Then, the 4th group Gr4 is provided with a diffraction grating r14*#. 第4群(Gr4)が回折格子(r14*#)を有する。 - 特許庁
Then, the 1st group Gr1 is provided with a diffraction grating r3#. 第1群(Gr1)が回折格子(r3#)を有する。 - 特許庁
DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD 回折光学素子およびその製造方法 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING MEMBER AND ITS MANUFACTURING METHOD 回折格子部材及びその製造方法 - 特許庁
The positive electrode active material has a diffraction peak at 8.4-10.4° of a diffraction angle 2θ in X-ray diffraction by a CuKα ray. 該正極活物質は、CuKα線によるX線回折において、回折角2θの8.4〜10.4度の位置に回折ピークを有する。 - 特許庁
The diffraction element 3 has a low diffraction efficiency for the P-polarized light and most portion of the forwarding light becomes a zero- order diffraction light La. 回折素子3は、P偏光に対して低い回折効率を有するので、往路光Lの多くが0次回折光Laとなる。 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING, MANUFACTURING METHOD FOR DIFFRACTION GRATING, EXPOSURE METHOD USING SAME DIFFRACTION GRATING, ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, AND EXPOSURE SYSTEM 回折格子、回折格子の製造方法、該回折格子を用いる露光方法、電子デバイス製造方法、電子デバイスおよび露光装置 - 特許庁
The image display device 200 controls diffraction characteristics of the diffraction optical element 220 based on a given diffraction optical element control signal. 画像表示装置200は、所与の回折光学素子制御信号に基づいて回折光学素子220の回折特性が制御される。 - 特許庁
It is preferable that the X-ray diffraction peak is the diffraction peak originated from an alkyl chain and developed in the vicinity of 21° of diffraction angle 2θ. 前記X線回折ピークが、回折角2θの21°付近に発現するアルキル鎖由来の回折ピークであることが好ましい。 - 特許庁
A diffraction grating reflecting light deviates from a light source 1 in the direction of a diffraction groove (in the direction of the X-axis) by inclining the diffraction grating 2. 回折格子2を傾斜させることにより、回折格子反射光が、光源1から回折溝方向(X軸方向)にずれる。 - 特許庁
In the diffraction element 50, high light utilization efficiency can be obtained while the diffraction element has a low cost by forming a pitch Λ of a rugged pattern of a diffraction grating 10 so as to satisfy the range of 1.7λ≤Λ≤2.0λ また、その回折素子を用いた高い光利用効率を有しかつ安価な光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁
At least either the element of impurities contained in the first high diffraction index region 214 and the second high diffraction index region 264 or the concentration distribution thereof is different between the first high diffraction index region 214 and the second high diffraction index region 264. 第1高屈折率領域214と、第2高屈折率領域264とは、それぞれに含まれる不純物の元素及び濃度分布の少なくとも一方が異なる。 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING AND METHOD FOR USING THE SAME 回折格子および回折格子の使用法 - 特許庁
The diffraction optical element 1 comprises the diffraction face having diffraction grooves 5 such that the diffraction image different at every wavelength is formed with respect to incident light having specified plural wavelengths. 回折光学素子1が、特定の複数の波長の入射光に対して各波長毎に異なる回折像が形成されるように回折溝5を有する回折面が構成されている。 - 特許庁
The converted diffraction signal is compared to the first simulated diffraction signal or a second simulated diffraction signal generated using the same profile model as the first simulated diffraction signal. この変換回折信号は、第1シミュレーション回折信号、又は第1シミュレーション回折信号と同一のプロファイルモデルを用いて生成した第2シミュレーション回折信号と比較する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING DIFFRACTION GRATING 回折格子製作方法および製作装置 - 特許庁
INFORMATION CREATING PATTERN BY OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE 光回折構造による情報生成パターン - 特許庁
A diffracted light of zeroth order L0 generated in the first VPH diffraction grating (transmission type VPH diffraction grating 2a) is incident on the second VPH diffraction grating (transmission type VPH diffraction grating 2b). 第1のVPH回折格子(透過型VPH回折格子2a)で生じる0次回折光L0を、第2のVPH回折格子(透過型VPH回折格子2b)に入射させる。 - 特許庁
SAMPLE REPLACING MACHINE AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE 試料交換機及びX線回折装置 - 特許庁
LAMELLA DIFFRACTION GRATING AND DESIGNING METHOD THEREFOR ラメラー型回折格子及びその設計方法 - 特許庁