned as an amino acid residue A_-2. - 特許庁 - （Ｄ）では後続のアミノ酸残基が２個不足するため、アミノ酸残基Ａ_m-1をアミノ酸残基Ａ_m+1として、アミノ酸残基Ａ_mをアミノ酸残基Ａ_m+2として割り当てる。
In figure (D), since succeeding amino acid residues are short by two, an amino acid residue A_m-1 is assigned as the amino acid residue A_m+1, and an amino acid residue A_m is assigned as an amino acid residue A_m+2. - 特許庁 - 構造体を構成するタンパク質は、好ましくはアスパラギン酸残基又はグルタミン酸残基、及びリジン残基を有し；かつ架橋化は、好ましくはアスパラギン酸残基又はグルタミン酸残基の-COOH基とリジン残基又はN末の-NH_2基との縮合反応により形成されるものである。
The protein constituting the structure body preferably has an aspartic acid residue or a glutamic acid residue and a lysin residue; and the cross-linkage is preferably formed by a condensation reaction of -COOH group of the aspartic acid residue or a glutamic acid residue with -NH_2 group of the lysin residue or the N-terminal. - 特許庁 - シラノール残基を表面に持つ基材用接着剤
ADHESIVE FOR SUBSTRATE HAVING SILANOL RESIDUE IN ITS SURFACE - 特許庁 - エネルギー線重合性化合物のビスフェノール残基としては、ビスフェノールＡ型残基又はビスフェノールＦ型残基が挙げられる。
The bisphenol residue of the energy ray polymerizable compound is for example, a bisphenol-A residue or a bisphenol-F residue. - 特許庁 - エネルギー線重合性化合物の有橋炭化水素残基としては、ジシクロペンタニル残基又はジシクロペンテニル残基が挙げられる。
The bridged hydrocarbon residue of the energy ray polymerizable compound is for example, a dicyclopentanyl residue or a dicyclopentenyl residue. - 特許庁 - 電気化学的に活性なアミノ酸残基を含むタンパク質として、トリプトファン残基及び／又はチロシン残基を含むタンパク質を用いる。
A protein including a tryptophan residue and/or a tyrosine residue is used as the protein including the eletrochemically active amino acid residue. - 特許庁 - （Ａ）では先行するアミノ酸残基が１個不足するため、アミノ酸残基Ａ_1をアミノ酸残基Ａ_-1として割り当てる。
In figure (A), since a preceding amino acid residue is short by one, an amino acid residue A_1 is assigned as an amino acid residue A_-1. - 特許庁 - （Ｃ）では後続のアミノ酸残基が１個不足するため、アミノ酸残基Ａ_m-2をアミノ酸残基Ａ_m+1として割り当てる。
In figure (C), since a succeeding amino acid residue is short by one, an amino acid residue A_m-2 is assigned as an amino acid residue A_m+1. - 特許庁 - ポート残留率Ppおよび吸気弁残留率Pvに基づき、ポート残留量fwpおよび吸気弁残留量fwvを更新する（ステップ１５８）。
Port remaining quantity fwp and intake valve remaining quantity fwv are renewed based on the port remaining rate Pp and the intake valve remaining rate Pv (step 158). - 特許庁 - （Ｂ）イソフタル酸残基以外の芳香族ジカルボン酸残基を主成分とするジカルボン酸残基成分と所定の脂肪族ジオール残基、及び必要に応じて脂環式ジオール残基を主成分とするジオール残基成分とからなるポリエステル系樹脂。
(B) The polyester-based resin comprising a dicarboxylic acid residue component consisting mainly of an aromatic dicarboxylic acid residue except isophthalic acid residue and a diol residue component consisting mainly of a prescribed aliphatic diol residue and, if necessary, an alicyclic diol residue. - 特許庁 - 特定の単量体残基単位（Ａ）、好ましくはアリル−２−ブロモイソブチレート残基単位、アリル−２−ヨードイソブチレート残基単位、クロロ酢酸ビニル残基単位よりなる群より選択される単量体残基単位及び塩化ビニル単量体残基単位（Ｂ）からなる塩化ビニル系重合体。
The vinyl chloride-based polymer comprises a specific monomer residual group unit (A), preferably a monomer residual group unit selected from the group consisting of an allyl-2-bromoisobutyrate residual group unit, an allyl-2-iodobutyrate residual group unit and a vinyl chloroacetate residual group unit, and vinyl chloride monomer residual group unit (B). - 特許庁 - アミノ酸残基又はペプチド残基を有する化合物、及びその製造方法
COMPOUND HAVING AMINO ACID RESIDUE OR PEPTIDE RESIDUE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁 - ジオール残基とジカルボン酸残基とを含む芳香族ポリエステル共重合体において、ジオール残基として、特定のポリオキシアルキレンプロパンジオール残基と、特定のアルキレンジオール残基と、特定の糖質由来のエーテルジオール残基とを含み、ジカルボン酸残基が、主としてテレフタル酸残基よりなるようにする。
This aromatic polyester copolymer having diol residues and dicarboxylic acid residues is provided by containing as the diol residues, specific polyoxyalkylene propane diol residues, specific alkylene diol residues and ether diol residues derived from a specific sugar, and the carboxylic acid residue consisting mainly of terephthalic acid residues. - 特許庁 - アミノ酸残基部分を内包する金属錯体及びアミノ酸残基の認識方法
METAL COMPLEX INCLUDING AMINO ACID RESIDUE PART AND METHOD FOR RECOGNIZING AMINO ACID RESIDUE - 特許庁 - 責任アミノ酸残基予測方法および責任アミノ酸残基予測プログラム
RESPONSIBLE AMINO ACID RESIDUE PREDICTION METHOD AND RESPONSIBLE AMINO ACID RESIDUE PREDICTION PROGRAM - 特許庁 - 【解決手段】表示装置１は残湯量受信手段２１で受信した残湯量と、利用者が残湯量基準値入力手段２３から入力された基準残湯量とを残湯量比較手段２４を用いて比較する。
In the display device 1, a hot water remaining amount received by a hot water remaining amount receiving means 21 is compared with a reference hot water remaining amount input from a hot water remaining amount reference value inputting means 23 by the user by using a hot water remaining amount comparing means 24. - 特許庁 - 基本的な疑問は解決されないまま残っている。
Fundamental questions remain unanswered. - 英語論文検索例文集 - 基本的な疑問は解決されないまま残っている。
Fundamental questions remain unanswered. - 英語論文検索例文集 - 「東園基長卿記」という日記を今日に残す。
His diary called "A Diary of Lord Motonaga HIGASHIZONO" ("Higashizono Motonaga Kyo-ki" in Japanese) remains today. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - 棺内に人骨が残った木棺墓が2基検出
Two sets of wooden coffin have been discovered, which contained the bones of a person in each coffin. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - リジン及びシステイン残基を含まないタンパク質
PROTEIN NOT CONTAINING LYSINE AND CYSTEINE RESIDUES - 特許庁 - また、トリシクロデカンジメタノールに由来するジオール残基と脂肪族ジオールに由来するジオール残基とのモル比において、一方のジオール残基が他方のジオール残基よりも多い方が好ましい。
As for the molar ratio between the diol residue derived from the tricyclodecane dimethanol and the diol residue derived from the aliphatic diol, one diol residue is preferably more than the other diol residue. - 特許庁 - アミノ酸残基を有するアクリル酸誘導体
ACRYLIC ACID DERIVATIVE BEARING AMINO ACID RESIDUE - 特許庁 - （Ａ）所定量の脂環式ジカルボン酸残基を含むジカルボン酸残基成分と、エチレングリコール残基を主成分とするジオール残基成分とからなるポリエステル系樹脂。
(A) The polyester-based resin comprising a dicarboxylic acid residue component containing a prescribed amount of an alicyclic dicarboxylic acid residue, and a diol resin component consisting mainly of ethylene glycol residue. - 特許庁 - （Ｂ）芳香族ジカルボン酸残基を主成分とするジカルボン酸残基成分と、所定の脂肪族ジオール残基を主成分とするジオール残基成分とからなるポリエステル系樹脂。
(B) The polyester-based resin comprising a dicarboxylic acid residue component consisting mainly of an aromatic dicarboxylic acid residue and a diol residue component consisting mainly of a prescribed aliphatic diol residue. - 特許庁 - 横軸はアミノ酸残基の配列番号ｊである。
A horizontal axis shows sequence numbers j of amino acid residue. - 特許庁 - （Ｃ）芳香族ジカルボン酸残基を主成分とするジカルボン酸残基成分と、所定量の脂環式ジオール残基を含有するジオール残基成分とからなるポリエステル系樹脂。
(C) The polyester-based resin comprising a dicarboxylic acid residue component consisting mainly of an aromatic dicarboxylic acid residue and a diol residue component consisting mainly of a prescribed amount of an alicyclic diol residue. - 特許庁 - 糖残基を含む架橋剤含有ポリマー眼用レンズ
OCULAR LENS OF POLYMER CONTAINING CROSSLINKING AGENT INCLUDING SUGAR RESIDUE - 特許庁 - 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法
PRODUCTION OF UNSATURATED HYDROCARBON RESIDUE- SUBSTITUTED ANILINES - 特許庁 - アルカリ処理したのちにスルホン酸基を残存させる。
The sulfonic acid group is left after alkali treatment. - 特許庁 - 式（Ｉ），（II）中、Ｇは糖残基である。
In formulae (I) and (II), G is a sugar residue. - 特許庁 - 上記の式中、Ａは、二価の有機残基を表す。
In the formula: A is a divalent organic residue. - 特許庁 - ウラシル残基を含有する超分岐高分子
HYPERBRANCHED POLYMER CONTAINING URACIL RESIDUE - 特許庁 - 残像及びムラの発生を防ぐ表示基板の提供。
To provide a display substrate preventing generation of afterimages and spots. - 特許庁 - チロシン残基含有ポリマーおよびその製造方法
POLYMER CONTAINING TYROSINE RESIDUE AND PREPARATION THEREOF - 特許庁 - フラックス残渣被膜の処理方法及び電子回路基板
PROCESSING METHOD FOR FLUX REMAINDER COAT AND ELECTRONIC CIRCUIT BOARD - 特許庁 - （式中、Ｂはプリン誘導体残基を表わす。）
(In formulas, B is a purine derivative residue). - 特許庁 - 糖鎖の選択的末端糖残基同位体標識法
METHOD FOR SELECTIVELY LABELING TERMINAL SUGAR RESIDUE ISOTOPE OF SUGAR CHAIN - 特許庁 - そのフラックス残さ膜を有する回路基板。
The circuit board having the flux residual films thereof. - 特許庁 - 回路基板およびフラックス残渣処理方法
CIRCUIT BOARD AND TREATMENT METHOD FOR FLUX RESIDUE - 特許庁
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