「Diffraction standard」を含む例文一覧(20)
- A half- width ratio ΔD of a X-ray diffraction peak of Al in the dendrite region, is preferably 0.70 times or less of a half-width ratio ΔD_0 of a X-ray diffraction for a standard sample.
デンドライト領域のAlのＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤが標準試料のＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤ_0 の0.70倍以下であることが好ましい。 - 特許庁 - To improve analysis efficiency when X-ray diffraction quantitative analysis of many samples is performed using a base standard absorption correction method.
多数の試料について基底標準吸収補正法を用いたＸ線回折定量分析を行う場合の分析効率を向上させる。 - 特許庁 - Diffraction images of the evaluated sample and the standard sample formed by an electron beam E2 transmitted through/diffracted the joined body are detected in this method.
そして、接合体を透過・回折した電子ビームＥ２により形成される被評価試料及び標準試料の回折像を検出する。 - 特許庁 - The optical path length difference of light whose phase changes in accordance with the linear type phase diffraction gratings 21 is equal to λ/2 when the standard wavelength to be used is λ.
リニア型位相回折格子２１によって位相が変化する光の光路長差ΔＨは、使用する基準波長λであるときに、λ／２に等しい。 - 特許庁 - In the expression, I{420} represents an X-ray diffraction intensity of a crystal face {420} on the plate surface of the copper alloy plate material, and I_0{420} represents an X-ray diffraction intensity of the crystal face {420} of a standard powder of pure copper.
Ｉ｛４２０｝／Ｉ_0｛４２０｝＞１.０ ……（１） ここで、Ｉ｛４２０｝は当該銅合金板材の板面における｛４２０｝結晶面のＸ線回折強度、Ｉ_0｛４２０｝は純銅標準粉末の｛４２０｝結晶面のＸ線回折強度である。 - 特許庁 - A diffraction optical element 22 included in the reference standard plate 20 with the diffraction grating is configured to convert measurement light from a reference standard plane 21 into off-axis measurement light incident on the lens to be checked 70 from the all directions around an optical axis C_70 of the lens to be checked 70 at a predetermined inclination angle with respect to the optical axis C_70.
回折格子付参照基準板２０が有する回折光学素子２２は、参照基準面２１からの測定光を、被検レンズ７０の光軸Ｃ_７０の回り全方位から光軸Ｃ_７０に対し所定の傾斜角度をなして被検レンズ７０に入射する軸外測定光に変換するように構成されている。 - 特許庁 - An X-ray diffraction and thermal analysis simultaneous measurement device includes functions for executing X-ray diffraction measurement by irradiating a sample for measurement with X-rays and simultaneously executing thermal analysis measurement by heating the sample for measurement and the standard sample, and includes a furnace heating which heats the sample for measurement and the standard sample.
被測定試料に対しＸ線を照射してＸ線回折測定を実施するとともに、当該被測定試料および標準試料を加熱して熱分析測定を同時に実施する機能を備えたＸ線回折・熱分析同時測定装置であり、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉を備えている。 - 特許庁 - To perform accurate qualitative analysis by accurately performing the comparison of the measured data of the intensity of diffracted X-rays and standard data even in such a case that a measuring condition of the measured data and the standard data is different, especially, a diffusion slit is different in the X-ray diffraction device.
Ｘ線回折装置において、回折Ｘ線強度の測定データと標準データの測定条件、特に、発散スリットが異なる場合でも、測定データと標準データの比較を正確に行い正確な定性分布を行う。 - 特許庁 - In carrying out aberration correction of a STEM device, a standard substrate with Au particles 102 deposited on a single-crystal substrate 101 made of Si is used, and based on electron diffraction images and a Kikuchi pattern, inclination of the standard substrate is adjusted.
ＳＴＥＭ装置の収差補正に際して、Ｓｉからなる単結晶基板１０１上にＡｕパーティクル１０２が堆積されてなる標準基板を用い、電子線回折像及び菊池パターンに基づいて、標準基板の傾斜を調節する。 - 特許庁 - When performing counting for "to" as time interval in a spectral diffraction position, the standard deviation Eo for the dispersion in the count N of X-ray total values which does not include statistical fluctuation is Sqrt (N).
ある分光位置においてｔｏ時間計数したときの統計変動を含まないＸ線計数値Ｎカウントが持つばらつきの標準偏差ＥｏはＳｑｒｔ（Ｎ）である。 - 特許庁 - To attain highly accurate thermal analysis measurement by making ambient environment of a sample for measurement and a standard sample the same on the premise of configuration for performing X-ray diffraction measurement by a transmission method.
透過法によるＸ線回折測定ができる構造を前提として、被測定試料と標準試料の周囲環境を同じにして高精度な熱分析測定を実現する。 - 特許庁 - The hologram areas 106a and 106b each orient the plus first order diffraction lights 122a and 122c in one direction and the minus first order diffraction lights 122b and 122d in the other direction, respectively, to a standard line which goes through the luminescence area of the laser diode 104 and is parallel to the Y-axis.
ホログラム領域１０６ａ、１０６ｂは、それぞれ、レーザーダイオード１０４の発光点を通りＹ軸に平行な線を基準にして、＋１次回折光１２２ａ、１２２ｃを共に一方の側に方向付け、−１次回折光１２２ｂ、１２２ｄを共に他方の側に方向付ける。 - 特許庁 - On a measurement optical axis C_10, there are arranged a reference standard plate 20 with a diffraction grating, a lens to be checked 70 which is supported by a specimen supporting means 30 and a null optical element 40 in this order.
測定光軸Ｃ_１０上に、回折格子付参照基準板２０、被検体保持手段３０により保持された被検レンズ７０およびヌル光学素子４０を、この順に配置する。 - 特許庁 - The off-axis measurement light incident on the lens to be checked 70 is retroreflected by the null optical element 40 and turns out light to be checked via the lens to be checked 70 and the reference standard plate 20 with the diffraction grating.
被検レンズ７０に入射した軸外測定光は、ヌル光学素子４０によって再帰反射され、被検レンズおよび回折格子付参照基準板２０を経由して被検光とされる。 - 特許庁 - The hydraulic alumina has a broad peak top at 2θ=25±5° in a powder X-ray diffraction spectrum at 1.5405Å wave length, and 10-20° half-value width measured by using the base line of the broad peak as a standard.
この水硬性アルミナは、波長１．５４０５Åにおける粉末Ｘ線回折スペクトルが、２θ＝２５±５°にブロードなピークの頂点を有し、ブロードなピークのベースラインを基準とした半値幅が１０°〜２０°である。 - 特許庁 - The gallium oxide powder having a (D90-D10)/D50 value of 1.00-1.50 is provided in D10, D50 and D90 by volume standard particle size distribution obtained by measuring by a laser diffraction scattering-type particle-size distribution measuring method.
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布によるＤ１０、Ｄ５０及びＤ９０において、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０の値が１．００〜１．５０であることを特徴とする酸化ガリウム粉末を提案する。 - 特許庁 - The wavelength adjustment device receives the wavelength and power values of rays of light measured by the optical power meter and determines adjusted wavelengths corresponding to N kinds of standard wavelengths respectively, where a difference in optical power between rays of light output from the output ports of the array waveguide diffraction grating is minimum.
波長調整装置は、光パワーメータで測定された光の波長及びパワーの値を受け取り、アレイ導波回折格子の出力ポートから出力される光のパワーの差が最小となる、Ｎ種類の標準波長の光に対応する調整後波長をそれぞれ決定する。 - 特許庁 - The product (also called "D50×SSA") of D50 by the volume standard particle size distribution (called simply "D50") as measured by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method and a specific surface area (SSA) in the range of 15.0×10^-6 to 30.0×10^-6 m^3/g.
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布によるＤ５０（以下、単に「Ｄ５０」とも称する）と比表面積（ＳＳＡ）との積（「Ｄ５０×ＳＳＡ」とも称する）が１５．０×１０^-6〜３０．０×１０^-6ｍ^3／ｇの範囲内であることを特徴とする酸化ガリウム粉末を提案する。 - 特許庁 - The resist ink comprises (A) a colorant, (B) a curable resin, (C) a reactive diluent, (D) a polymerization initiator and (E) a filler, wherein the colorant (A) has an average particle diameter of 0.01 to 1 μm measured by a laser diffraction scattering method and a standard deviation of particle size distribution of 0.1-0.2 μm.
（Ａ）着色剤、（Ｂ）硬化性樹脂、（Ｃ）反応性希釈剤、（Ｄ）重合開始剤及び（Ｅ）充填剤を含有するレジストインクにおいて、上記（Ａ）着色剤は平均粒子径がレーザー回折散乱法による測定の粒子径により０．０１μｍ以上１μｍ未満であり、かつ粒度分布の標準偏差は０．１〜０．２μｍであるレジストインク。 - 特許庁 - To provide an optical pickup corresponding to two to three wavelengths including "BD" standard, which integrates other light receiving/emitting functions but Can laser for "BD", adopts a hologram element thereby to avoid increasing of the number of components and lightens the dependency of wavelength variation unique to a diffraction grating thereby to ensure high reliability while simplifying and miniaturizing the constitution and reducing the manufacturing cost.
「ＢＤ」規格を含む２乃至３波長に対応した光ピックアップにおいて、「ＢＤ」用のＣａｎレーザを除く他の受発光機能を集積化し、また、ホログラム素子を用いることにより部品点数を増加を防ぎ、構成の簡素化及び小型化、製造コストの低廉化を図りつつ、回折素子特有の波長変動依存性を軽減して高信頼性を確保した光ピックアップを提供する。 - 特許庁
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