An apparent doublerefraction is reduced by stretching the polymer in a direction for developing a negative orientation doublerefraction with respect to an intrinsic doublerefraction, and cancelling the intrinsic doublerefraction by the orientation doublerefraction. 固有複屈折に対し負の配向複屈折が発現する方向に延伸し、固有複屈折を配向複屈折で相殺させることにより見掛け上の複屈折を下げる。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF DOUBLEREFRACTION FILM 複屈折性フィルムの製造方法 - 特許庁
DOUBLEREFRACTION POLYIMIDE LAYER AND DOUBLEREFRACTION OPTICAL WAVE GUIDE USING THE SAME 複屈折性ポリイミド層およびそれを用いた複屈折性光導波路 - 特許庁
CaF2 LENS REDUCED IN DOUBLEREFRACTION 複屈折の減少したCaF2レンズ - 特許庁
DOUBLEREFRACTION PREDICTION SIMULATION SYSTEM AND PROGRAM 複屈折予測シミュレーションシステム及びプログラム - 特許庁
MEASUREMENT OF DOUBLEREFRACTION OF OPTICAL DISC SUBSTRATE 光ディスク基板の複屈折の測定法 - 特許庁
DOUBLEREFRACTION MEASURING INSTRUMENT, DOUBLEREFRACTION MEASURING METHOD, FILM PRODUCING SYSTEM AND FILM PRODUCING METHOD 複屈折測定装置、複屈折測定方法、フイルム生産システムおよびフイルム生産方法 - 特許庁
POLARIZED LIGHT SCRAMBLER AND DOUBLEREFRACTION MODULATOR 偏光スクランブラー及び複屈折変調器 - 特許庁
relating to or characterized by doublerefraction 複屈折に関係するか、特徴付けられる - 日本語WordNet
To specify wavelength dependency of a doublerefraction phase difference caused by doublerefraction dispersion and a principal axis direction under the doublerefraction dispersion, in a short time. 複屈折分散に起因する複屈折位相差の波長依存性や複屈折分散下での主軸方位を、短時間で特定すること。 - 特許庁
DOUBLEREFRACTION OPTICAL ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD 複屈折光学素子及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING MODE DOUBLEREFRACTION FACTOR OF OPTICAL FIBER 光ファイバのモード複屈折率の測定方法 - 特許庁
INSTRUMENT FOR MEASURING DOUBLEREFRACTION PHASE DIFFERENCE OF MATERIAL 材料の複屈折位相差を測定する装置 - 特許庁
DOUBLEREFRACTION MEASURING METHOD AND DEVICE 複屈折計測方法及び複屈折計測装置 - 特許庁
INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING DOUBLEREFRACTION 複屈折測定装置及び複屈折測定方法 - 特許庁
The doublerefraction filter 3 consists of three doublerefraction plates 10, 11 and 12 made of the same material. 複屈折フィルタ3は、ともに材料の同じ3枚の複屈折板10・11・12からなっている。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR EVALUATING DOUBLEREFRACTION 複屈折評価装置および複屈折評価方法 - 特許庁
METHOD OF MEASURING DOUBLEREFRACTION PLATE BY ELLIPTICALLY POLARIZED LIGHT INCIDENCE 楕円偏光入射による複屈折板の測定法 - 特許庁
To suppress doublerefraction in a pellicle plate. ペリクル板の複屈折を抑制することを目的とする。 - 特許庁
An organic doublerefraction membrane 18 is arranged on the adhesive 19 (b). その上に、有機複屈折膜18を配置する(b)。 - 特許庁
The doublerefraction measuring instrument is equipped with a means for removing the doublerefraction, based on the square of the measuring signal in doublerefraction wherein the weak doublerefraction proportional to a first power of the same is superimposed on the doublerefraction based on the square of the measuring signal and the conversion to physical quantity, such as, stresses or strains is performed using the doublerefraction proportional to the first power of the same to accurately perform measurements. 測定信号の2乗を基礎とした複屈折の上にその1乗に比例した微弱な複屈折が重畳している複屈折の内、該2乗を基礎とした複屈折を除去する手段を備え、1乗に比例した複屈折を用いて応力や歪みなどの物理量に変換して精度良く測定をおこなう。 - 特許庁
The doublerefraction film 72 functions as a 1/4 wavelength plate. 複屈折膜72は1/4波長板として機能する。 - 特許庁
DOUBLEREFRACTION MEASURING INSTRUMENT, METHOD FOR DETECTING AXIAL ORIENTATION OF DOUBLEREFRACTION SAMPLE AND METHOD FOR CALIBRATING THE INSTRUMENT 複屈折測定装置および複屈折試料の軸方位検出方法、複屈折測定装置のキャリブレーション方法。 - 特許庁
COMPENSATOR INCLUDING POSITIVE AND NEGATIVE DOUBLEREFRACTION RETARDATION FILMS 正および負の複屈折リタデーションフィルムを含む補償板 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin doublerefraction film, which includes a liquid crystal compound doublerefraction layer and another doublerefraction layer, employing a small number of processes. 液晶化合物製複屈折層と、別の複屈折層を含む複屈折性フィルムであって、より薄いフィルムを、より少ない工程で製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁
Also, the phase advancing axis of a doublerefraction element 53 nearest the display element 6 out of the multilayer doublerefraction element 5 and the orienting direction of liquid crystal are aligned, so that the doublerefraction element for the compensation of doublerefraction for the light in the oblique direction is dispensed with. また、多層複屈折素子5の内、表示素子6に最も近い複屈折素子53の進相軸と液晶の配向方向を合わせているので、斜めからの光に対する複屈折補償のための複屈折素子が不要となる。 - 特許庁
A doublerefraction filter 3 is provided on the light emitting side of an LCD. LCDの光出射側に複屈折フィルタ3を設ける。 - 特許庁
To provide a doublerefraction measuring device capable of measuring a doublerefraction characteristic of a measuring sample having a non-planar shape such as a lens. レンズ等の非平面形状の測定試料の複屈折特性を測定可能な複屈折測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a fluoroplastic film markedly lowered in doublerefraction. 複屈折が顕著に低下したフッ素樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁
INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING DOUBLEREFRACTION DISPERSION 複屈折分散計測装置および複屈折分散計測方法 - 特許庁
To reduce stress doublerefraction quantity and the anisotropy of stress doublerefraction in an optical system having crystalline optical members. 結晶性光学部材を有する光学系において応力複屈折量および応力複屈折の異方性を低減する。 - 特許庁
The anti-aliasing filter includes a polymeric double-refraction plate (DRP). アンチエイリアシングフィルタはポリマー性複屈折板(「DRP」)を含む。 - 特許庁
APPARATUS OF ESTIMATING DOUBLEREFRACTION OF OPTICAL DISK AND OPTICAL DISK DRIVE 光ディスクの複屈折量推定装置および光ディスクドライブ - 特許庁
To provide a doublerefraction prediction simulation system capable of calculating doublerefraction, including a principal axial direction of the doublerefraction based on a stress condition in a three-dimensional space obtained from a simulation result, and capable of predicting, evaluating and displaying accurately a condition of the doublerefraction. シミュレーション結果から得られた3次元空間での応力状態から複屈折の主軸方向を加味して複屈折を算出し、該複屈折の状態を正確に予測、評価及び表示することができる本複屈折予測シミュレーションシステムを提供する。 - 特許庁
The interleaver 1 consists of a doublerefraction material 31, a wavelength selective filter 51, a doublerefraction material 32, a wavelength selective filter 52, a Faraday rotor 81, and doublerefraction materials 33A and 33B. インターリーバ1は、複屈折材料31、波長選択フィルタ51、複屈折材料32、波長選択フィルタ52、ファラデー回転子81および複屈折材料33A,33Bから構成される。 - 特許庁
A doublerefraction layer is formed on a substrate and reactive ion etching is performed after a desired patterning is performed onto the doublerefraction layer to form a plurality of pits having different depth in the surface of the doublerefraction layer. 基板上に複屈折層を形成し、当該複屈折層に所望のパターニングをした後に反応性イオンエッチングを施すことによって複屈折層に深さの異なる複数のピットを形成する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING DOUBLEREFRACTION MEASURING DEVICE 複屈折測定器校正装置及び複屈折測定器校正方法 - 特許庁