METHOD FOR IMPARTING RESIDUAL COMPRESSIVESTRESS TO WORK ワークの残留圧縮応力付与方法 - 特許庁
The first portion has compressivestress or tensile stress. この第1部分は圧縮応力または引張り応力を有する。 - 特許庁
Compressive residual stress is applied to the projecting part 35 by a compressive residual stress applying means. 凸部35に圧縮残留応力付与手段によって圧縮残留応力が付与されている。 - 特許庁
Thus, "second tensile stress C" and "compressive stress A" cross each other in inclination and "second tensile stress C" is canceled by "compressive stress S". これにより、「第2の引張応力C」と「圧縮応力A」が傾斜して交差し、「第2の引張応力C」が「圧縮応力A」によって打ち消される。 - 特許庁
MOTOR CORE WITH LESS IRON LOSS DETERIORATION UNDER COMPRESSIVESTRESS 圧縮応力下での鉄損劣化の小さいモータコア - 特許庁
The chemically toughened glass, having a compressivestress layer formed by ion-exchange in its glass surface layer, has, in the compressivestress layer, two compressivestress patterns, i.e. a compressivestress pattern A at the side near to the glass surface and a compressivestress pattern B at the side near to the glass inner side. イオン交換することによりガラス表層に圧縮応力層を形成させた化学強化ガラスにおいて、ガラス表面に近い方の圧縮応力パターンAとガラス内層側の圧縮応力パターンBの2種類を圧縮応力層の中に有す化学強化ガラス。 - 特許庁
For a PFET device, the stress is compressivestress, while the stress is tensile stress in an NFET device. PFETデバイスではこの応力が圧縮応力であり、NFETデバイスではこの応力が引張り応力である。 - 特許庁
(1) Compressive residual stress is applied by barrel polishing. (ア)バレル研磨により圧縮残留応力が付与されている。 - 特許庁
in civil engineering, a phenomenon in which a supporting structure fails under compressivestress greater than its elastic limit, called buckling
柱などを圧縮したとき変形する現象 - EDR日英対訳辞書
Thereby compressivestress of the optical multilayered thin film 2 and compressivestress of the SiO_2 film 3 cancels each other and curvature of the substrate 1 is mitigated. すると、多層光学薄膜2とSiO_2膜3の圧縮応力が打ち消し合い、基板1の反りが緩和される。 - 特許庁
The gate electrode is covered with a compressivestress film accumulating compressivestress through a gate sidewall insulation film and an in-plane compressivestress is further applied to the channel region. さらにゲート電極をゲート側壁絶縁膜を介して、圧縮応力を蓄積した圧縮応力膜により覆い、前記チャネル領域に面内圧縮応力を、さらに印加する。 - 特許庁
A compressive residual stress is applied to the weld zone or the like by the stress improvement countermeasure. 応力改善対策によって圧縮残留応力がその溶接部等に付与される。 - 特許庁
A compressive residual stress is applied to the weld zone or the like by the stress improvement countermeasure. 応力改善対策によって圧縮残留応力がその溶接部等に付与される。 - 特許庁
The value of the internal stress of the buffer film 13 is set smaller than the value of the compressivestress of the compressivestress film 11, and the value of the tensile stress of the tensile stress film 12. 緩衝膜13は、その内部応力の大きさが圧縮応力膜11の圧縮応力の大きさ及び引張応力膜12の引張応力の大きさよりも小さい膜とする。 - 特許庁
fc: Value of allowable compressivestress (N/cm2)
fc 許容圧縮応力の値(単位 ニュートン毎平方センチメートル) - 日本法令外国語訳データベースシステム
The residual stress at the surface is ≤50 MPa tensile stress and ≤15MPa compressivestress. 表面の残留応力が50MPa以下の引張応力、または15MPa以下の圧縮応力である。 - 特許庁
The surface of the ceramic heater is adapted to generate a compressive residual stress. セラミックヒータ表面に圧縮の残留応力を発生させる。 - 特許庁
To change surface residual stress of a metal plate into compressivestress only by grinding with a rotary grinding wheel. 金属板の表面残留応力を、回転砥石による研削のみで圧縮応力にする。 - 特許庁
RESIDUAL TENSILE STRESS REMOVING AND COMPRESSIVESTRESS APPLYING METHOD AND DEVICE USING ULTRASONIC IRRADIATION 超音波照射による残留引張応力除去と圧縮応力付与方法及びその装置 - 特許庁
To provide a semiconductor structure and a method of manufacturing using tensile stress and compressivestress. 引張応力および圧縮応力を用いた半導体構造および製造方法を提供する。 - 特許庁
The inside surface of the bending has the tensile residual stress or compressive residual stress having an absolute value smaller than the compressive residual stress of the outside of the bending. 曲げ内側の表面には、曲げ外側の圧縮残留応力よりも絶対値が小さい引張残留応力または圧縮残留応力が残留している。 - 特許庁
The thin film consists of crystal groups of a material which is characterized in that internal stress of film changes from tensile stress into compressivestress or from compressivestress into tensile stress with respect to the increase of film thickness, and the internal stress is made to ≤100 MPa by the balance between the tensile stress and the compressivestress in the film deposition of prescribed film thickness under prescribed conditions. 膜厚の増加に対して、膜の内部応力が引張応力から圧縮応力、または圧縮応力から引張応力に変化する性質を持つ材料の結晶群からなり、所定の条件で所定の膜厚の成膜における引張応力と圧縮応力の釣り合いにより、内部応力が100MPa以下である薄膜とする。 - 特許庁
Plate end surfaces (13, 14, 15, 16) have regions where compressivestress is formed and regions where no compressivestress is formed. 板端面13、14、15、16は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。 - 特許庁
To provide a nonoriented magnetic steel sheet which has small iron loss deterioration even under compressivestress in which high compressivestress of ≥10 MPa is imparted. 10MPa以上の高い圧縮応力が付与される圧縮応力下においても、鉄損劣化が小さい無方向性電磁鋼板を提供する。 - 特許庁
Plate end surfaces 13, 14, 15, 16 have regions where compressivestress is formed and regions where compressivestress is not formed. 板端面13、14、15、16は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。 - 特許庁
DIAGNOSIS METHOD OF PORTION RECEIVING COMPRESSIVESTRESS IN CONCRETE STRUCTURE コンクリート構造物における圧縮応力を受けた部位の診断方法 - 特許庁
The spring element wire to which compressive residual stress is applied according to the first and second shot peening processes has: a residual stress increase portion in which compressive residual stress increases in the depth direction from a surface; a residual stress peak portion in which compressive residual stress becomes maximum; and a residual stress decrease portion in which compressive residual stress decreases in the depth direction of the spring element wire from the residual stress peak portion. 第1および第2のショットピーニング工程によって圧縮残留応力が付与されたばね素線は、表面から深さ方向に圧縮残留応力が増加する残留応力増加部と、圧縮残留応力が最大となる残留応力ピーク部と、残留応力ピーク部から前記ばね素線の深さ方向に圧縮残留応力が減少する残留応力減少部とを有している。 - 特許庁
A compressive strained layer having a residual compressivestress is provided at the outermost circumference of the jacket area 13. ジャケット領域13の最外周部に圧縮応力が残留した圧縮歪層が形成されている。 - 特許庁
When the tensile stress acts on the element 12 under this condition, the endurable tensile stress of the element 12 is increased by the residual compressivestress, because the residual compressivestress offsets the tensile stress. この状態で、半導体素子12に引っ張り応力が作用すると、残留圧縮応力と引っ張り応力が相殺するので、半導体素子12が耐えられる引っ張り応力が残留圧縮応力の分だけ強くなる。 - 特許庁
The metallic film 6 for the silicification has a compressivestress 10b so as to correspond to the tensile stress. この応力に対応するように、シリサイド化用金属膜6は圧縮応力10bを有する。 - 特許庁
COMPRESSIVE RESIDUAL STRESS EVALUATION METHOD OF GEAR AND GEAR DESIGN METHOD 歯車の圧縮残留応力評価方法および歯車設計方法 - 特許庁
To easily impart residual compressivestress to the root of a tongue part. タング部の根元に残留圧縮応力を容易に付与可能とすること。 - 特許庁
The cathode power feeder 3 is deformed by compressivestress, and is tightly stuck to the solid polymer electrolytic membrane 2 caused by the release of the compressivestress. カソード給電体3は圧縮応力により変形されており、該圧縮応力が解放されることにより固体高分子電解質膜2に密着する。 - 特許庁
The high stresscompressive silicon nitride and/or the anneal temperatures ensure that the compressivestress memorization is retained in the pFET 106. 高応力圧縮性窒化珪素またはアニール温度あるいはその両方によって、圧縮応力記憶がpFET106に維持されることが保証される。 - 特許庁
To provide a process for producing a chemically strengthened glass which can measuring surface compressivestress and the depth of a compressivestress layer stably and accurately. 安定して正確に表面圧縮応力および圧縮応力層の深さを測定できる化学強化ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a non-oriented magnetic steel sheet having little deterioration of iron loss even in a state where compressivestress works and a stress distribution is produced in the compressivestress. 圧縮応力が作用し、その圧縮応力に応力分布が生じている状態でも、鉄損の劣化が少ない無方向性電磁鋼板を提供することを目的とする。 - 特許庁
A compressivestress insulating film applying the compressivestress to the MTJ element MD1 and a tensile stress insulating film applying the tensile stress to the MTJ element MD1 are used as the insulating film 51 on the MTJ. そして、MTJ上絶縁膜51として、MTJ素子MD1に圧縮ストレスを印加する圧縮ストレス絶縁膜や、MTJ素子MD1に引っ張りストレスを印加する引張ストレス絶縁膜が用いられる。 - 特許庁
The method of evaluating bending workability and spring characteristics of a metallic material is based on the difference between compressive proof stress and tensile proof stress in a direction parallel to rolling and the difference between compressive proof stress and tensile proof stress in a direction perpendicular to rolling. 圧延平行方向の圧縮耐力と引張耐力との差及び圧延直角方向の圧縮耐力と引張耐力との差に基づいた金属材料の曲げ加工性とばね性の評価方法である。 - 特許庁
When the transistor is an n-channel one, the stress intrinsic to the stress control film is tensile stress; and when the transistor is a p-channel one, the stress intrinsic to the stress control film is compressive one. トランジスタがnチャネルのとき、応力制御膜に内在する応力が引張応力であり、トランジスタがpチャネルのとき、応力制御膜に内在する応力が圧縮応力である。 - 特許庁
The amount of stress and the polarity (tensile or compressive) of the stress can be controlled by the type and thickness of the high stress film. 応力の量及び応力の極性(引張又は圧縮)は、高応力膜のタイプ及び厚さによって制御することができる。 - 特許庁
The n-type compressivestress application layer 22 comprises a strain-free AlGaN layer. n型圧縮応力印加層22は、ストレインフリーのAlGaN層からなる。 - 特許庁
When the compressivestress is high, the thermal resistance becomes high, however, productivity is lowered. 圧縮応力が高いと耐熱性は高くなるが、生産性を低下させる。 - 特許庁
MOTOR CORE HAVING SMALL DETERIORATION IN IRON LOSS UNDER COMPRESSIVESTRESS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 圧縮応力下での鉄損劣化の小さいモータコアとその製造方法 - 特許庁
To control the compressive residual stress of a coating layer of a wear resistant member suitably. 耐摩耗性部材の被膜層の圧縮残留応力を好適に制御する。 - 特許庁
Thus, the compressivestress and tensile stress in the inner part of the glass substrate are balanced, thereby enhancing the fracture strength. これにより、ガラス基板内部の圧縮応力と引張り応力とのバランスがとれて、破壊強度が高くなる。 - 特許庁
Tensile residual stress near the surface of the WJP workpiece is improved into compressive residual stress. WJP施工対象物の表面付近の引張残留応力が圧縮残留応力に改善される。 - 特許庁
An internal stress applied to the piezoelectric film is preferably a compressivestress equal to or more than 100 MPa. 圧電体膜に付与される内部応力は100MPa以上の圧縮応力であることが好ましい。 - 特許庁
The absolute value of the stress value of the compressivestress layer is 4 MPa or less, and the absolute value of the stress value of the tensile stress layer is 0.4 MPa or less. 前記圧縮応力層の応力値の絶対値は4MPa以下であり、前記引っ張り応力層の応力値の絶対値は0.4MPa以下である。 - 特許庁
The internal stress of the AlN film as the heat sink film 52 acts as compressivestress and the internal stress of the Al2O3 film as the bonding film 51 acts as tensile stress. ヒートシンク膜52としてのAlN膜では内部応力が圧縮応力となり、結合用膜51としてのAl_2O_3膜では内部応力が引張り応力となる。 - 特許庁
The denseness is improved by heat treatment after deposition, and the residual stress after the heat treatment can be fixed to either tensile stress or compressivestress. 成膜後に熱処理することで緻密化し、熱処理後の残留応力を引張応力あるいは圧縮応力のいずれかに固定できる。 - 特許庁