「硫酸ばんど」を含む例文一覧(135)

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  • 凝集剤は硫酸バンドまたはポリ塩化アルミニウムが好ましい。
    As the flocculant, aluminum sulfate or polyaluminum chloride is preferred. - 特許庁
  • 硫酸バンドと消石灰を含む水溶液を乾燥してなる脱リン材。
    The dephosphorization material is produced by drying an aqueous solution containing aluminium sulfate and slaked lime. - 特許庁
  • 或いは、該スケール物質と同一又は類似の結晶を硫酸及び/又は硫酸バンドと共に添加する。
    Or, the same or similar crystals as scale substances are added together with the sulfuric acid and/or aluminum sulfate. - 特許庁
  • 高炉スラグ微粉末または石炭灰を含む地盤注入材に強度促進材である硫酸ナトリウムまたは亜硫酸ナトリウムを混合する。
    A grouting material comprising blast furnace slag fine powder or coal ash is mixed with sodium sulfate or sodium sulfite which are a hardness improving agent. - 特許庁
  • ホウ素を含有する廃棄物または土壌に、カルシウムと、硫酸イオンを含む化合物(例えば10〜60重量%程度に希釈した硫酸)または硫酸イオンとアルミニウムイオンを含む化合物(例えば液体硫酸バンド)とを混合することにより、ホウ素を不溶化する。
    Calcium and a sulphate ion-containing compound (for example, a sulfuric acid diluted to 10-60 wt.%) or a compound containing the sulphate ion and aluminum ion (for example, a liquid sulfate band) are mixed into boron-containing waste or soil to insolubilize the boron. - 特許庁
  • 酸化マグネシウムと硫酸アルミニウム、硫酸第1鉄、ポリ塩化アルミニウム、酸性硫酸ナトリウム、スルファミン酸、ポリアクリル酸、硫酸アンモニウム、明ばん、仮焼明ばん石、および硫酸亜鉛からなる群から選ばれた一種または二種以上の固化剤とを含有する土壌固化剤を土壌に添加混合することによって該土壌を迅速に固化せしめる。
    Soil is rapidly solidified by adding thereto and mixing therewith a soil-solidifying agent comprising magnesium oxide and one or more solidifying agents selected from the group consisting of aluminum sulfate, ferrous sulfate, polyaluminum chloride, acid sodium sulfate, sulfamic acid, polyacrylic acid, ammonium sulfate, alum, calcined alunite and zinc sulfate. - 特許庁
  • 銅合金板への高電流密度Snめっき用硫酸浴及びSnめっき方法
    SULFURIC ACID BATH FOR PLATING Sn ON COPPER ALLOY SHEET AT HIGH CURRENT DENSITY, AND METHOD FOR PLATING Sn - 特許庁
  • 混合する硫酸ナトリウムなどの量は、地盤注入材の組成中1〜20重量%である。
    The amount of sodium sulfate mixed is 1-20 wt.% in the composition of the grouting material. - 特許庁
  • 過酸化水素/硫酸系エッチング液による銅張回路基板のエッチング方法
    ETCHING METHOD FOR COPPER-CLAD CIRCUIT BOARD WITH HYDROGEN PEROXIDE/SULFURIC ACID BASED ETCHING LIQUID - 特許庁
  • 高温霧状硫酸による半導体基板の洗浄方法及び洗浄装置
    CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH HIGH TEMPERATURE MIST SULFURIC ACID AND CLEANING EQUIPMENT - 特許庁
  • アレルゲン低減化成分は、芳香族ヒドロキシ化合物;アルカリ金属の炭酸塩、明礬、ラウリルベンゼンスルホン酸塩、ラウリル硫酸塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸塩;リン酸塩と、硫酸亜鉛及び/又は酢酸鉛;からなる群より選ばれる少なくとも1つが好ましい。
    It is preferable that the allergen reduction component is at least one species selected from the group consisting of an aromatic hydroxy compound; alkaline metal carbonate, alum, lauryl benzensulfonic acid, lauryl sulfate and polyoxyethylene lauryl ether sulfate; phosphate zinc sulfate and/or lead acetate. - 特許庁
  • 木質板の原料である木質材料において、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ピロ亜硫酸塩類または亜二チオン酸塩の常温で固体のアルデヒド類捕集用化合物を、酸と反応させて亜硫酸ガスを発生させることによってホルムアルデヒド系接着剤から発生するアルデヒド類を低減させる工程を設ける。
    There is provided the process of reducing an amount of aldehyde compounds generated from a formaldehyde type adhesive agent by reacting an acid with a scavenging compound for aldehydes including sulfite, hydrogen sulfite, pyrosulfite and dithionite which is solid at a room temperature, in a wood material for the wood board. - 特許庁
  • フォトマスク上に硫酸を付着させる可能性のあるペリクルフレーム由来の硫酸などの硫黄酸化物もしくは有機硫黄成分のような硫黄化合物を製造段階で適宜取り除くことにより、フォトマスク上に硫酸を付着させず、結果的に硫酸を基板上に付着させないペリクルおよびその製造方法を提供する。
    To provide a pellicle and a method for manufacturing the pellicle that prevents the deposition of a sulfuric acid on a photomask, resultantly preventing the deposition of the sulfuric acid on a substrate by appropriately eliminating, in a stage of manufacturing, sulfur oxides such as sulfuric acids or sulfur compounds such as organic sulfur components derived from a pellicle frame, which have a possibility of depositing the sulfuric acid on a photomask. - 特許庁
  • コンクリート廃材4,5;6,7,8を廃棄するに際し、固形硫酸バンドを含む固形硫酸バンド層1;2,3を混入し、埋め立て処理を行う。
    In the disposal of the waste concrete 4, 5, 6, 7, 8, solid aluminum sulfate layers 1, 2, 3 containing solid aluminum sulfate are incorporated and the reclamation treatment is performed. - 特許庁
  • 地盤改良領域の地下水面下2の固結土、或いは地盤開領域全体の硫酸イオン濃度の平均が10000ppm以下部分的になるように硫酸系非アルカリ性シリカ注入材を注入する。
    The sulfuric acid-based non-alkali silica injection material is injected so that the sulfuric acid ion concentration in a consolidated soil under an underground water level 2 in the soil improvement area or the overall soil improvement area can be 10000 ppm or less in average partially. - 特許庁
  • 上記薬品の組み合わせ(特に成分(a)と(e)と(f))と、硫酸バンドの添加位置の最適化とにより、硫酸バンドの少ない場合の上記弊害を解消できる。
    The negative effects in a case where aluminum sulfate is slight can be dissolved by combination [particularly combination of components (a), (e) and (f)] of the above chemicals and optimization of additional position of aluminum sulfate. - 特許庁
  • 填料として炭酸カルシウムを使用し、硫酸バンドを使用しないか硫酸バンド使用量が少ない中性抄造においても、サイズ性と嵩高性とを両立させた紙を提供することを目的とする。
    To provide a paper having both of sizability and bulkiness by using calcium carbonate as a filler even by neutral papermaking without using aluminium sulfate or using a little amount of the aluminium sulfate. - 特許庁
  • 地下水面下の硫酸イオンを含む非アルカリ性シリカ注入材による固結土または地盤改良領域全体の硫酸イオン濃度の平均が10000ppm以下になるように注入する。
    Injection is made so that the sulfuric acid ion concentration in a consolidated soil under an underground water level by the non-alkali silica injection material including sulfuric acid ions or the overall soil improvement area can be 10000 ppm or less in average. - 特許庁
  • 銅合金板に高電流密度でSnめっきするに際し、泡立ちが少なくめっき焼けも生じない硫酸浴及びこの硫酸浴を用いたSnめっき方法を提供する。
    To provide a sulfuric acid bath which foams little and does not cause plating burning when plating Sn on a copper alloy sheet at a high current density, and to provide a method for plating Sn with the use of the sulfuric acid bath. - 特許庁
  • 硫酸及び/又は硫酸バンド添加後の抄紙工程水又は原料調製工程水のpHに応じて、スケール物質と同一又は類似の結晶の添加量を調節する。
    The addition amount of the same or similar crystals as scale substances is adjusted in response to the pH of papermaking process water or raw material-preparing process water after the addition of sulfuric acid and/or aluminum sulfate. - 特許庁
  • Znを含む化合物からなる基板11を硫酸銅溶液に浸漬してこの基板11上にCu薄膜12を形成する。
    A substrate 11 consisting of a compound containing Zn is immersed in a solution of copper sulfate to deposit a Cu thin film 12 on the substrate 11. - 特許庁
  • 関節疾患、椎間板疾患などの治療に有用なコンドロイチン硫酸合成促進剤を提供する。
    To provide a chondroitin sulfate synthesis promoter useful for the treatment of articular diseases, intervertebral disk diseases, etc. - 特許庁
  • 銅合金板に高電流密度でSnめっきを施すに際し、泡立ちが少なくてスラッジの発生量も少なくめっき焼けも発生しない高電流密度Snめっき用硫酸浴及びその硫酸浴を用いた銅合金板へのSnめっき方法を提供する。
    To provide a sulfuric acid bath for plating Sn at a high current density which foams little, has reduced production quantity of sludge and does not cause plating burning upon plating Sn on a copper alloy sheet at a high current density, and to provide a method for plating Sn on a copper alloy sheet with the use of the sulfuric acid bath. - 特許庁
  • 硫酸バンド、貝化石粉末及びゼオライトの適量を混合したことを特徴とする浄水剤を使用するものである。
    A water cleaning agent mixed with adequate quantities of the aluminum sulfate, the fossil shell powder and the zeolite is used. - 特許庁
  • フッ化水素での洗浄後に硫酸を用いた洗浄を実施してもウォータマークを抑制できる半導体基板の洗浄方法を提供する。
    To provide a cleaning method of a semiconductor substrate which can control a watermark even if cleaning is completed using a sulfuric acid after the cleaning using a hydrogen fluoride. - 特許庁
  • 粒子形状が針状の塩基性硫酸マグネシウムで合成樹脂を強化した複合材料を成形して振動板とした。
    The diaphragm is obtained by molding a composite material resulting from reinforcing a synthetic resin with basic magnesium sulfate whose particle is needle-like shaped. - 特許庁
  • 転写後の樹脂基板(樹脂成形品30)を例えば硫酸銅めっき浴であるメッキ浴に浸漬し、電解メッキ処理を行う。
    The resin substrate (resin molded product 30) after transfer is immersed into a plating bath, e.g. a sulphuric acid copper plating bath to execute electrolytic plating processing. - 特許庁
  • 硫酸バンドを使用してもその効果が十分発揮できない抄造系における製紙方法を改良する。
    To improve a paper-making method in a paper-making system where the effect of aluminum sulfate can sufficiently be exhibited even by using aluminum sulfate. - 特許庁
  • 固形硫酸バンド層1,2の位置H2は、全体の堆積高さH1の1/16よりも下方(H1/16≦H2)とする。
    The position H2 of the solid aluminum sulfate layers 1, 2 is made lower than the position of 1/16 of the total pile height H1, that is, H1/16 ≤ H2. - 特許庁
  • 填料として炭酸カルシウムを使用し、硫酸バンドを使用しないか硫酸バンド使用量が少ない中性抄造においても、優れたサイズ性を付与できるとともに、蛍光強度の減少が小さく白色性に優れた印刷用紙を提供すること。
    To provide printing paper which can impart an excellent sizing property, even when acid-free paper using calcium carbonate as a filler and not using aluminum sulfate or using a small amount of the aluminum sulfate is made, has a reduced reduction in fluorescence intensity, and is excellent in whiteness. - 特許庁
  • また、仕切り板21により仕切られた循環タンク5の吸収液酸化域15で亜硫酸から硫酸にpHを2〜4に維持したまま酸化され、亜硫酸カルシウムが析出することなく石膏まで反応を進めることができ、酸化不足による脱硫性能の低下及び石膏純度の低下を防止できる。
    Sulfurous acid is oxidized to sulfuric acid at an absorbing solution oxidizing region 15 of the circulation tank 5 divided by the partition plate 21 while keeping pH at 2-4 and the reaction to gypsum is proceeded without precipitating calcium sulfite, and the lowering the desulfurization performance and the lowering in the purity of gypsum due to insufficient oxidation can be prevented. - 特許庁
  • 填料として炭酸カルシウムを使用し、硫酸バンドを使用しないか硫酸バンド使用量が少ない中性抄造においても、優れたサイズ性を付与できるとともに、サイズプレス吸液量が増加することなく、摩擦係数の低下抑制に優れた印刷用紙を提供すること。
    To provide a printing paper exhibiting excellent sizing performance imparted even by neutral papermaking using calcium carbonate as a filler and using no or a slight amount of aluminium sulfate, and having a friction coefficient excellently prevented from being reduced without increasing a liquid absorption amount by a size press. - 特許庁
  • 填料として炭酸カルシウムを使用し、硫酸バンドを使用しないか硫酸バンド使用量が少ない中性抄造においても、ワイヤーをはじめとする抄紙機の汚れを低減しつつ、優れたサイズ性を付与できる印刷用紙を提供すること。
    To provide a printing paper exhibiting excellent sizing performance imparted even by neutral papermaking using calcium carbonate as a filler and using no or a slight amount of aluminium sulfate, while reducing the staining of a paper machine exemplified by a wire. - 特許庁
  • 男はまた地下室に戻り、最後に残っていた五番目のワインケースを開けた。五番目のケースには、本物のワインが入っていた。男はそのワインを、硫酸が入っていたビンにまんべんなく注いでいった。硫酸のにおいを飛ばしてしまおうというねらいだった。
    When the sailor returned to the cellar with the last empty wine bottles, he opened the fifth case, which really contained wine, took some of it out, and poured a little into each of the empty bottles in order to remove any possible odor of the sulphuric acid.  - Melville Davisson Post『罪体』
  • 銅メッキされたカーボン電極を陽極、チタン板を陰極として、硫酸銅・五水和物及び硫酸を含有する電解用水溶液を用いて、陽極酸化作用によりカーボン電極表面の銅被膜を自動剥離させる。
    A copper-plating film on the surface of the carbon electrode is automatically peeled by the anode oxidizing effect by using an aqueous solution for electrolysis containing copper sulfate penta-hydrate and sulfuric acid with the copper-plated carbon electrode as the anode and a titanium plate as a cathode. - 特許庁
  • 十分に混合された硫酸および過酸化水素水を基板の表面に供給することができ、これにより、基板の表面に良好な処理を施すことが基板処理装置および基板処理方法を提供する。
    To provide a substrate treatment apparatus and a method of treating a substrate with which satisfactory treatment on the surface of the substrate can be carried out by feeding thoroughly mixed sulfuric acid and hydrogen-peroxide aqueous solution to the surface of the substrate. - 特許庁
  • 硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。
    To effectively and securely clean an electronic material substrate for which a highly cleaned surface is required, such as a silicon wafer, liquid crystal glass substrate, and photomask substrate. - 特許庁
  • 硫酸と過酸化水素水とを混合してレジスト剥離液を生成し基板に供給する基板処理装置において、状況に応じて適切に温度調節されたレジスト剥離液を基板に供給する。
    To supply a resist separation liquid with temperature appropriately regulated in accordance with a situation to a substrate, in a substrate processing apparatus configured to produce a resist separation liquid by mixing sulfuric acid with a hydrogen peroxide solution to be supplied to a substrate. - 特許庁
  • 洗浄処理槽内14に配置された基板支持台22上に精密基板30を保持し、硫酸とオゾン水をそれぞれ別個の供給口26,27から基板上に同時に供給して枚葉式に洗浄する。
    The precision substrate 30 is held on a substrate holding stage 22 provided in a cleaning process container 14 and cleaned one by one by feeding sulfuric acid and ozone water from individual feeding openings 26 and 27 onto the substrate. - 特許庁
  • 回路パターン転写法において、仮基板として銅箔キャリア5付きの銅張り積層板4を使用し、これに硫酸銅めっき層7を形成する。
    In a method for transferring a circuit pattern, a copper-clad lamination plate 4 with a copper foil carrier 5 as a tentative substrate is used, and a copper sulfate plating layer 7 is formed thereon. - 特許庁
  • これにより、半導体基板上の硫酸イオンを下地の半導体基板をエッチングすることなくほぼ完全に除去し、安定して清浄な表面を得ることができる。
    As a result, sulfate ions on the semiconductor substrate are removed almost completely without etching the semiconductor substrate of ground, and a clean surface is obtained stably. - 特許庁
  • また上記潤滑剤廃液に硫酸ばんど、苛性ソーダー塩化アルミニウム、または無水塩化石灰を加え、固形分を沈殿、分離させ浄化処理する。
    The lubricant waste is defecated by adding aluminum sulfate, caustic soda-aluminum chloride or anhydrous calcium chloride to the waste and precipitating and separating the solid component. - 特許庁
  • 硫酸と過酸化水素水との混合液を用いて被処理基板から汚染物質を除去する処理にあたり、前記混合液による汚染物質の除去能の低下を抑制することが可能な基板処理装置などを提供する。
    To provide a substrate processing apparatus etc., capable of suppressing a decrease in capability of removing contaminant by a mixed liquid of a sulfuric acid and a hydrogen peroxide solution in a process of removing the contaminant from a substrate to be processed using the mixed liquid. - 特許庁
  • または、硫酸と過酸化水素水との混合液によって基板の表面からレジスト膜が剥離された後に、超音波振動SC1工程が行われて、基板の表面に超音波振動が付与されたSC1が供給される。
    Alternatively, after a resist film was peeled from the surface of the substrate by using the mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution, ultrasonic vibration is given to the SC1, and the SC1 that has been given ultrasonic vibration is supplied to the surface of the substrate. - 特許庁
  • タルク、との粉の少なくともいずれかと、酸性白土、合成ゼオライトの少なくともいずれかと、硫酸バンド、カリ明礬の少なくともいずれかを混合してなることを特徴とするシンナー再生剤である。
    This thinner regenerant is formed by mixing at least one of talc and filling powder; at least one of acid clay and synthetic zeolite; and at least one of aluminum sulfate and potassium alum. - 特許庁
  • 硫酸法による酸化チタン製造時に発生する中和滓の路盤における高い支持力を維持、向上させながら、水に対する影響の度合いを小さくした中和滓を主原料とする路盤材料を提供する。
    To provide a base course material which is mainly composed of neutralized slag reducing the level of an influence on water, while maintaining and enhancing the high bearing capacity of the base course of the neutralized slag produced during the manufacture of a titanium oxide by a sulphuric acid method. - 特許庁
  • その後銅箔キャリア5を残して銅張り積層板4を剥離し、さらに残った銅箔キャリア5と硫酸銅めっき層7をエッチング除去する。
    Thereafter, the copper foil carrier 5 is left behind, and the copper-clad lamination plate 4 is released and the still left copper foil carrier 5 and the copper sulfate plating layer 7 are removed by etching. - 特許庁
  • −電極側の背面に導電性集電体として金属銅を原材料とする銅箔、銅板を適用することにより、電解液である希硫酸と前記金属銅の作用による静電容量の発現効果を利用する。
    Copper foil and a copper plate using metal copper as a raw material are provided as a conductive collector on the rear of a negative electrode side, so that the expression effect of capacitance generated by reaction between a dilute sulfuric acid as an electrolyte and the metal copper can be utilized. - 特許庁
  • 透光性基板100上に遮光性膜パターン111が形成されたフォトマスクであって、少なくとも遮光性膜パターン111が形成された側のフォトマスク表面における硫酸イオンや硫酸塩の残渣量を0.30ppb未満とすることによって素子寸法変動を抑制させられることが確認できた。
    A photomask is provided in which a light-blocking film pattern 111 is formed on a translucent substrate 100, and by keeping the residue amount of sulfate ions and sulfate on at least a surface of the photomask on the side of which the light-blocking film pattern 111 is formed should be less than 0.30 ppb, a variation in element size can be suppressed. - 特許庁
  • エポキシ樹脂、フェノール・キシリレン樹脂硬化剤、および硫酸バリウムを必須成分として含み、エポキシ樹脂100質量部に対し、フェノール・キシリレン樹脂硬化剤5〜15質量部、硫酸バリウム20〜50質量部が含有されている、ビルドアップ工法で製造される多層回路基板の層間絶縁層用樹脂組成物。
    The resin compound for the interlayer insulation layers of a multilayer circuit board manufactured by a buildup method includes an epoxy resin, a phenol-xylilene resin hardening agent, and barium sulfate as essential components, and contains a 5-15 mass parts phenol-xylilene resin hardening agent and 20-50 mass parts barium sulfate to 100 mass parts epoxy resin. - 特許庁
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  • 原題:”The Corpus Delicti”
    邦題:『罪体』
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