(d) Bis (2,2-dinitroproropyl) formal
ニ ビス(二・二—ジニトロプロピル)フォルマール - 日本法令外国語訳データベースシステム
(g) Bis (2-hydroxyethyl) glycol amide
ト ビス(二—ヒドロキシエチル)グリコルアミド - 日本法令外国語訳データベースシステム
NEW BIS(2-ETHYLPHENOL) COMPOUNDS 新規なビス(2−エチルフェノール)類 - 特許庁
Fig. 2-3-5 Equity ratios of financial institutions after application of new BIS regulations 第2-3-5図 新BIS規制適用後の金融機関自己資本比率 - 経済産業省
Fig. 2-3-6 Outstanding lending to SMEs following application of new BIS regulations 第2-3-6図 新BIS規制適用後の中小企業向け貸出残高 - 経済産業省
The PZT film forming method includes a step of vaporizing lead bis (tetramethylheptane dionate), zirconium bis (tetramethylheptane dionate) bis (isopropoxyl) and titanium bis (tetramethylheptane dionate) bis (isopropoxyl) and a step of introducing the vaporized lead bis (tetramethylheptane dionate), zirconium bis (tetramethylheptane dionate) bis (isopropoxyl) and titanium bis (tetramethylheptance dionate) bis (isporopoxyl) into a chamber. PZT膜形成方法は、鉛ビス(ヘプタンジオン酸テトラメチル)、ジルコニウムビス(ヘプタンジオン酸テトラメチル)ビス(イソプロポキシル)及びチタンビス(ヘプタンジオン酸テトラメチル)ビス(イソプロポキシル)を気化するステップと、 気化した鉛ビス(ヘプタンジオン酸テトラメチル)、ジルコニウムビス (ヘプタンジオン酸テトラメチル)ビス(イソプロポキシル)及びチタンビス(ヘプタンジオン酸テトラメチル)ビス(イソプロポキシル)をチャンバに導入するステップとを含む。 - 特許庁