「CDU」を含む例文一覧(25)

  • "The CDU-535 Sony Interface"
    Sony 製 CDU-535 インターフェース - JM
  • "The CDU-31A and CDU-33A Sony Interface"
    ただし速度はある程度低下する。 Sony 製 CDU-31A と CDU-33A のインターフェース - JM
  • Angela Merkel, the leader of the Christian Democratic Union (CDU), has been chosen as the country's first woman chancellor.
    キリスト教民主同盟(CDU)のアンゲラ・メルケル党首が同国で初の女性首相に選ばれたのだ。 - 浜島書店 Catch a Wave
  • LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD THAT COMPENSATES FOR RETICLE INDUCED CDU
    リソグラフィ装置及びレチクル誘導ＣＤＵを補償するデバイス製造方法 - 特許庁
  • To provide a lithographic apparatus and a device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU.
    リソグラフィ装置及びレチクル誘導ＣＤＵを補償するデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • An LDU 23 accesses a CDU 22 and PDUs 21a-21h one after another to collect game information on the game machines and peripheral devices connected to the CDU 22 and the PDUs 21a-21h respectively.
    ＬＤＵ２３はＣＤＵ２２および各ＰＤＵ２１ａ〜ｈに対して輪番にアクセスし、ＣＤＵ２２および各ＰＤＵ２１ａ〜ｈに接続された各遊技機および周辺機器の遊技情報を収集する。 - 特許庁
  • To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD (critical dimension) uniformity (CDU) can be produced.
    優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method capable of attaining both CDU (Critical Dimension Uniformity) performance and defect performance at high levels.
    ＣＤＵ（Critical Dimension Uniformity）性能と欠陥性能とを高い水準で両立させることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In this integrated control display, data transmission/reception between the CDU 1 and the MC 4 integrates a radio 2 and a navigation device 3 to execute display and control.
    ＣＤＵ１とＭＣ４間のデータ送受信によって、無線機２や航法装置３を統合して表示及び制御する。 - 特許庁
  • To provide a resist composition for producing a resist pattern that has excellent CD uniformity (CDU) and few incidence numbers of defects.
    優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.
    微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
  • To improve operability of a CDU by enabling easy restoration of data contents in an MC(a memory card) even if mistakenly writing data into the MC.
    ＭＣ（メモリカード）に誤ってデータを書き込んでも、ＭＣデータ内容を容易に復元できるようにし、ＣＤＵの操作性を向上させる。 - 特許庁
  • To provide a resist composition which shows high resolution, good configuration, a depth of focus (DOF), a good mask error factor (MEF) and good CD uniformity (CDU).
    高い解像度；良好な形状、フォーカスマージン（ＤＯＦ）、マスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びＣＤ均一性（ＣＤＵ）を示すレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • Variations (CDU) in the error (CD) in an applied pattern are measured for different frequencies and amplitudes of the injected error over a frequency band of interest for a given axis.
    関心周波数帯域に亘って所与の軸について注入された誤差、の異なる周波数および振幅について、付与されたパターンにおける誤差（ＣＤ）の変動（ＣＤＵ）が測定される。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a resist pattern capable of responding to formation of various types of resist patterns, and forming a resist pattern excellent in focus depth, a pattern profile, resolution, CDU and pattern collapse resistance.
    種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
  • In an MC reading process, the data stored in the MC 4 are loaded to a memory of the CDU 1, and is copied to a backup table when the reading number of the MC 4 is one.
    ＭＣ読み込み処理で、ＭＣ４に記憶されているデータをＣＤＵ１のメモリにロードし、ＭＣ４の読み込み回数が１回目であれば、ＭＣ４に記憶されているデータをバックアップ用テーブルにコピーする。 - 特許庁
  • To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in in-plane uniformity (CDU) of line width, and a pattern forming method using the composition.
    線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a resist composition for acquiring a pattern having a high focus margin (DOF), CD uniformity (CDU), and a mask error factor (MEF), and a forming method of a resist pattern using the resist composition.
    優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.
    種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a resist pattern which sufficiently satisfies MEEF, LWR and CDU and pattern collapse resistance properties, and to provide a method for forming the resist pattern using the radiation sensitive resin composition.
    ＭＥＥＦ、ＬＷＲ、ＣＤＵ及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁
  • The device further includes an intake air pressure sensor 9, an exhaust gas pressure sensor 8, and a CDU 14 controlling the outlet change over valve 13 based on intake air pressure acquired by the intake air pressure sensor 9 and exhaust gas pressure acquired by the exhaust gas pressure sensor 8.
    さらに、吸気圧センサ９と、排気圧センサ８と、これらの吸気圧センサ９により取得された吸気圧と排気圧センサ８により取得された排気圧とに基づいて、出口切替弁１３を制御するＣＤＵ１４を備えている。 - 特許庁
  • Once in manufacturing, the CPC optimizes a scanner in accordance with specific patterns or reticles by leveraging wafer metrology techniques and feedback loop, and monitors and controls, among other things, overlay and/or CD uniformity (CDU) performance over time to continuously keep the system close to the baseline condition.
    製造に入ると、ＣＰＣはウェーハ計測技術及びフィードバックループを活用することで特定のパターン又はレチクルに合わせてスキャナを最適化し、とりわけ、時間経過と共にオーバレイ及び／又はＣＤの均一性（ＣＤＵ）性能をモニタ及び制御してシステムをベースライン条件近くに連続して維持する。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method by which a pattern excellent in exposure latitude (EL) and line width variance (LWR) or CD (critical dimension) uniformity (CDU) is formed; to provide a pattern formed by the same; to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming process; and to provide a resist film formed from the resist composition.
    露光ラチチュード（ＥＬ）と、線幅バラツキ（ＬＷＲ）又はＣＤ（クリティカルディメンジョン）均一性（ＣＤＵ）とに優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜を提供する。 - 特許庁
  • To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.
    反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a processing liquid for forming a pattern due to a chemically amplified resist composition superior in in-plane uniformity (CDU) and defect performance of a resist pattern and in addition, for forming the resist pattern reducing an amount of use of the processing liquid in order to stably form a highly precise fine pattern for manufacturing highly integrated and highly precise electronic device, and to provide a method for forming the pattern using it.
    高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

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