「Design patterns」を含む例文一覧(323)

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  • To offer a calendar production material which can design freely using the favorite photographs and image patterns so that it facilitates to make the good original calendar.
    本発明によれば、オリジナルカレンダーの作製材料は、好みの写真や絵柄を用いて自由にデザインすることができ、良好なオリジナルカレンダーの作製材料を提供することができる。 - 特許庁
  • To provide an exposure system which is capable of forming resist patterns each having an identical line width with each of a plurality of photomasks used to manufacture semiconductor devices that are classified into the same product group and conform to the same design rule.
    同一デザインルールかつ同一製品群の半導体装置の製造に用いる複数のフォトマスクのそれぞれで、同一線幅のレジストパターンを形成可能な露光システムを提供する。 - 特許庁
  • (4) Where the shape, patterns or colors of the article to the design is changeable based on the function possessed by the article, if the applicant intends to request a design registration of the shapes, patterns or colors, or a combination thereof as it appears before, during and after the said change, he/she shall state such an intention and include an explanation of said function of the article in the application.
    ４　意匠に係る物品の形状、模様又は色彩がその物品の有する機能に基づいて変化する場合において、その変化の前後にわたるその物品の形状、模様若しくは色彩又はこれらの結合について意匠登録を受けようとするときは、その旨及びその物品の当該機能の説明を願書に記載しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • Translucent characters, animals, flower, or another kind of necessary patterns with excellent design, or a colored or colorless translucent film with the necessary patterns are applied, or a translucent colored non-transparent film is stuck on the transparent surface part 7.
    透光面部７に対し、光透過性を有するキャラクタ、アニマル、フラワー、もしくは諸種の他のデザイン性を有する所要の模様を施すか、あるいはこの所要の模様を形成した無色性もしくは有色性の透明フイルム、または光透過性を有する有色性の非透明フィルムを貼設する。 - 特許庁
  • Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.
    遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device, a method of manufacturing it and a mask by which design of dummy gate patterns which are placed for preventing the proximity effect when gate patterns are formed by photolithography can be simplified and the mask for gates can be manufactured in a short time and at a low cost.
    ゲートパターンをフォトリソグラフィ法で形成する際の近接効果を防止するために設けられるダミーゲートパターンの設計を簡易化し、ゲート用マスクを短時間でかつ低コストに製造することが可能な半導体装置及びその製造方法、並びにマクスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for processing the surface of a wood material or the like, capable of efficiently engraving continuous rugged patterns on the surface of a wooden architectural interior or exterior material, material of indoor furniture or the like with a mechanical power, and changing the design of patterns in a variety of ways and easily, and a surface-processed wood material.
    木製の建築用内・外装材、室内調度品の素材等の表面に、連続した凹凸模様を、機械力によって能率的に彫り上げられ、模様のデザインも多様に、簡単に変えられる、木質材等の表面加工法及び表面加工された木質材を提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor integrated circuit, a semiconductor integrated circuit design method and a semiconductor integrated circuit design program capable of reducing the number of test patterns with respect to a semiconductor integrated circuit including an internal clock domain having data path dependency operated in the same frequency.
    同一の周波数で動作するデータパス依存関係を有する内部クロックドメインを含む半導体集積回路に対して、テストパターン数を削減することができる半導体集積回路、半導体集積回路設計方法及び半導体集積回路設計プログラムを提供すること - 特許庁
  • Next, the area density of a design pattern in each divided area DA is computed every divided area DA and display patterns(D1 to D5) each of which has an area corresponding to the area density of the design pattern in each divided area DA are generated in respective divided areas DA.
    次に、各分割領域ＤＡ毎に、各分割領域ＤＡ内の設計パターンの面積密度を算出し、各分割領域ＤＡ内の設計パターンの面積密度に応じた面積を有する表示パターン（Ｄ１〜Ｄ５）を各分割領域ＤＡ内に生成する。 - 特許庁
  • Each indicator lamps shows the number of designs to be variably displayed on the variable indicator 6, a design pattern conformed to each indicator lamp is selected from a plurality of preliminarily prepared design patterns, and the number of designs in this pattern is variably displayed on the variable indicator 6.
    それぞれの表示ランプは、可変表示器６に変動表示される図柄の枚数を示しており、予め用意された複数の図柄パターンの中からそれぞれの表示ランプに対応した図柄パターンが選ばれ、そのパターの図柄の枚数が可変表示器６に変動表示される。 - 特許庁
  • The method is at least provided with the first step which extracts patterns of which process likelihood to the fluctuation of an exposure quantity and a focal distance does not reach a prescribed reference value from patterns of mask used in an optical exposure process of a semiconductive device designed according to prescribed design rules, and the second step which corrects the patterns to satisfy the process likelihood with the reference value.
    所定のデザインルールに従って設計された、半導体装置の光露光工程において使用するマスクの設計パターンから、露光量と焦点距離の変動に対するプロセス裕度が所定の基準値に達していないパターンを抽出する第１ステップと、プロセス裕度が基準値を満たすようにパターンを補正する第２ステップとを少なくとも具備する。 - 特許庁
  • To provide a display filter in which a plurality of design patterns are independently transmissively illuminated and displayed and aesthetics is not lost during turn-off of a source light beam, and to provide a display module having the display filter.
    複数の意匠パターンを独立して透過照明表示しかつ光源光の消灯時における美観をも損なわない表示フィルタ及び該表示フィルタを有する表示モジュールを提供する。 - 特許庁
  • To provide a novel method for painting a building board capable of realizing high design painting having intricate designs and patterns with a random feel in the inkjet painting to the building board, and an apparatus for the same.
    建築板へのインクジェット塗装においてランダム感のある複雑な柄模様を有する高意匠塗装を実現することのできる、新しい建築板塗装方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
  • Also, the specification result is applied to the input system design information table to specify which of a plurality of predetermined path patterns the communication path of communication data is pertinent to (330).
    またその特定結果を、入力されたシステム設計情報テーブルに適用することで、通信データの通信経路が、あらかじめ定められた複数の経路パターンのいずれに該当するかを特定する（３３０）。 - 特許庁
  • A layout pattern preparation section 27 in a lithographic process margin evaluation device 120 prepares a plurality of design layout patterns, with the use of analysis conditions and information stored in a layout pattern template holding section 22.
    リソグラフィプロセスマージン評価装置１２０内のレイアウトパターン作成部２７は、解析条件とレイアウトパターンテンプレート保持部２２に保存された情報とを用いて複数の設計レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁
  • A pattern most approximate to the design pattern is selected from the finely processed test resist patterns, and the test pattern used for the formation of the selected pattern is adopted as a correction pattern (S4, S8).
    微細化されたテスト用レジストパターンの中から前記設計パターンに最も近いパターンを選択し、選択されたパターンの形成に用いたテスト用パターンを補正パターンとして採用する（Ｓ４，Ｓ８）。 - 特許庁
  • The design pattern of a gate electrode is corrected based on the shape of a side wall changing according to a distance between the patterns of a plurality of gate electrodes in order to correct semiconductor characteristics such as a threshold voltage.
    しきい値電圧などの半導体特性を補正するために、複数のゲート電極のパターン間の距離に応じて変化するサイドウォールの形状に基づいて、ゲート電極の設計パターンを補正する。 - 特許庁
  • To provide a scan path design method for detecting the failure of the whole semiconductor integrated circuit in a short period of time with less test patterns, in a semiconductor integrated circuit provided with a plurality of functional macros.
    複数の機能マクロを装備する半導体集積回路において、より少ないテストパターンで短時間に半導体集積回路全体の故障検出が可能なスキャンパスの設計方法を得ること。 - 特許庁
  • MDD means that you can perform development by mapping element attributes to Freemarker templates, and thus you can create model elements tagged with stereotypes that allow you to generate complex programming design patterns.
    MDD は要素の属性を Freemarker テンプレートにマッピングすることで開発を行えることを意味するので、複雑なプログラミングデザインパターンの生成を可能にするステレオタイプでタグ付けされたモデル要素を作成できます。 - NetBeans
  • To provide a manufacturing process capable of manufacturing an FRP molding which carries a variety of translucent patterns with e.g. granitic tone and marble tone and has an excellent design aesthetics in a few process steps without consuming a great deal of time and effort.
    少ない工程で手間がかかることなく、透明感のある御影石調や大理石調等種々の模様が付与され、意匠性に優れたＦＲＰ成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A decoration film 3 on which the prescribed design of patterns and colors, etc., is executed is mounted in a wound state over a prescribed length range at the upper end part of a straw main body 2 composed of a tubular body.
    管状体からなるストロー本体２の上端部に所定長さ範囲にわたって模様や色彩等の所定絵柄が施された装飾フィルム３が巻き付け状態に装着される。 - 特許庁
  • To provide a protruded corner execution structure in which a joint part of a protruded corner column and its right and left outer wall plates is inconspicuous and patterns of design surfaces are continuously revealed, and the protruded corner column using the same.
    出隅柱とその左右の外壁板との接合部が目立たず，意匠面の柄模様が連続して表出される出隅部施工構造及びこれに用いる出隅柱を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a transaction business aiding method and a transaction system for a series of transactions from the design determination of a solar battery array on which graphics such as characters and patterns are drawn up to the preparation of a block copy and the execution of the solar battery array.
    文字、図形、模様等のグラフィックを施した太陽電池アレイのデザイン決定から版下作成、施工に至る一連の取引業務支援方法および取引システムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a surface processed panel having uneven patterns such as the tone of beautiful stone cutting, parting plane or the like on the surface thereof and having high architectural design efficiency abounding in waterproof efficiency and having no pinhole.
    表面に石割調、石目調等の自然石調の美しい凹凸模様が表示され、しかも、防水性に富みかつピンホールが存在しない意匠性の高い表面加工パネルを目的としている。 - 特許庁
  • Printing by an ink jet method or sublimation type heat transfer method may be adopted as the method for applying the design patterns 7 by the dye ink to the surfaces on the crepe 3 side of the crepe sheets 5.
    縮緬シート５の縮緬３側の表面に染料インクにより図柄模様７を施す方法としては、インクジェット方式又は昇華型熱転写方式による印刷を採用することができる。 - 特許庁
  • To provide a desktop holder usable for mobile phones of a plurality of different outward design patterns without the need for modifying major components of the desktop holder.
    携帯電話機用卓上ホルダの主要部品を変更することなく、外形デザインの異なる複数パターンの携帯電話機に対して使用できる携帯電話機用卓上ホルダを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Major karakami patterns were a geometrical pattern (geometric design) such as arabesque of 'karakami' and a tortoiseshell pattern in an early stage, and the technical decorative pattern of paintings such as the Korin School from recent times.
    からかみの紋様は、当初「唐紙」の唐草や亀甲紋様などの幾何学紋様が主流で、近世にはいって光琳派などの絵画の技巧的な装飾文様が多用されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • If you know that a certain component of your system will utilize a design pattern or set of patterns, simply dragging and dropping the pattern onto the canvas creates the basic component for you.
    システムの特定のコンポーネントがデザインパターン、または一連のデザインを利用することが分かっている場合は、単にそのパターンをキャンバスにドラッグ&ドロップするだけで、その基本コンポーネントが作成されます。 - NetBeans
  • To provide a variable mechanism for temple design of spectacles, which can provide a wide variety of temple designs and a high degree of freedom in decorative expression and permits easy changing of patterns so as to meet TPO (time, place, and occasion).
    テンプル意匠が変化に富んで装飾表現の自由度が大きく、ＴＰＯに合わせて気軽に模様替えすることができる眼鏡におけるテンプル意匠の可変機構を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an image processor, an image forming device, an image processing method, a computer program, and a recording medium therefor, preventing such a problem of unclearly displaying design pattern which should be displayed when copying an obtained original is copied, in an image processing to add design data representing the design patterns to obtained image data.
    取得画像データに、地紋パターンを表す地紋データを付加する処理を行う画像処理において、得られる原稿が複写される際に現れるべき地紋パターンがはっきり顕在しない問題が生じる虞がある場合は、斯かる問題の発生を未然に防止出来る画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁
  • As another method of solving the problem, the method of performing a first matching, based on the plurality of patterns arranged in the predetermined region of design data, then performing a second matching using a part of the plurality of patterns arranged in the predetermined region, and a device for achieving it are provided.
    また、上記課題を解決するための他の手法として、設計データの所定領域内に配置された複数のパターンに基づく第１のマッチングを行った後、前記所定領域内に配置された複数のパターンのうち、一部を用いて第２のマッチングを行う方法、及びそれを実現する装置を提案する。 - 特許庁
  • To obtain a method for correcting mask patterns by which the CAD processing time for performing light proximity effect correction of inputted design patterns is reduced, the increase in number of basic figures, when the corrected data is converted into EB data is suppressed and the generation of false defects during the step for inspecting photo masks is suppressed.
    入力された設計パターンに対して光近接効果補正を行う場合のＣＡＤ処理時間を短縮し、補正後のデータをＥＢデータに変換した場合の基本図形数の増加を抑制し、またフォトマスク検査工程における疑似欠陥の発生を抑制するマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁
  • An area size where existence of surrounding patterns is to be considered, based on an internal diffusion length of incident electron beam is decided, three-dimensional information of patterns in the area size is formed using design layout data, and a library correlating a cross-sectional shape of a SEM signal waveform and a cross-sectional shape is formed using the three-dimensional information.
    入射電子線の内部拡散長に基づいて周囲パターンの有無を考慮すべき領域のサイズを決定し，設計レイアウトデータを用いて，前記領域サイズ内のパターンの三次元情報を作成，この三次元情報を用いて，ＳＥＭ信号波形と断面形状とを関連づけるライブラリを作成する。 - 特許庁
  • The resonance frequency of this antenna is calculated to design by using an expression that consists of a pattern switch width closely related to the quantity component between patterns of a conductor, a pattern length closely related to the resonance frequency, the quantity between patterns, a pattern width closely related with association, and a pattern pitch.
    導体のパターン間の容量成分に密接に関係するパターン切り返し幅に加え、共振周波数と直接関係するパターン長、パターン間の容量、結合に密接に関係するパターン幅、パターンピッチより成り立つ計算式を用いて共振周波数を求め、この計算式にしたがって設計する - 特許庁
  • To provide a backrest device for a chair which clearly presents moire patterns generated by hole parts of upholstering materials back and forth while interfering with each other as patterns which are varied, profound in design, and excellent when the porous sheet-like upholstering materials are upholstered on back and forth surfaces of a backrest frame.
    多孔シート状の張材を背凭れフレームの前後両面に張設した場合に、前後における張材の孔部が互いに干渉し合って発生するモアレ模様を、変化に富み、デザイン的にも深みのある優れた模様に鮮明に現出させることができるようにした椅子の背凭れ装置を提供する。 - 特許庁
  • A means 44 is provided for comparing a fatal region pattern 34 which is generated from design data for forming a wiring pattern and shows necessary indispensable regions corresponding to the center of the wiring pattern with an inspected pattern obtained from wiring patterns on an object under test, thereby detecting the defect from the non-coincidence of both patterns.
    配線パターンを形成するための設計データから生成され前記配線パターンの中心部に対応する必要不可欠な領域を示す致命領域パターンと、前記被検査物上の配線パターンから得た検査パターンとを比較して、両パターンの不一致により欠陥を検出する比較手段４４を有する。 - 特許庁
  • To provide a pattern arrangement method for stencil masks which previously executes the optimum arrangement circuit patterns from a design stage so as to allow the efficient selection of the circuit patterns arranged on the stencil masks used for direct electron beam drawing technique and draws the circuit patterns of high throughput on a wafer with the least possible correction and exchange of the stencil masks and a method for manufacturing semiconductor integrated circuits using the same.
    本発明は、電子ビーム直接描画技術に用いられるステンシルマスクに配置される回路パターンを効率的に選択できるように、あらかじめ設計段階から回路パターンの最適配置を行うとともに、ステンシルマスクの修正や交換がなるべく少なくスループットの高い回路パターンをウエハー上に描画するステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法を得る。 - 特許庁
  • To provide a side signboard for the telegraph pole with an excellent design property in which the front and rear surfaces including the surface of an outer frame for reinforcement are provided with desired patterns over the entire surface even with the side signboard for the telegraph pole mounted with the outer frame for reinforcement.
    補強用外枠を取り付けた電柱用袖看板であっても、補強用外枠面を含め、表裏全面に所望の模様が付された意匠性の高い電柱用袖看板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a dashboard for a vehicle with excellent design, which prevents reflection on a windscreen in all positions on the dashboard, and therefore allows bright colors, patterns or the like to be arranged on the whole area of the dashboard.
    ダッシュボード上のあらゆる位置でフロントガラスへの映り込みを防止することができるので、明るい色味や絵柄等をダッシュボード全体に配置することでき、意匠上優れた車両用ダッシュボードの提供。 - 特許庁
  • As the film 16 has patterns 17...17 having a hologram with twinkling visual effect, the unprecedented shoulder belt 10 rich in individuality and with excellent design and good appearance can be obtained.
    そして、フィルム１６がきらきらと光り輝く視覚効果を有するホログラムでなる図柄１７…１７を有するから、意匠性に優れ、見栄えのよい、従来にない個性的な肩紐１０を提供することができる。 - 特許庁
  • To provide an ALC (aerated lightweight concrete) panel being capable of executing various patterns on the surface of the panel by a comparatively simple method and having excellent design and its manufacturing method.
    ＡＬＣ（軽量気泡コンクリート）パネル及びその製造方法に係り、比較的簡単な方法でパネル表面に種々の模様を施すことができ、意匠性に優れたＡＬＣパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • As one method of solving this problem, the method of performing a matching selectively using a part of the plurality of patterns arranged in a predetermined region of design data, and a device for achieving it are provided.
    上記課題を解決するための一手法として、設計データの所定領域内に配置された複数のパターンのうち、一部を選択的に用いてマッチングを行う方法、及びそれを実現するための装置を提案する。 - 特許庁
  • To avoid a hindrance to the design of wiring patterns in a CSP where external terminals are arranged within a surface range of a semiconductor chip, where the hindrance may occur due to a position change of chip pads.
    本発明は、半導体チップの表面範囲内において外部端子を配列したＣＳＰにおいて、チップパッドの位置変更によって起こりうる配線パターン設計の障害を回避することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a method capable of preventing a step difference between patterns from being unnecessarily too small or too large after division of an image so as to reduce an image drawing time and enhance the image drawing accuracy in the case of generating image drawing data from design data.
    設計データから描画データを作成する際に、分割後のパターン段差が不必要に小さくなったり大きすぎたりすることを防止でき、描画時間の短縮と共に描画精度の向上をはかる。 - 特許庁
  • Article 2 (1) "Design" in this Act shall mean the shape, patterns or colors, or any combination thereof, of an article (including a part of an article, the same shall apply hereinafter except in Article 8), which creates an aesthetic impression through the eye.
    第二条　この法律で「意匠」とは、物品（物品の部分を含む。第八条を除き、以下同じ。）の形状、模様若しくは色彩又はこれらの結合であつて、視覚を通じて美感を起こさせるものをいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The design data of an edge in either a portion to be left on a substrate 6 or a portion not to be left on the substrate 6, in a pattern 5 to be formed on the substrate 6 to be processed by using two masks 1, 2 is extracted from the design data of mask patterns 3, 4 formed on masks 1, 2, respectively.
    ２枚のマスク１，２を用いて被処理基板６上に形成されるパターン５のうち、基板６上に残す部位および基板６上に残さない部位のいずれか一方の部位のエッジ部の設計データを各マスク１，２に形成されているそれぞれのマスクパターン３，４の設計データから抽出する。 - 特許庁
  • The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information.
    基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 - 特許庁
  • To reduce storage capacity in a main controller by reducing the number of variation pattern commands while securing the variety of variation patterns, and to reduce an inspection load by reducing debug man-hours during design development of a game machine.
    変動パターンの多様性を確保しつつ、変動パターンコマンド数を削減することにより主制御装置における記憶容量を削減し、かつ遊技機の設計開発時におけるデバック工数を低減させて検査負荷を減らす。 - 特許庁
  • Furthermore, the guard method includes steps for removing any part of the guard band that violates design rules, removing convex corners of the guard band, and adding dummy diffusion patterns into the remaining space of the chip outside the guard band.
    当該方法はさらに、設計ルールに反する保護バンドの如何なる部分も除去することと、保護バンドの凸角部を除去することと、保護バンドの外側のチップの残りの空間にダミー拡散パターンを付与することとを含む。 - 特許庁
  • A capacitance switch device is provided with a design plate 1 with transmission patterns 3A to 3C prepared, sensor electrodes 11 to 13, a sensor electrode 19 surrounding them 11 to 13, diffusion plates 2A to 2C, LEDs 51 to 53 and a circuit portion 20.
    静電容量式スイッチ装置は、透過パターン３Ａ〜３Ｃが設けられた意匠板１と、センサ電極１１〜１３と、これらを囲むセンサ電極１９と、拡散板２Ａ〜２ＣおよびＬＥＤ５１〜５３と、回路部２０とを備える。 - 特許庁
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