「EXP」を含む例文一覧(103)
＜前へ 1 2 3 次へ＞- Arrhenius equation: K=exp(-Ea/R(1/T-1/To)) (wherein Ea is the activation energy; R is the gas constant; T is the temperature of the rubber; To is the kneading temperature; K is the degree of vulcanization).
Ｋ=ｅｘｐ（−Ｅａ／Ｒ（１／Ｔ−１／Ｔｏ））但し、Ｅａは活性化エネルギー、Ｒはガス定数、Ｔはゴム温度、Ｔｏは混練温度、Ｋは加硫度。 - 特許庁 - Wherein, formula 1 is η=α×exp(β/T), in which formula, η is viscosity (mPa s), T is an absolute temperature (K), α is a constant and β is a temperature coefficient.
式１ η＝α・ｅｘｐ（β／Ｔ）（式中、ηは粘度（ｍＰａ秒）、Ｔは絶対温度（Ｋ）、αは定数、βは温度係数を表す。） - 特許庁 - (%); (d) dry heat shrinkage factor = 0-3% and (e) thermal intermediate elongation ≤1.8×exp(5.5×K/10^5) (%).
（ｃ）中間伸度≦１．５×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％） （ｄ）乾熱収縮率＝０〜３％ （ｅ）熱時中間伸度≦１．８×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％）。 - 特許庁 - The electronic still camera 100 uses a drive dial 150 and a WB/EXP bracketing selection slide lever 160 to select a white balance bracketing mode.
電子スチルカメラ１００はドライブダイヤル１５０およびＷＢ／ＥＸＰブラケッティング選択スライドレバー１６０によってホワイトバランスブラケッティングモードを選択する。 - 特許庁 - This substrate treatment device 10 is provided with a treatment part 3 and an IF part 5, and the IF part 5 is adjacent to an exposure machine EXP separate from the device 10.
基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。 - 特許庁 - When the data length of an Exp-Golomb coded data does not exceed a bus bit length, the entire coded data are output to the bus at one time.
Ｅｘｐ−Ｇｏｌｏｍｂ符号化されたデータのデータ長がバスのビット長を超えない時は、符号化されたデータの全てを１回でバスに出力する。 - 特許庁 - When the exposure process for a semiconductor wafer 1W is carried out using the exposure light over wavelength of 200 nm EXP, a photomask MR on which a shielding light pattern 5 made by laminating a resist film 4a on a light absorbents organic film 3a with light absorbent for the exposure light EXP is placed, is used.
半導体ウエハ１Ｗに対して、波長が２００ｎｍを越える露光光ＥＸＰを用いて露光処理を行う際に、その露光光ＥＸＰに対して吸光性を有する吸光性有機膜３ａ上にレジスト膜４ａを積層してなる遮光パターン５が配置されたフォトマスクＭＲを用いる。 - 特許庁 - Calculated values T_1^cal(λ) and T_2^cal(λ) of respective transmittances of the two samples obtained by a theoretical expression are compared with the measured spectral transmittances T_1^exp(λ) and T_2^exp(λ), and the refractive index n and the attenuation coefficient k of the optical medium are derived so that the differences therebetween are sufficiently small.
理論式で得られた２つの試料のそれぞれの透過率の計算値Ｔ_１^ｃａｌ（λ）とＴ_２^ｃａｌ（λ）を、測定された分光透過率Ｔ_１^ｅｘｐ（λ）とＴ_２^ｅｘｐ（λ）と比較し、その差は充分小さくなるように、光学媒体の屈折率ｎと減衰係数ｋを導出する。 - 特許庁 - The relationship is as follows: cell count = exp(a×occupying area ratio+b)( wherein, (a) is a coefficient dependent on the kind of cultured cell and a culture vessel 3, and b is a coefficient dependent on culturing conditions ).
細胞数＝ｅｘｐ（ａ×占有面積率＋ｂ） ここで、ａは培養細胞の種類および培養容器３による係数、ｂは培養条件による係数である。 - 特許庁 - To realize Exp-Golomb coding, required for coding a syntax element in H. 264/AVC, at high speed with a small-scale integrated circuit.
Ｈ．２６４／ＡＶＣにおいてシンタックス要素を符号化するために必要となる、Ｅｘｐ−Ｇｏｌｏｍｂ符号化を、小規模な集積回路によって高速に実現する。 - 特許庁 - An emission treatment part 4 for treating an emission discharged from an exhaust port Exp of the engine E is connected to the masking part 33 by an exhaust pipe 37.
また、内燃機関Ｅの排気ポートＥｘｐから排出された排気を処理するための排気処理部４とマスキング部３３とは、排気管３７により接続されている。 - 特許庁 - The optical system OS1 for optical pickup apparatus is equipped with an expander lens EXP such that a coma aberration W2_CM (λms) as an off-axis characteristic when an objective OBJ and the expander lens EXP are combined is smaller than a coma aberration W1_CM (λms) as an off-axis characteristic of the objective lens OBJ alone.
光ピックアップ装置用光学系ＯＳ１においては、対物レンズＯＢＪ単体の軸外特性のコマ収差Ｗ１_ＣＭ（λｒｍｓ）に対して、この対物レンズＯＢＪとエキスパンダーレンズＥＸＰとを組み合わせた場合の軸外特性のコマ収差Ｗ２_ＣＭ（λｒｍｓ）が小さくなるようなエキスパンダーレンズＥＸＰを備えている。 - 特許庁 - In the expressions, B_1 is a film width in contact with the roller, α is contact angle, r is radius of the roller, R is radius of curvature, θ is a running time in liquid until the film separates from the roller and θ_1 is a running time in liquid until the film is brought into contact with the roller.
β＝Ｂ_１×α×ｒ／Ｒ ・・・・・・・・・（１） γ＝0.2055×Ｂ_１×{exp(−0.0273×θ_１)−exp(−0.0273×θ)}・・・（２）（式中、Ｂ_１はロールに接触するフィルム幅、αは接触角、ｒはロールの半径、Ｒはロールの曲率半径、θはフィルムがロールを離れるまでの液中の走行時間、θ_１はフィルムがロールに接触するまでの液中の走行時間を表す。） - 特許庁 - At desired heat-treatment temperature, a heat treatment is carried out for a time which is once to twice as long as a time stipulated by t_A=3.45×10^-5×exp(+4834/T).
所望する熱処理温度に対し、ｔ_Ａ＝３．４５×１０^−５×ｅｘｐ（＋４８３４／Ｔ）で規定される時間の１倍乃至２倍の間の時間をかけて熱処理を行なう。 - 特許庁 - When the behavior is the stored behavior, a corresponding experience proper value EXPN is read out, and is added to a value of a present experience value EXP, and this value is updated (Step S104).
記憶されている行動であった場合には、対応する経験固有値ＥＸＰＮを読み出して、現在の経験値ＥＸＰの値に加算してこれを更新する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁 - The diffusion of the impurity can be suppressed first by keeping a semiconductor wafer W at a preheating temperature Tp satisfying a relation of tp≤847,500 exp (-0.01365 Tp) for a preheating time tp.
まずｔｐ≦847500exp(-0.01365Ｔｐ)を満たすような予備加熱温度Ｔｐに半導体ウェハーＷを予備加熱時間ｔｐ維持することによって不純物の拡散を抑制することができる。 - 特許庁 - The magnification ratio f(d) is generally set as f(d)=exp((Ad^A)/(A+B(d^A-1)-C)), and can be set as f(d)=d^a in the case of the image of depth wherein d is 10 m or below.
拡大率ｆ（ｄ）は一般的には、ｆ（ｄ）＝ｅｘｐ（（Ａｄ^Ａ）／（Ａ＋Ｂ（ｄ^Ａ−１）−Ｃ）とし、ｄが１０ｍ以下となる奥行きの画像の場合ｆ（ｄ）＝ｄ^ａとしてもよい。 - 特許庁 - Each substrate can be controlled easily since the order OE of the substrates transported to the exposing machine EXP is in agreement with the order OA of the substrates loaded into the treating section 3.
また、露光機ＥＸＰに搬送する基板Ｗの順番ＯＥは、処理部３に搬入された基板Ｗの順番ＯＡと一致するので、各基板Ｗを容易に管理することができる。 - 特許庁 - A means 11c is provided to convert car speed information VS into standard data VD=2/[1+ exp{-(VS-αVD}/TT1]-1 by using constant αVD and TT1 as input data to the neural network.
ニューラル・ネットワークへの入力データとして、定数αＶＤ，ＴＴ１を用いて、車速情報ＶＳを規格データＶＤ＝２／［１＋ｅｘｐ｛−（ＶＳ−αＶＤ）｝／ＴＴ１］−１に変換する手段１１ｃを設ける。 - 特許庁 - The oxygen concentration in the silicon single crystal is regulated by correlating the temperature (T) and the ratio (β) with a function: 1/β×Exp(-E/T) using dissolution energy (E) of quartz to the silicon melt.
温度（Ｔ）と比（β）とを、石英のシリコン融液に対する溶解エネルギ（Ｅ）を用いた関数１／β×Ｅｘｐ（−E／T）として関連させることによって、シリコン単結晶中の酸素濃度を調整する。 - 特許庁 - A MPLS(multi-protocol label switching) capsuled header 100 contains, for example, a label region (Label: Label Value) 1-1, an experimental region (Exp: Experimental Use) 1-2, a stack region (S: Bottom of Stack) 1-3, and lifetime information (TTL: Time to Live) 1-4.
ＭＰＬＳカプセル化ヘッダ１００は、例えば、ラベル領域（Label：Label Value）１−１、実験用領域（Ｅｘｐ：Experimental Use）１−２、スタック領域（Ｓ：Bottom of Stack）１−３及び生存時間情報（ＴＴＬ：Time toLive）１−４を含む。 - 特許庁 - Thus, the experience proper value EXPN is determined every time when the player character operated by the player acts in a behavior unit stored in the table, and the experience value EXP is added.
したがって、プレイヤにより操作されるプレイヤキャラクタが、テーブルに記憶されている行動単位で行動する毎に経験固有値ＥＸＰＮが決定されて、経験値ＥＸＰが加算されていく。 - 特許庁 - This circuit is provided with a memory 10 provided with an additional memory cell for storing defective data bit information on a memory cell, a comparing circuit 20 comparing output data DATO of the memory 10 with its expected value EXP for each data bit, and a BIST circuit 30 generating a required and sufficient test input pattern for detecting the defect of memory cells constituting the memory 10 and the expected value EXP and controlling test sequence.
メモリセルの不良データビット情報を格納するための付加メモリセルを備えたメモリ１０と、そのメモリ１０の出力データＤＡＴＯとその期待値ＥＸＰをデータビットごとに比較する比較回路２０と、そのメモリ１０を構成するメモリセルの不良を検出するために必要十分なテスト入力パターンおよび上記期待値ＥＸＰを発生しテストシーケンスをコントロールするＢＩＳＴ回路３０とを備えた。 - 特許庁 - If "No Control" is selected in a DOM (domestic) machine, "Overseas Type A" is set on the engine, and if "No Control" is selected in an EXP (overseas) machine, "Domestic Type" is set on the engine.
ＤＯＭ（国内向け）機で「管理しない」を選択された場合には、エンジンに対し「海外タイプＡ」を設定し、ＥＸＰ（国外向け）機で「管理しない」を選択された場合には、エンジンに対し「国内タイプ」を設定するようにする。 - 特許庁 - Thereafter, in order to satisfy the condition of 1-exp(-ε×(750÷Tp)^-10)>0.8 with Tp as the preliminary working temperature and ε as the mean strain during the preliminary working, Tp and ε are set, and the preliminary working is performed.
その後、予備加工温度をＴｐ、予備加工時の平均歪をεとして、１−ｅｘｐ（−ε×（７５０÷Ｔｐ）^−１０）＞０．８の条件を満たすようにＴｐ及びεを設定して予備加工を実施する。 - 特許庁 - When a flow-in side end part of the scroll casing is set as θ=0°, and a distance between a center part of the through flow impeller and the flow-in side end part is set as fly the scroll casing is formed in a shape which is represented by a formula r=r0×exp (nL×θ).
スクロールケーシングを、スクロールケーシングの流入側端部をθ＝０°とし、貫流羽根車の中心と流入側端部の距離をｒ_0とした時に、式ｒ＝ｒ_0×ｅｘｐ（ｎ_L×θ）によって表せる形状とした。 - 特許庁 - By using an expander optical system EXP and a single piezoelectric actuator PZ formed into a unit, a lens L2 held by a lens holder HD2 is moved with a large amount of travel, or with a small amount of travel.
エキスパンダー光学系ＥＸＰとユニット化された単一の圧電アクチュエータＰＺを用いることで、レンズホルダＨＤ２に保持したレンズＬ２を大きな移動量で移動させることもでき、或いは小さな移動量で移動させることもできる。 - 特許庁 - Then, the cold-iron source is worked so that a typical length L satisfies the formula L=exp(A×√T) and A=0.10C+0.30 according to the molten iron receiving time T and carbon content C (mass%) contained in the cold-iron source.
ここで，冷鉄源は，代表長さＬが，受銑時間Ｔおよび冷鉄源中に含まれる炭素濃度Ｃ（質量％）に応じて式Ｌ＝ｅｘｐ（Ａ×√Ｔ）およびＡ＝０．１０Ｃ＋０．３０を満たすように加工される。 - 特許庁 - Thus, an emission discharged from the exhaust port Exp, flows within the treatment device 1 in the order of an inlet port 33a, the masking part 33, the exhaust pipe 37, and the treatment part 4, and is treated in the treatment part 4.
これにより、排気ポートＥｘｐから排出された排気は、導入ポート３３ａ−マスキング部３３−排気管３７−排気処理部４の順に排気処理装置１内を流通して、排気処理部４において処理される。 - 特許庁 - The apparatus can suppress variations in total quality including the treatment on the substrate treatment lines L and exposure by the exposure machine EXP among a plurality of substrates W being subjected to the same type of treatment in the same substrate treating line L.
これにより、同じ基板処理列Ｌで同種の処理が行われる複数の基板Ｗ間において、基板処理列Ｌにおける処理と露光機ＥＸＰにおける露光とを含んだ全体の処理品質がばらつくことを抑制することができる。 - 特許庁 - μc=μ×exp(n×(C_c/C-1))...(1) (In the expression, n represents a thickening coefficient, C represents a solute concentration (wt.%) before concentration, C_c represents a solute concentration (wt.%) after concentration, μ represents a viscosity (cP) before concentration, and μ_c represents a viscosity (cP) after concentration.)
μc＝μ×ｅｘｐ（ｎ×（Ｃ_c／Ｃ−１）） （１）（式中、ｎは増粘係数、 Ｃは濃縮前の溶質濃度（重量％）、 Ｃ_cは濃縮後の溶質濃度（重量％）、 μは濃縮前の粘度（ｃＰ）、 μ_cは濃縮後の粘度（ｃＰ）、 を表す。） - 特許庁 - The obtained maximum luminance (Lm) is used to calculate a maximum use time (Ts) which is a use time up to when the maximum luminance of the back light 113 of the LCD panel 133 reaches the limit luminance (Lt) from a Lehmann's expression of maximum luminance (Lm)=Lm(0)(exp(-√(t/τ))).
得られた最大輝度（Ｌｍ）を用いて、レーマンの式：最大輝度（Ｌｍ）＝Ｌｍ（０）（ｅｘｐ（−√（ｔ／τ）））に基づいて、ＬＣＤパネル１３３のバックライト１１３の最大輝度が限界輝度（Ｌｔ）となるまでの使用時間である最大使用時間（Ｔｓ）を算出する。 - 特許庁 - In the substrate treatment apparatus, a prescribed time RT is determined, which is a time from a time when a interface block 5 receives a substrate W after exposure from an exposure unit EXP to a time when one of heating sections PHP7-PHP12 starts heat treatment to the substrate W after exposure.
露光ユニットＥＸＰからインターフェイスブロック５が露光後の基板Ｗを受け取った時点から加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかにて当該基板Ｗの露光後加熱処理を開始するまでの規定時間ＲＴを決定する。 - 特許庁 - (N) duplications of an observed FID signal are formed while the processing defined by numerical formulae exp(-t/τ') and τ'(i)=τ_0+Δi is applied to the duplicated FID signal data and spectrum processing is performed with respect to all of the duplicated FID signals.
本発明では観測したＦＩＤ信号のＮ個の複製を作成し、複製ＦＩＤ信号データに対して数式ｅｘｐ（−ｔ／τ’）、τ’（ｉ）＝τ_０＋Δｉで定義される処理を行い、すべての複製ＦＩＤ信号に対するスペクトル処理を行う。 - 特許庁 - A substrate W where resist films are formed is placed on a substrate placement part PASS9, and then is passed to a sending substrate placement part SPASS by a delivery robot BR on an interface block 5, further being sent out to an exposure unit EXP by a sending transfer robot SBR.
レジスト膜が形成された基板Ｗは基板載置部ＰＡＳＳ９に載置された後、インターフェイスブロック５の受渡ロボットＢＲによって送り基板載置部ＳＰＡＳＳに渡され、さらに送り搬送ロボットＳＢＲによって露光ユニットＥＸＰに送り出される。 - 特許庁 - Further, exhaust air properties and spatial velocity SV are obtained from the various operating statuses, and the amount m of accumulated PM after elapse of the minimal time period Δt is estimated from an equation for estimating the amount of accumulated PM: m=m×exp(-B×Δt) derived in consideration of determined exhaust air property and spatial velocity SV (S4).
また、各種運転状態より排気性状及び空間速度ＳＶを求め、これを考慮して導き出したＰＭ堆積量推定式「ｍ＝ｍ・ｅｘｐ（−Ｂ・Δｔ）」から微小時間Δｔ経過後のＰＭ堆積量ｍを推定する（Ｓ４）。 - 特許庁 - In the testing device, each of a plurality of modules mod_pin includes an expected value comparison part 20 for comparing diagnosis data RDATA_pin, showing a diagnosis result with corresponding expected value data EXP, and outputs comparison determination data CDATA_pin, showing a comparison result by the expected value comparison part 20.
複数のモジュールｍｏｄ＿ｐｉｎはそれぞれ、その診断結果を示す診断データＲＤＡＴＡ＿ｐｉｎをそれと対応する期待値データＥＸＰと比較する期待値比較部２０を含み、期待値比較部２０による比較結果を示す比較判定データＣＤＡＴＡ＿ｐｉｎを出力する。 - 特許庁 - A signal processing section 30 compares the output code D_OUT captured on each step with a corresponding expected code EXP, corrects the value of the analog voltage V_IN on each step in accordance with the result of comparison, and causes the voltage generation section 10 to output the corrected analog voltage V_IN.
信号処理部３０は、各階調においてキャプチャされた出力コードＤ_ＯＵＴを対応する期待値コードＥＸＰと比較し、比較結果に応じて各階調のアナログ電圧Ｖ_ＩＮの値を補正し、電圧生成部１０に補正後のアナログ電圧Ｖ_ＩＮを出力させる。 - 特許庁 - When the substrate W reaches one of the heating sections PHP7-PHP12, a conveyance time required from the reception of the substrate W from the exposure unit EXP to the arrival of the substrate W at the heating sections PHP7-PHP12 is subtracted from the prescribed time RT to calculate a standby time.
加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに基板Ｗが到達したときに、その基板Ｗを露光ユニットＥＸＰから受け取った時点から該基板Ｗが加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２に到達するまでに要した搬送時間を規定時間ＲＴから減じて待機時間を算定する。 - 特許庁 - The network processor which actualizes a neural network by using the look-up table (12) performing output regarding a radial base function deforms the radial base function, inputs xK-ajK (K=1, 2...) to the look-up table (12), and holds a value exp(-bjuK2) in the look-up table (12).
動径基底関数に係る出力をするルックアップテーブル（１２）を用いてニューラルネットワークを実現するネットワーク用プロセッサにおいて、前記動径基底関数を変形して、ｘ_K−ａ_jK（K＝1,2,…）を前記ルックアップテーブル（１２）の入力とし、ｅｘｐ（−ｂ_jｕ_K^2）の値を前記ルックアップテーブル（１２）に保持させる。 - 特許庁 - An optimum clock among a plurality of clocks obtained by delaying the reference clock CLK with various amounts of delay different from one another is supplied to the F/F group 1 just after an input pin in accordance with the amount of delay to the reference clock CLK of the clock EXP-CLK inputted from the LSI of the preceding stage.
前段のＬＳＩから入力されたクロックＥＸＰ−ＣＬＫの基準クロックＣＬＫに対する遅延量に応じて、基準クロックＣＬＫを互いに異なる遅延量で遅延させた複数のクロックのうち最適なクロックが入力ピン直後のＦ／Ｆ群１に供給される。 - 特許庁 - The Fig (B) enables proper driving using a driving method of Fig (A) in which a voltage Vo is applied to a virtual driving terminal inside the driving circuit 11 by parameters A and T inherent for the cable to turn a voltage of a terminal (c) into Vo*[1-A*exp(-T*t/((T*Ro+R)*C))].
図１１（Ｂ）は、ケーブル固有のパラメータＡとＴにより、駆動回路１１の内部にある仮想駆動端に電圧Ｖｏを加えて終端ｃの電圧をＶｏ＊［１−Ａ＊ｅｘｐ（−Ｔ＊ｔ／（（Ｔ＊Ｒｏ＋Ｒ）＊Ｃ））］にする図１１（Ａ）に示す駆動方法により適正駆動が可能である。 - 特許庁 - A target valve overlap quantity OVP is acquired on the basis of an engine rotational speed NE and a load factor L of the internal combustion engine, and a target displacement angle EXP of an exhaust side cam shaft is calculated on the basis of the target valve overlap quantity OVP and an actual displacement angle INR of an intake side cam shaft.
内燃機関の機関回転速度ＮＥと負荷率Ｌに基づいて目標バルブオーバラップ量ＯＶＰを求め、この目標バルブオーバラップ量ＯＶＰ及び吸気側カムシャフトの実変位角ＩＮＲに基づいて排気側カムシャフトの目標変位角ＥＸＰを算出する。 - 特許庁 - In an exposure unit EXP dealing with liquid-immersion exposure; a cleaning substrate CW used for cleaning operation of a substrate stage, and a dummy substrate DW used for performing adjustment of an exposure position of a pattern image, are previously held in a dummy substrate storage 91 of a substrate processing apparatus SP, and a cleaning substrate storage 92, respectively.
液浸露光対応の露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業に使用するクリーニング基板ＣＷおよびパターン像の露光位置の調整を行うときに使用するダミー基板ＤＷをそれぞれ基板処理装置ＳＰのダミー基板格納部９１およびクリーニング基板格納部９２に保持しておく。 - 特許庁 - This relay optical system is constituted of a first group G1 having negative refracting power and a second group G2 having positive refracting power orderly arranged from an inter-mediate image formation position I to a light exit side, and a distance from the last lens surface of the second group G2 to an exit pupil position EXP is selected to be ≥30 mm.
中間結像位置Ｉから射出側へ順に配置された、負の屈折力を有する第１群Ｇ１と、正の屈折力を有する第２群Ｇ２とから構成されていて、第２群Ｇ２の最終レンズ面から射出瞳位置ＥＸＰまでの距離が３０ｍｍ以上になるように選定されている。 - 特許庁 - This optical system OS1 for optical pickup apparatus which is thus constituted can suppress an increase in coma aberration of a light convergence spot resulting of incidence of oblique luminous flux on the objective OBJ when a 1st lens group L1 of the expander lens EXP has an eccentricity error to the objective OBJ.
このように光ピックアップ装置用光学系ＯＳ１を構成すると、エキスパンダーレンズＥＸＰの第１レンズ群Ｌ１が対物レンズＯＢＪに対して偏芯誤差を持った場合に、対物レンズＯＢＪに対して斜め光束が入射することにより発生する集光スポットのコマ収差の増大を抑制できる。 - 特許庁 - This system is composed of a 1st group G1 with negative refracting power and 2nd group G2 with positive refracting power which are arranged in order from an intermediate imaging position I to an projection side and the distance from the final lens surface r8 of the 2nd group G2 to an exit pupil position EXP is set to 30 to 90 mm.
中間結像位置Ｉから射出側へ順に配置された、負の屈折力を有する第１群Ｇ１と、正の屈折力を有する第２群Ｇ２とから構成されていて、第２群Ｇ２の最終レンズ面ｒ８から射出瞳位置ＥＸＰまでの距離が３０ｍｍ〜９０ｍｍに選定されている。 - 特許庁 - On the other hand, the substrate W on which pattern exposure processing is carried out by the exposure unit EXP is received by a return transfer robot RBR to be placed on a return substrate placement part RPASS, and then is transferred by a transfer robot TR4 to any one of PHP 7 through PHP 12 that perform post-exposure baking process.
一方、露光ユニットＥＸＰにてパターン露光の施された基板Ｗは戻り搬送ロボットＲＢＲによって受け取られて戻り基板載置部ＲＰＡＳＳに載置された後、搬送ロボットＴＲ４によって露光後加熱処理を行う加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに搬送される。 - 特許庁 - A substrate processor keeps a stage cleaning substrate CW to be used in cleaning a substrate stage and a dummy substrate DW to be used in adjusting an exposure position of a pattern image in an exposure unit EXP supporting liquid immersion exposure respectively, in a dummy substrate storage 91 and a cleaning substrate storage part 92 of the substrate processor SP.
液浸露光対応の露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業に使用するステージ洗浄用基板ＣＷおよびパターン像の露光位置の調整を行うときに使用するダミー基板ＤＷをそれぞれ基板処理装置ＳＰのダミー基板格納部９１および洗浄用基板格納部９２に保持しておく。 - 特許庁 - When refractive index change caused by temperature change is generated in the objective optical element OL in which a first light flux for the BD or a second light flux for the DVD is made incident, generated spherical aberration can be compensated by moving a lens L1 of a beam expander EXP to be a temperature compensation element to an optical axis direction by an actuator AC2 according to the refractive index change.
ＢＤ用の第１光束又はＤＶＤ用の第２光束を入射した対物光学素子ＯＬに、温度変化に起因して屈折率変化が生じた場合、それに応じて温度補正素子であるビームエキスパンダＥＸＰのレンズＬ１をアクチュエータＡＣ２により光軸方向に移動させことで、発生する球面収差を補正することができる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
