SELECTIVE DAMASCENE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING 選択的ダマシンケミカルメカニカルポリシング - 特許庁
FORMATION OF DUAL-DAMASCENE WIRE デュアルダマシン配線の形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING DUAL DAMASCENE WIRING デュアルダマシンの配線形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING DUAL DAMASCENE WIRING デュアルダマシン配線の形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING DUAL DAMASCENE STRUCTURE デュアルダマシン構造の形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DUAL DAMASCENE WIRING デュアルダマシン配線の製造方法 - 特許庁
FORMING METHOD FOR DUAL DAMASCENE INTERCONNECTION デュアルダマシン配線の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING DUAL DAMASCENE STRUCTURE デュアルダマシン構造のエッチング方法 - 特許庁
DUAL DAMASCENE CONTACT FOR INTEGRATED DEVICE 集積デバイス用デュアルダマシン接触 - 特許庁
ETCHING TREATMENT METHOD FOR DUAL DAMASCENE PROCESS デュアルダマシン用のエッチング処理方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING DUAL DAMASCENE STRUCTURE デュアルダマシン構造を製作する方法 - 特許庁
METHOD OF FABRICATING DUAL DAMASCENE STRUCTURE デュアル・ダマシン構造を製作する方法 - 特許庁
The metal line includes a dual damascene structure. 金属線は、デュアルダマシン構造を含む。 - 特許庁
To simplify a forming process of multilayer Cu wiring using Dual-Damascene method. デュアルダマシン(Dual-Damascene)法を用いた多層Cu配線の形成工程を簡略化する。 - 特許庁
WIRING FORMATION METHOD BY DUAL DAMASCENE METHOD デュアルダマシン法による配線形成方法 - 特許庁
DUAL DAMASCENE WIRING AND ITS FORMING METHOD デュアル・ダマシン配線及びその形成方法 - 特許庁
DUAL-DAMASCENE PATTERNING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT 半導体素子のデュアルダマシンパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN IN DUAL DAMASCENE PROCESS デュアルダマシンプロセスにおけるパターン形成方法 - 特許庁
BURIED MATERIAL FOR DUAL DAMASCENE STRUCTURE FORMATION AND DUAL DAMASCENE STRUCTURE FORMATION METHOD USING THE SAME デュアルダマシン構造形成用埋め込み材料およびこれを用いたデュアルダマシン構造形成方法 - 特許庁
DAMASCENE WIRING FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND DAMASCENE WIRING STRUCTURE FORMED THEREBY 半導体装置のダマシン配線形成方法およびそれによって形成されたダマシン配線構造体 - 特許庁
METHOD OF FORMING DUAL DAMASCENE PATTERN IN SEMICONDUCTOR ELEMENT 半導体素子のデュアルダマシンパターン形成方法 - 特許庁
MULTI-MESA MOSFET OF DAMASCENE METHOD GATE ダマシン法ゲートによるマルチ・メサ型MOSFET - 特許庁
These are manufactured by using a damascene method. そして、これらはダマシン法を用いて製造する。 - 特許庁
ETCHING METHOD OF NITRIDING FILM, AND DUAL DAMASCENE PROCESS 窒化膜のエッチング方法およびデュアルダマシンプロセス - 特許庁
To protect Cu damascene wiring against erosion. Cuダマシン配線のエロージョンを抑制すること。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING DUAL DAMASCENE EQUIPPED WITH AIR GAP エアーギャップを備えたデュアルダマシンの形成方法 - 特許庁
DAMASCENE CAP LAYER METHOD FOR INTEGRATED CIRCUIT WIRING 集積回路配線のためのダマシーンキャップ層法 - 特許庁
FORMATION OF DAMASCENE INTERCONNECTION AND SEMICONDUCTOR DEVICE ダマシン配線の形成方法及び半導体装置 - 特許庁
The first wiring layer 33 is a single damascene structure, and the second wiring layer 32 is a dual damascene structure. 第1配線層部33は、シングルダマシン構造であり、第2配線層部32は、デュアルダマシン構造である。 - 特許庁
COPPER GATE BY DUAL DAMASCENE METHOD AND INTERCONNECTION THEREOF デュアルダマシン法による銅ゲートおよびそのインタコネクト - 特許庁
DAMASCENE PLATING METHOD AND PLATING APPARATUS USING THIS METHOD ダマシン鍍金方法及びこれに用いる鍍金装置 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING COPPER OXIDATION IN DUAL DAMASCENE PROCESS デュアルダマシン工程の中で銅の酸化防止方法 - 特許庁
DAMASCENE FeRAM CELL STRUCTURE AND MANUFACTURE THEREOF ダマシンFeRAMセル構造およびその製造方法 - 特許庁
This structure is formed by a copper dual-damascene process. この構造は、銅デュアル・ダマシン・プロセスで形成される。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING DAMASCENE PROCESS ダマシーン工程を利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁