The flux contains silicon dioxide (SiO_2) (2.0 wt.%) and a mixture (98.0 wt.%) of meta-silicic acid iron (Fe_2SiO_4), orthotitanic acid iron (Fe_2TiO_4), metatitanic acid iron (FeTiO_3), and dititanic acid iron (FeTi_2O_5). 二酸化ケイ素(SiO_2)(2.0重量%)と、メタケイ酸鉄(Fe_2SiO_4)、オルトチタン酸鉄(Fe_2TiO_4)、メタチタン酸鉄(FeTiO_3)、ディチタン酸鉄(FeTi_2O_5)の混合物(98.0重量%)を含むこと。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF AQUEOUS HYPOCHLOROUS ACID 次亜塩素酸水の製造方法 - 特許庁
ACID DECOMPOSITION TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND ACID DECOMPOSITION TYPE LITHO PRINTING PLATE 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版 - 特許庁
The acid comprises one or more kinds selected from nitric acid, hydrochloric acid and hydrofluoric acid. また、前記の酸が硝酸、塩酸およびフッ酸から選ばれる1種または2種以上を含むアスベスト含有セメント硬化体の除去剤を提供する。 - 特許庁
ORGANIC ACID PRODUCTION METHOD, ORGANIC ACID PRODUCTION DEVICE AND WASTE WATER TREATMENT APPARATUS 有機酸生成方法、有機酸生成装置、及び排水処理設備 - 特許庁