The compound for photoresist is an azo compound or a complex compound of the azo compound with a metal ion. アゾ化合物または該化合物と金属イオンとの錯体化合物であるフォトレジスト用化合物。 - 特許庁
The acid compound or the reducing agent is preferred to be polyphosphoric acid, hydroxy compound, carboxy compound, sulfonic acid compound, thioether compound, succinimide compound, polyol compound, hydroxamic acid compound, or hydroxyamine compound. 前記酸性化合物又は還元剤は、ポリリン酸、ヒドロキシ化合物、カルボキシ化合物、スルホン酸化合物、チオエーテル化合物、スクシンイミド化合物、ポリオール化合物、ヒドロキサム酸化合物又はヒドロキシアミン化合物であることが好ましい。 - 特許庁
5-AMINOPYRIMIDINE COMPOUND 5−アミノピリミジン化合物 - 特許庁
A fluorine compound, a phosphorus compound or a sulfur compound is preferable as the compound other than the oxide. 酸化物以外の化合物としてはフッ素化合物,燐化合物又は硫黄化合物が好ましい。 - 特許庁
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