「露ほども」に関連した英語例文の一覧と使い方

「露ほども」を含む例文一覧(273)

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露ほども、露いささかも
（not） in the least - 斎藤和英大辞典
露ほども疑いは無い
There is not the shadow of a doubt. - 斎藤和英大辞典
恨み辛みは露ほども
Not a word of reproach do I utter! - 斎藤和英大辞典
よほど露骨な記者じゃなければこれ以上露骨なものは考えつくまい。」
The crudest of writers could invent nothing more crude." - Arthur Conan Doyle『シャーロック・ホームズの冒険』
その声からも、露ほども感情を読みとれなかった。
neither his voice nor his manner betraying the slightest emotion; - JULES VERNE『80日間世界一周』
彼女をだまそうなどという考えは露ほどもなかった.
I had no intention whatever of deceiving her. - 研究社新和英中辞典
そんな考えは露ほども有りません
Far be it from me to do such a thing. - 斎藤和英大辞典
また、それほど露骨な描写でない絵は危絵（あぶなえ）とも呼ばれた。
Also, more moderate picture was referred to as abunae (lit. a dangerous picture) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
通常露光信号、及び混合露光信号を入力とし、通常露光信号及び混合露光信号に対して所定のプリプロセスをそれぞれ施して通常露光データ及び混合露光データを生成する露光データ生成回路２２０を設ける。
An exposure data generating circuit 220 generates normal exposure data and mix exposure data by respectively providing predetermined pre-processes on a normal exposure signal and mix exposure signal with the normal exposure signal and mix exposure signal as inputs. - 特許庁
次に、基材１側から感光性セラミック層に露光を施す。
Then, the photosensitive ceramic layer is exposed to light from the substrate 1 side. - 特許庁
露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。
To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction. - 特許庁
本番の画像形成時においては、エッジ強調処理が施された画像データに基づいて露光される際に、露光強度補正マップに従って各位置における画素あたりの露光強度を調整することで露光量を補正する。
When really forming the image, the exposure amount is corrected by adjusting the exposure intensity per pixel at each position in accordance with the exposure intensity correction map when the exposure is performed based on image data with edge-emphasis processing applied thereto. - 特許庁
露光処理が施される複数の露光領域ＳＡと、複数の露光領域のそれぞれに設けられ各露光領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Ｇとを有する。
This substrate for deformation measurement is provided with a plurality of exposure regions SA to which exposure processing is performed and a deformation measurement device G installed in each of the plurality of exposure regions for measuring information related with deformation in each exposure region. - 特許庁
帯電電位が変わっても露光後の感光体表面の電位である露光電位の値が変化しないほどの露光パワーを用いることなく、最適な帯電電位及び露光パワーを設定する制御を行うことができる画像形成装置を提供する。
To provide an image forming device capable of carrying out control of setting an optimum charged electrical potential and exposure power without using exposure power such that a value of exposure electrical potential being an electrical potential of a photoreceptor surface after exposure does not change even if a charged electrical potential changes. - 特許庁
次に、所定の条件のもとで、露出している半導体基板１の表面に酸化処理が施される。
Then, the surface of the exposed semiconductor substrate 1 is subjected to oxidation treatment. - 特許庁
該露出部５上にて少なくとも端面52には、半田濡れ性向上のためのメッキが施されている。
On the exposed portion 5, at least the end face 52 is applied with plating to improve the solder wettability. - 特許庁
該露出部上にて少なくとも端面には、半田濡れ性向上のためのメッキが施されている。
On the exposed portion, at least the end face is applied with plating to improve the solder wettability. - 特許庁
本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。
In this electrode manufacturing process, the desired electrode pattern can be obtained by applying a first light exposure with the use of a lamp whose source is cost-effective diffusion light, and then applying a second light exposure with larger amount of light than the first light exposure. - 特許庁
その際、周縁領域の一部でセパレータの基材が露出するように樹脂コートが施される。
At this time, the resin coating is applied so that a separator base material is exposed at a part of the peripheral border area. - 特許庁
飲料容器に清涼感溢れる結露状模様を施し得る方法を提供する。
To provide a method for patterning a beverage bottle in dew drops causing a pleasant cooling sensation. - 特許庁
本露光によって得た画像信号に対して画像処理を施し、メモリに格納する。
The image processing is performed to the image signal obtained by the post exposure and the processed signal is stored in the memory. - 特許庁
太陽の熱は、熱帯の一部で時々ある場合とはちがって、露で集中したときにも燃えるほど強烈にはほとんどなりません。
The sun's heat is rarely strong enough to burn, even when it is focused by dewdrops, as is sometimes the case in more tropical districts. - H. G. Wells『タイムマシン』
おめおめと攻撃を待つなんてことは、最初から最後までフックのずる賢い頭には、露ほども思い浮かばなかったようです。
no thought of waiting to be attacked appears from first to last to have visited his subtle mind; - James Matthew Barrie『ピーターパンとウェンディ』
室外（11a）には、室外空気中の水蒸気を吸着する吸着ロータ（22）と、吸着ロータ（22）から脱離した水蒸気を含む湿潤空気を冷却して結露させる結露器（33）と、結露器（33）で結露した水を吸入して吐出する低流量で且つ高揚程のポンプ（37）とを設ける。
An adsorption rotor (22) for adsorbing water vapor in the outdoor air, a condensing unit (33) for cooling the humid air containing the water vapor separated from the rotor to condense the vapor, and a pump (37) sucking and discharging the water formed through condensation in the unit (33) and having a low flow rate and a high head, are provided in the outdoor (11a). - 特許庁
このとき、トナー補給制御に制限がかかっていない状態におけるパッチ画像形成時と画像形成時との露光出力差が大きいほど、パッチ画像形成時の露光出力の補正量よりも画像形成時の露光出力の補正量が大きい。
At this time, as the exposure output difference between the patch image forming time and the image forming time in the state where the toner supply control is not restricted increases, the correction amount of the exposure output during image forming is more larger than the correction amount of the exposure output during patch image forming. - 特許庁
結露防止対策が施された透明板組立体の組立作業効率を高めることを第１の目的とし、当該透明板組立体に効果的に結露防止対策を施すことを第２の目的とする。
To improve the efficiency in the assembly work of a transparent panel assembly with a means of preventing dew condensation, and to provide an effective means of preventing dew condensation for the transparent panel assembly. - 特許庁
半田接合部以外の線状部は材料が露出していてもよいし、またコーティング処理を施されてもよい。
A linear part of a material excepting the solder junction part can be exposed or provided with a coating processing. - 特許庁
重み付け処理部１２は、検出された顔領域において、長時間露光信号の輝度レベルを下げるような重み付け定数を用いて、長時間露光信号の輝度データに重み付け処理を施す。
A weighting processing section 12 applies weighting processing to luminance data of the long-time exposure signal using such a weighting constant as to reduce a luminance level of the long-time exposure signal in the detected face area. - 特許庁
電磁弁を室内機に配置しても、ユニットの構成、大きさを従来と同等にできるとともに、電磁弁の音対策、電磁弁への着露対策、ドレンカバーの着露対策を施した空気調和装置を得ること。
To provide an air conditioner having the constitution and the size of the unit same as those of a conventional one even if a solenoid valve is installed at an indoor unit and provided with a countermeasure to sound of the solenoid valve, a countermeasure to dew deposition to the solenoid valve, and a countermeasure to dew deposition to a drain cover. - 特許庁
電磁弁を室内機に配置しても、ユニットの構成、大きさを従来と同等にできるとともに、電磁弁の音対策、電磁弁への着露対策、ドレンカバーの着露対策を施した空気調和装置を得ること。
To obtain an air conditioner in which a solenoid valve can be arranged in an indoor machine with the same unit structure and size as in a conventional one, while performing sound control and dewing of the solenoid valve and dewing control of a drain cover. - 特許庁
感光材料を移動させるとともにその位置を検出し、その検出された位置情報に基づいて、所定のタイミングで感光材料に露光処理を施す露光方法において、感光材料の位置に応じた適切な露光処理を行う。
To perform proper exposure processing according to the position of a photosensitive material in an exposure method in which a photosensitive material is moved, its position is detected and the photosensitive material is exposed in designated timing according to detected position information. - 特許庁
また、強磁性体を用いた溝を施した部材１０１と光アイソレータの露出部分を覆う別の部材１０２により、磁石機能をもたせ、内部の光アイソレータ３の光を通過させる光学面だけを露出させる。
Further, a magnet function is given by the member 101 with the groove using the ferromagnetic body and another member 102 for covering the exposed part of the optical isolator, and the internal optical surface for transmitting the light of the optical isolator 3 is only exposed. - 特許庁
レチクル上に形成された回路パターンをウエハなどの基板上に転写する露光装置において、少なくともレチクルデバイスパターンが形成してある面の反対側の面の露光光線有効領域に反射防止膜を施したことを特徴とする露光方法。
In the exposure apparatus to transfer a circuit pattern formed on a reticle onto a substrate such as a wafer, an antireflection film is applied to the effective region for the exposure rays on the opposite face of the reticle to the face where at least a reticle device pattern is formed. - 特許庁
マルチビームタイプの露光走査装置を用いた場合のグロス書き込みモード時における形成画像の品質を低下させない措置を施した露光走査装置，あるいはそのような露光走査装置を備えた画像形成装置を提供すること。
To provide an exposure scanning apparatus which does not degrade a quality of an image formed in a gross write mode when a multi-beam type exposure scanning apparatus is used, or to provide an image forming apparatus equipped with such an exposure scanning apparatus. - 特許庁
一方、露光ユニットＥＸＰにてパターン露光の施された基板Ｗは戻り搬送ロボットＲＢＲによって受け取られて戻り基板載置部ＲＰＡＳＳに載置された後、搬送ロボットＴＲ４によって露光後加熱処理を行う加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに搬送される。
On the other hand, the substrate W on which pattern exposure processing is carried out by the exposure unit EXP is received by a return transfer robot RBR to be placed on a return substrate placement part RPASS, and then is transferred by a transfer robot TR4 to any one of PHP 7 through PHP 12 that perform post-exposure baking process. - 特許庁
平滑かつ広面積のガラスに結露着霜防止処置を特に施すことなく、また温風等を二次的に当てることなく、結露着霜防止となるような材料ないし成形物を提供する。
To obtain a dew condensation-proofing material or molded product that prevents dew condensation without specially subjecting smooth and wide-area glass to dew condensation treatment and/or without secondarily exposing the glass to hot air or the like. - 特許庁
眼鏡１００の丁番１２０に取付けられたネジ１４０Ｂを丁番１２０の下方に露出する程長いものに代え、ネジ１４０Ｂの露出部分に眼鏡用アタッチメントを取付けるための第１部材２００を取付ける。
A screw 140B attached to a hinge 120 of the spectacles 100 is replaced with a longer one so that it is exposed from the lower part of the hinge 120. - 特許庁
第３電極は、外周を絶縁円筒から露出させて、コンディショニング処理を施すときの片側の電極に利用してもよい。
The third electrode may be used on either one electrode when the conditioning process is applied by exposing the periphery of the electrode from the insulating cylinder. - 特許庁
長時間露光撮影時にも暗電流の補正および白キズの補正を施すことができるようにし、これによりさらなる画質の向上を図る。
To enhance image quality furthermore by correcting a dark current and a white flaw even in the case of photographing with long time exposure. - 特許庁
絶縁体が硬化収縮を起こしても、サンドブラスト処理を施したサンド面の露出を防ぎ強固な接着力を得る。
To provide a solid adhesive force while preventing a sand surface subjected to sand blast treatment from being exposed even when an insulating body causes hardening shrinkage. - 特許庁
撥水処理が施された所定領域の植毛層により、雨水や結露水等が領域４ｂの植毛層に浸透するのが妨げられる。
Because of the water-repellent hair-transplantation layer in a predetermined area, rainwater, dew water or the like can be prevented from penetrating into the hair-transplantation layer of the area 4b. - 特許庁
着脱可能な片開き戸12の縦枠８がその露出面側から木ねじやビス９により枠下地３に着脱可能に固定され、縦枠８を除去した際に露出する枠下地３の露出面に表面仕上げを施して構成したことを特徴とする。
A vertical frame 8 of an attachable single wing door 12 is detachably fixed to a frame backing 3 by a wood screw and a machine screw 9 from the exposed surface side, and is constituted by applying surface finishing to an exposed surface of the frame backing 3 exposed when removing the vertical frame 8. - 特許庁
このニー制御では、長時間露光信号と短時間露光信号の合成信号の輝度レベルが高いほどニーポイントを下げるとともに入射光量−輝度レベル直線の傾きを元に戻すように、ニーポイントおよび圧縮率が調整される。
Under the knee control, the knee point and compressibility are adjusted to lower the knee point more as the luminance level of a composite signal composed of the long-time exposure signal and short-time exposure signal is lower and also to put the gradient of the incident light quantity-luminance level straight line back to the original gradient. - 特許庁
ポリシラザン膜７をＡｒＦエキシマレーザ光線８を用いて全面露光した後、加湿処理を施し、現像してレジスト膜４の上面を露出させ、ポリシラザン膜７をパターニングする。
The polysilazane film 7 is exposed overall with ArF excimer laser light 8, humidified and developed to disclose the top face of the resist film 4, thereby patterning the polysilazane film 7. - 特許庁
半導体装置１は電極１ｂが露出するように樹脂モールド１ａが施されており、電極１ｂの露出面は絶縁部材２を介在させて放熱板３へねじ７によって取着固定されている。
A semiconductor device is molded with a resin mold 1a so that an electrode 1b is exposed, and an exposed surface of the electrode 1b is fixedly mounted onto a radiating plate 3 by a screw 7 with an insulating member 2 disposed therebetween. - 特許庁
光走査部５００は、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査における主走査ラインの間隔を広くすることで、相反則不軌よる濃度ムラの発生の原因となる時差露光領域を狭める調整を施す。
An optical scanning part 500 makes an adjustment for narrowing a time difference exposure area causing the occurrence of density irregularities due to a reciprocity failure by widening an interval between main scanning lines in the Nth exposure scanning and the (N+1)th exposure scanning. - 特許庁
事前露光部２３と未露光部２２との境界部分２６に臨む遮光マスク２５の端面に湾曲部２８を設けることにより、境界部分２６への光の回り込みを許容する光回り込み許容処理を施す。
By providing a curved part 28 at the end surface of the mask 25 facing a boundary part 26 between the pre-exposure part 23 and the unexposed part 22, light sneaking permission processing for permitting the sneaking of light into the boundary part 26 is executed. - 特許庁
印刷目的に対応したパターンを重ねて露光し、パターン部以外のレジストを溶解除去し、その露出部にニッケルメッキを施しパターン部のレジストおよび銅メッキ部を溶解除去する。
A pattern corresponding to a printing object is superposed, exposed, the resist except the pattern part is melted and removed, the exposure part is nickel-plated, and the resist of the pattern and the copper-plating are melted and removed. - 特許庁
本実施形態に係る拡散反射板の製造方法では、まず、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜２０にパターン露光を施す（パターン露光工程(ｂ)）。
In the method for manufacturing the diffuse reflection plate, firstly a photosensitive resin film 20 containing a photocrosslinkable monomer is subjected to pattern exposure (a pattern exposure process(b)). - 特許庁
次に、感光性樹脂層２２の凹凸面２ｃに全面露光を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面２ｄを有する樹脂層２を形成する（全面露光工程(ｄ)）。
Next, the rugged surface 2c of the photosensitive resin layer 22 is subjected to full-surface exposure to cause the crosslinking of the unreacted photocrosslinkable monomer, thereby forming a resin layer 2 having the rugged surface 2d (a full-surface exposure process (d)). - 特許庁

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日英対訳文対応付けデータ
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原題：”PETER AND WENDY”

邦題：『ピーターパンとウェンディ』
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(C) 2000 katokt
本翻訳は、この版権表示を残す限りにおいて、訳者および著者にたいして許可をとったり使用料を支払ったりすることいっさいなしに、商業利用を含むあらゆる形で自由に利用・複製が認められる。
原題：”The Adventures of Sherlock Holmes”

邦題：『シャーロック・ホームズの冒険』
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Copyright（Ｃ）2006 coderati
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原題：”The Time Machine”

邦題：『タイムマシン』
This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.

翻訳: 山形浩生<hiyori13@alum.mit.edu>
© 2003 山形浩生
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プロジェクト杉田玄白　正式参加作品。詳細はhttp://www.genpaku.org/を参照のこと。
原題：”Around the World in 80 Days[Junior Edition]”

邦題：『80日間世界一周』
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