「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 343 344 345 346 347 348 349 350 351 .... 366 367 次へ＞- A CPU or the like of the product electrically reads the defect information or the like of the solid state imaging element A via the terminals P1-P5 in an assemble process or the like of the imaging equipment into which the solid state imaging apparatus 100 is incorporated so as to enable the adjustment operations for every product to be automatically executed based on the information.
固体撮像装置１００を組み込んだ撮像機器の組み立て工程等において、その製品のＣＰＵ等が、端子Ｐ１〜Ｐ５を介して固体撮像素子Ａの欠陥情報等を電気的に読み取り、それらの情報に基づく製品毎の調整作業を自動的に実施可能にする。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus for picking up the optical image of an object using a solid state image sensor and outputting a video signal in which a white blemish is corrected immediately upon occurrence in a working solid state image sensor to create a video signal of good image quality in which defect due to the white blemish is inconspicuous.
固体撮像素子を用いて被写体光像を撮像し映像信号を出力する撮像装置において、使用中の固体撮像素子に白キズが新たに発生しても、直ちに補正して、この白キズによる欠陥が目立たない良好な画質の映像信号を生成する撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an excellent positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, having excellent resolution, and causing little development defect and scum (development residue).
１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、解像性に優れ、現像欠陥、スカム（現像残渣）の発生が少ない、優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.
特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus adaptable to continuous paper which can achieve excellent transfer free from an image defect even in transfer to rough surface paper whose surface is largely roughened and also transfer to the second surface of a web which is wrinkled by heat when fixing a toner image on its first surface even when it is the web whose surface is comparatively flat.
表面の凹凸の大きな粗面紙への転写や表面が比較的平坦なウェブであっても、第１面のトナー画像定着時の熱によるシワの発生したウェブの第２面に転写においても、画像欠陥のない良好な転写が可能な連続紙対応の画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the real-time data can be recorded and/or reproduced by not performing linear replacement, when the real-time data are recorded while maintaining compatibility with defect-managing method by a method prescribed by the current DVD-RAM standards, i.e., while giving notice of the presence of a block which is not replaced linearly.
これにより、現在のDVD−RAM規格で定まっている方法による欠陥管理方法と互換性を維持しながら即ち、線形置換されないブロックがあるということを知らせるようにしながら、リアルタイムデータを記録する場合には線形置換しないことによってリアルタイムデータが記録及び／または再生できる。 - 特許庁 - To obtain a projection type cathode-ray tube device formed by combining a projection type cathode-ray tube and a deflection device including a deflection yoke, restraining anode leak defect caused by unnecessary discharge at a neighboring area of a high-voltage lead-in anode terminal, excellent in a displaying property, and to obtain a projection display device.
投射型陰極線管と、偏向ヨークを含む偏向装置とを組み合わせた投射型陰極線管装置で、高圧引き込み陽極端子近傍の不要放電による陽極リーク不良を抑制し、表示特性の優れた投射型陰極線管装置及びプロジェクション表示装置を得る。 - 特許庁 - To provide a device in which a probe can be used both for observation and correction and which can perform desired processing without injuring a normal portion, even if a next generation photomask having a ultrafine structure is used as an object, in a step of acquiring information about the position and feature of a defect, or without damaging the probe during processing.
観察用と修正用とでプローブを兼用でき、次世代の超微細構造のフォトマスクを対象としても欠陥部の位置と形状の情報を取得する過程において正常部分を損傷してしまうようなことがなく、また、加工時にもプローブを傷めることなく所望の加工ができる装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor and a method of manufacturing the electrophotographic photoreceptor in which an image defect due to pinhole leak is not generated, stable and high sensitivity and excellent potential characteristics are given in all environments extending from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity, and excellent images are constantly formed even when the electrophotographic photoreceptor is repeatedly used.
ピンホールリークによる画像欠陥の発生を起こさず、低温低湿下から高温高湿下に至る全環境において、安定して高い感度及び優れた電位特性を有し、繰り返し使用しても優れた画像を継続して形成し得る電子写真感光体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To uniformly and excellently perform etching treatment while preventing a silicon wafer from being damaged by eliminating a rotation defect by eliminating the drop of the silicon wafer from a groove of a holding bar, and to improve flatness in the outer periphery of the silicon wafer by suppressing, as small as possible, the area of the outer periphery not in contact with an etching liquid.
シリコンウェーハの保持バーの溝からの脱落をなくし回転不良をなくすことで、シリコンウェーハの破損を防止しエッチング処理をムラなく良好に行えるようにするとともに、外周部でエッチング液が接触しない面積を極力小さく抑えることでシリコンウェーハの外周部の平坦度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.
液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To reliably hold a cemented carbide material tip by casting metal so as not to separate, slip out and rotate while preventing the formation of a cavity part and a defect part in a crushing tool manufactured by an insertingly casting method for holding a cemented carbide material by casting the casting metal in a state of having the cemented carbide material on the tip.
超硬材を先端に備えた状態で鋳造用金属を鋳込んでその超硬材を保持する鋳ぐるみ方式によって製造される破砕具において、空洞部や欠陥部を形成することを防止しながら剥離や抜けや回りがないよう超硬材チップを鋳造用金属に確実に保持させる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device capable of preventing the occurrence of a defect due to solder re-fusion and flow-out in reflow heating, in which chip type electronic components are connected and fixed with solder on the main plane of a substrate, and the semiconductor device resin sealed integrally in the main plane side, is soldered to a mounting substrate such as the printed wiring board.
基板の主面上にチップ型電子部品がはんだで接続、固定され、その主面側が一体に樹脂封止された半導体装置をプリント基板等の実装基板にはんだ付けするリフロー加熱時に、はんだの再溶融流れ出しによる不良発生を防止することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a phase difference modifier and an optical resin composition containing the modifier, and to provide an optical film, formed from the resin composition, that can achieve a large phase difference due to the composition not found in the past, and controls generation of an apparent or optical defect in the preparation or use of the film.
位相差調節剤と該調節剤を含む光学用樹脂組成物および該組成物から形成される光学フィルムであって、従来にない組成により、大きな位相差を実現できるとともに、製造時および使用時における外観上あるいは光学的な欠点の発生が抑制された光学フィルムの提供すること。 - 特許庁 - The ATM network element selects the UTOPIA address (UA2) for the function side transmission concentrated sub layer entity (TCS-W) and the protection side transmission concentrated sub layer entity (TCS-P) for transmission so long as an error message indicating a defect in the transmission concentrated sub layer sub network connection is not received and combines data entered to the network element via both the entities.
ＡＴＭネットワーク要素は、ＴＣＳ ＳＮＣにおける欠陥を指示するエラーメッセージが受信されない限り、機能側送信集中サブレイヤエンティティ(TCS-W)あるいは保護側送信集中サブレイヤエンティティ(TCS-P)のＵＴＯＰＩＡアドレス(UA2)を送信のために選択し、更に、両エンティティを経てネットワーク要素に入るデータを合体する。 - 特許庁 - The line sensor reads the calculated shading correction data at the home position on the shading correction plate, shading is corrected by the means shading correction data on the basis of the obtained read data (S12 in Figure 10), and at least a defect position of the shading correction plate is specified on the basis of the data after the correction (S17).
シェーディング補正板上のホームポジションにおいてラインセンサにシェーディング補正板を読み取らせ、得られた読取データに対して、前記平均シェーディング補正用データによりシェーディング補正を行い（図１０のＳ１２）、この補正後データを基に、少なくともシェーディング補正板の欠陥位置を特定する（Ｓ１７）。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which is suitably used for a light source for exposure of ≤160 nm, particularly, an F_2 excimer laser beam (157 nm), and specifically to provide a positive resist composition which exhibits sufficient transmissibility when used for the light source of 157 nm and has little line edge roughness, development defect and scum.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - To provide a developer regulating member, a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus with which a stable developing thin layer is formed, the set image defect of a developing roller that a sharp line whose density is thick is caused on an image is avoided, and the high-quality image whose density is stable is formed.
安定した現像薄層を形成することができ、画像に濃度の濃い鋭い線が発生する現像ローラセット画像不良を回避し、画像濃度の安定した、高画質な画像を形成することが可能な、現像剤規制部材、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sheet for solar battery back surface sealing which is excellent in moisture and heat resistant adhesiveness without the appearance defect of the sheet accompanying adhesion defects with a gas barrier base material or performance decline accompanying the decline of a gas barrier performance even under a severe preservation condition under a high temperature and high humidity, and a solar battery module using it.
高温多湿下における過酷な保存条件においても、ガスバリア基材間の密着不良に伴うシートの外観不良や、ガスバリア性能の低下に伴う性能低下を伴わない、耐湿熱密着性に優れた太陽電池裏面封止用シート及びこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁 - A defect judging unit DET sets the secondary side outputs of both auxiliary current transformers to the same level and takes a difference of the secondary side outputs, and judges as that the transformation ratio of either one auxiliary current transformer is abnormal, both the transformation ratios are abnormal or a secondary side disconnection of one auxiliary current transformer when the difference exceeds a predetermined value.
異常判定部ＤＥＴは、両補助変流器の二次側出力を同じレベルにしてその差分をとり、この差分が一定値を越えるときはいずれか一方の補助変流器の変成比が異常または両方の変成比が異常、または一方の補助変流器の二次側断線として判定する。 - 特許庁 - The image forming device prevents the image defect in company with the separation discharge occurring when separating the transfer paper P from the transfer belt 8 by restraining the discharge on a rear side of the transfer paper P parting from the transfer belt by stimulating the discharge on the surface of the transfer paper P by means of a discharge stimulating roller 140.
放電励起ローラ１４０によって転写紙Ｐの表面での放電を励起させることにより転写ベルトから分離する転写紙Ｐの裏面での放電を抑制するようにして、転写紙Ｐを転写ベルト８から分離する際に発生する剥離放電に伴う画像不良を抑制するようにした。 - 特許庁 - A dry film resist 5 as a bank is pasted in a direction crossed in an extending direction of the bank 2 after inspecting a defected location 3 existed on a partition of the bank 2 by a defect inspection means 4, and a pasted repair material 6 is temporarily cured by applying the repair material 6 at a zone sandwiched between the pasted banks.
欠陥検査手段４によりバンク２の隔壁にある欠陥箇所３を検査した後、バンク２の延在方向と交差する方向に土手としてのドライフィルムレジスト５を貼付し、貼付された土手で挟まれた領域に修復材料６を塗布して、塗布された修復材料６を仮硬化させる。 - 特許庁 - The image processing inspection part 50 composes a composite image by synthesizing an image of dicing line, which divides a circuit pattern at the surface of the wafer, into an image of rear surface of the wafer imaged by the rear surface imaging device 130 and detects the position of the defect based on the composite image with corresponding to the position of each circuit pattern.
画像処理検査部５０は、ウエハの表面において回路のパターンを分割するダイシングラインの画像を裏面撮像装置１３０により撮像されたウエハ裏面画像に合成して合成画像を生成し、この合成画像に基づいて欠陥の位置を各回路パターン位置と対応させて検出する。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method with which a defect-free permanent pattern, such as a wiring pattern can be efficiently formed with high definition by suppressing distortion of an image provided on a pattern forming material and setting the total light transmittance and the haze value of a support in the pattern forming material within a prescribed range.
パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、該パターン形成材料における支持体の全光線透過率及びヘイズ値を所定の範囲とすることにより、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - In the fine pattern correction method, laser light α, irradiated on a given position deviated from the center 32a of an objective lens 32, refracted with the objective lens 32, and directed toward a focus F is irradiated aslant from upward on a side wall face of the correction part 30 consisting of correction paste 21 coated on a rib chip defect 85.
この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁 - To provide a press that can perform press working such as punching with superior accuracy even if a press driving/pressurizing means like a press ram is inclined, and that can also perform press working without causing damage to a punch or the like or machining defect of a product even if a clearance is extremely narrow between the punch and die.
プレスラム等のプレス駆動加圧手段が傾斜した場合においても、打抜き等のプレス加工を精度良く行うことができ、併せてパンチとダイとのクリアランスが極めて狭くとも、パンチ等の損傷や製品の加工不良を招くことなくプレス加工を行い得るプレス装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - This device has an inspection head 4 for photographing each fuel rod 100 which is an inspection object, a moving means for moving the fuel rod 100 and the inspection head 4, and a fuel rod inspection control device 6 for performing visual dimension inspection or defect inspection from an appearance image of the fuel rod 100 photographed by the inspection head 4.
被検査体である燃料棒１００を撮影する検査ヘッド４と、燃料棒１００または検査ヘッド４を移動させる移動手段と、検査ヘッド４で撮影した燃料棒１００の外観画像から外観寸法検査または欠陥検査をする燃料棒検査制御装置６とを有する。 - 特許庁 - To provide a rubber composition used for a rubber member for a conveying roller which is used in a portion contacting a conveyed article and reduces sticking of abrasion dust generated when conveying a glass substrate to the glass substrate, conveyance defect of the rubber member due to tensile stress mitigation, and an ESD (electrostatic discharge) phenomenon.
搬送物と接触する部分に用いる搬送ローラ用ゴム部材であり、ガラス基板を搬送する際に生じる摩耗粉の、搬送物であるガラス基板への粘着、前記ゴム部材の引張応力緩和による搬送不良、ならびにＥＳＤ現象を低減したゴム部材のためのゴム組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a laver dehydrating sponge causing no shape defect thereof during dry storage, enabling itself to easily be moistened enough to be usable, having high water absorptivity required in producing laver and moderate hardness, and capable of efficiently discharging water absorbed once without returning it to a laver material as the object for water absorption.
乾燥保管時に形状的な欠陥を起こさず、かつ容易に使用時が可能な湿潤状態とすることが可能で、かつ海苔製造時に要求される優れた吸水性、適度な硬さ、一旦吸水した水分を吸水対象物である海苔原料に戻さず効率的に排水し得る海苔脱水用スポンジを提供する。 - 特許庁 - To provide a valve system facilitating the lift amount adjustment of a valve even in the case of forming a cylinder part for performing preliminary opening/closing of a valve, at a rocker arm and causing no defect such as the leakage of oil pressure from the cylinder part even if operated for a long time.
本発明は、ロッカアームにバルブの予備的な開閉を行わせるシリンダ部を形成した場合であっても、バルブのリフト量の調整が容易であり、かつ長時間運転しても上記シリンダ部から油圧がリークする等の不具合の生じないバルブシステムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display element capable of reducing an interaction between a reverse tilt domain generated in a pixel and a reverse tilt formed in a pixel corresponding to an adjacent pixel electrode, improving an image quality defect due to a lateral electric field and obtaining a higher image quality and to provide a projection type liquid crystal display device.
画素内に発生するリバースチルトドメインと隣接する画素電極に対応する画素内に形成するリバースチルトとの相互作用を低減でき、横電解による画質不良を改善でき、より高品位な画質を得ることができる液晶表示素子および投射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect marking device applying marking to a defective portion detected by an inspection device of a lengthy sheet-like product carried in the longitudinal direction, only in one position without damaging the sheet-like product, so that removal or repair of the defective portion is easily performed in an after process.
長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、検出された欠陥部分にシート状製品に損傷を与えることなく、１か所のみにおいてマーキングを施し、後工程において容易に欠陥部分の除去又は補修をすることができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device allowing an optimal voltage independent of a gate-off voltage value to be applied to a liquid crystal when restoring a defective pixel of an active matrix type LCD in which a TFT is formed as a switching element in each pixel area, and to provide a pixel defect restoring method.
本発明は、各画素領域にスイッチング素子としてＴＦＴが形成されたアクティブマトリクス型のＬＣＤの欠陥画素を修復した際に、ゲートオフ電圧の大きさに依存しない最適な電圧を液晶に印加できる液晶表示装置及び画素欠陥修復方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a front loading evaluation device evaluating not only the number of defects in a process but also evaluating a degree of divergence between a defect generation process and a detection process, so that the number of outflow defects and outflow state to a downstream process are obtained, and the progress of improvement activity relating to front loading can be evaluated.
工程内の欠陥数の評価だけでなく、欠陥の発生工程と発見工程の乖離度をあわせて評価することにより、流出欠陥数と下流工程への流出状況を把握し、フロントローディングに関する改善活動の進捗状況を評価できるフロントローディング評価装置を得ること。 - 特許庁 - To provide an automatic inspection instrument which enables use thereof to use to judge whether a package, especially a sealed blister package comprising a blister container and a cover film has a defect or not with no much work and in a non-contact manner particularly pertaining to the blister container, sealed seam and scoring.
本発明は、パッケージ、特にブリスタ容器及びカバーフィルムからなる封止されたブリスタパッケージが、特にブリスタ容器、封止合わせ目及びミシン目に関して欠陥を有しないかどうかを、多くの労を要せず且つ触れずに判定するために使用することができる自動検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To solve the problem that a transistor varies in element characteristics resulting from unevenness in film thickness, patterning precision, etc., of a semiconductor film and a gate insulating film laminated in a manufacturing stage, and a polysilicon transistor further has variance in crystallinity depending upon a crystal growth direction, a defect at a crystal gain boundary, etc.
トランジスタは、製造過程における積層された半導体膜やゲート絶縁膜の膜厚の不均一性や膜のパターニング精度等に起因して素子特性がばらつき、ポリシリコントランジスタの場合は加えて、結晶成長方向や結晶粒界における欠陥等により結晶性がばらついてしまう。 - 特許庁 - The optional pattern is formed with high precision and high accuracy by patterning the photo paste, prepared by imparting photosensitive function to a functional material such as having conductivity, by printing such as offset, screen and after that, exposing, developing and removing excess parts due to the correction of the shape, the short defect or the like, drying and firing.
導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。 - 特許庁 - A bit map data generating section 2B provided in a control device 2 of the IC tester sequentially generates bit map data in accordance with progress of a predetermined address sequence, and further generates a bit map data file by inverting a logic value of the bit map data in accordance with the address obtained by the defect analysis memory retrieval section 3B.
ＩＣ試験装置の制御装置２に設けられたビットマップデータ作成部２Ｂは、所定のアドレスシーケンスの進行に従ってビットマップデータを順次生成すると共に、不良解析メモリ検索部３Ｂにより取得されたアドレスに基づきビットマップデータの論理値を反転させてビットマップデータファイルを作成する。 - 特許庁 - To provide a fiber-reinforced composite body which has a decorative layer with a required excellent decorative properties and a fiber-reinforced resin layer with a sufficiently high strength, and has the interface between the decorative layer and the fiber-reinforced resin layer with no defect such as void and inferiority of adhesion, and to provide its manufacturing method.
所望の優れた装飾性を持つ装飾層と、強度が十分高い繊維強化樹脂層とを有し、装飾層と繊維強化樹脂層との界面が、ボイドや接着不良という欠陥の無い界面である繊維強化複合体を提供し、その製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To obtain a superconductive device which minimizes the number of defects which cause magnetic flux trap in a superconductive thin film considering environmented magnetic field in a simplified magnetic shield for effectively confining flux trap which unstabilizes operation of a superconductive device in a defect, and making a superconductive device operate stably in a simplified magnetic shield.
超伝導デバイスの動作を不安定にする磁束トラップを効率よく欠陥に閉じこめ、かつ簡易型磁気シールド中で超伝導デバイスを安定に動作させるために、簡易型磁気シールド中の環境磁場を考慮し、超伝導薄膜中に磁束トラップさせる欠陥の数を最小にするような超伝導デバイスを得ること。 - 特許庁 - A defective pixel determination unit 330 determines whether or not each of pixels in a picked-up image is a defective pixel on the basis of the position information in the defective pixel address storage unit 320, and determines whether the pixel is included in the defective pixel group or not on the basis of the pixel defect information in the defective pixel address storage unit 320.
欠陥画素判定部３３０は、撮像された画像における各画素について欠陥画素アドレス記憶部３２０の位置情報に基づいて欠陥画素であるか否かを判定し、その画素が欠陥画素群に含まれるか否かを欠陥画素アドレス記憶部３２０の画素欠陥情報に基づいて判定する。 - 特許庁 - To make an image reader adaptive to both modes, i.e., a mode wherein a film is conveyed in one direction and scanned and a mode wherein the film is conveyed in the one direction for prescanning and then conveyed in the reverse direction for fine scanning, to simplify the device constitution, and to prevent a defect in conveyance.
画像読取装置において、フィルムを一方向に搬送してスキャンを行うモードと、フィルムを一方向に搬送してプレスキャンを行った後、反対方向に搬送してファインスキャンを行うモードとの、両方のモードに対応でき、装置構成を簡単にすると共に搬送不良の発生を防止する。 - 特許庁 - To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.
本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - This test device 1 for detecting a defect inside the processed article 5, 6 and specifying a position thereof has: heat sources 2, 7, 13, 14; sensor devices 3, 10, 11, 12 for measuring temperature distribution of the surface 8 of the processed article; and an evaluation device 4 connected to the sensor devices.
本発明は、加工品（５、６）内の欠陥を検出し、その位置を特定するための試験装置（１）に関するものであり、熱源（２、７、１３、１４）と、加工品の表面（８）の温度分布を測定するためのセンサ装置（３、１０、１１、１２）及びセンサ装置に接続された評価装置（４）を有している。 - 特許庁 - To provide an epoxy resin molding material for sealing which is satisfactory in moldability such as flowability and hardening property, and in coloring property, and is free from the occurrence of a short-circuit defect due to a conductive material even being used for a package narrow in distance between pads or wires, and an electronic part device provided with an element sealed with the same.
流動性や硬化性等の成形性及び着色性が良好で、パッド間やワイヤー間距離が狭いパッケージに用いた場合でも導電性物質によるショート不良が発生しない封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating supply roll which dispenses with circulation of a coating material, and supplies a pre-measured coating material to partition grooves without using a blade, and to provide a roll applicator and a manufacturing method of a coated web using the coating supply roll, stable in a film thickness, and free from coating defect.
塗料の循環を不要とし、しかもブレードを使用しなくても前計量によって計量された塗料が区画溝に供給される塗料供給ロールと、この塗料供給ロールを用いて、膜厚が安定で、塗布欠点のないロール塗布装置および塗布済みウェブの製造方法を提供する。 - 特許庁 - When a disk area on a fixed disk device used by a file using an application program is damaged physically, the file brought into an abnormal termination by a file operation to the disk area is renamed to express clearly the abnormal termination, and the area including the defect sector is isolated.
本発明は、アプリケーションプログラムを使用しているファイルが使用する固定ディスク装置上のディスク領域が物理的に破損した場合、ディスク領域のファイル操作で異常終了したファイルを異常終了したことが明示できるファイル名に変更し、不良セクタを含む領域を隔離することを特徴とする。 - 特許庁 - The method for producing the light-transmitting member is a method for producing a light-transmitting member by treating a raw light-transmitting member made of molten quartz glass and comprises subjecting the surface layer of the raw light-transmitting member to an oxygen-defect reduction treatment comprising a surface layer removal treatment or a surface heat treatment.
光透過部材の製造方法は、溶融石英ガラスよりなる光透過部材用原材を処理することにより光透過部材を製造する方法であって、光透過部材用原材の表面層に対して、表面層除去処理または表面加熱処理からなる酸素欠陥低減化処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁 - When detecting the impossibility of using a trial recording area for obtaining optimal recording/reproducing conditions in the combination of a recording medium with a recorder, trial recording is carried out in a data recording area, and management information including an address pointer indicating the position of the trial recording is recorded in a defect management area.
記録媒体と記録装置の組み合わせで最適な記録再生条件を求めるための試し記録領域が使用不能と検出された場合に、データ記録領域内に試し記録を行い、試し記録が行われた位置を示すアドレスポインタを含む管理情報を欠陥管理領域に記録するようにする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an SOI wafer, with which the occurrence of voids or crystal defect, a problem of the conventional SOI wafer manufacturing step, can be suppressed by eliminating the surface roughness and an overhung shape formed by the difference in growth speeds in upper and lower layers in a silicon epitaxial growth layer.
シリコンエピタキシャル成長層における、表面ラフネスの解消と上下層の成長速度差に基づいて形成されるオーバーハング形状の解消とを図ることにより、ＳＯＩウエハ製造工程において問題となっていたボイドや結晶欠陥の発生を抑えることのできるＳＯＩウエハの製造方法の提供。 - 特許庁
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