「Electromigration」を含む例文一覧(253)
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エレクトロマイグレーション評価回路 - 特許庁 - WIRING FOR ELECTROMIGRATION EVALUATION
エレクトロマイグレーション評価用配線 - 特許庁 - TEG FOR ELECTROMIGRATION EVALUATION
エレクトロマイグレ—ション評価用ＴＥＧ - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE FOR ELECTROMIGRATION TEST
エレクトロマイグレーション試験用半導体素子 - 特許庁 - STRUCTURE AND METHOD FOR REDUCING ELECTROMIGRATION
エレクトロマイグレーションを減す構造及び方法 - 特許庁 - ELECTROMIGRATION RESISTANCE EVALUATION METHOD OF WIRING
配線のエレクトロマイグレーション耐性評価方法 - 特許庁 - ELECTROMIGRATION EVALUATION CIRCUIT AND METHOD THEREFOR
エレクトロマイグレーション評価回路及び評価方法 - 特許庁 - ELECTROMIGRATION EVALUATION APPARATUS AND EVALUATION METHOD THEREOF
エレクトロマイグレーション評価装置及びその評価方法 - 特許庁 - To improve electromigration characteristics of Cu wiring.
Ｃｕ配線のエレクトロマイグレーション特性を向上する。 - 特許庁 - ELECTROMIGRATION VERIFICATION DEVICE, ELECTROMIGRATION VERIFICATION METHOD, AND DATA STRUCTURE AND NETLIST USED THEREFOR
エレクトロマイグレーション検証装置、エレクトロマイグレーション検証方法、これに用いられるデータ構造およびネットリスト - 特許庁 - To improve resistance to electromigration in copper (Cu) wiring.
Ｃｕ配線のエレクトロマイグレーション耐性を向上させる。 - 特許庁 - To improve electromigration resistance of a copper electric conductor.
銅の導電体の耐エレクトロマイグレーション特性を改善する。 - 特許庁 - IMPROVED ADHESIVENESS TO COPPER AND COPPER ELECTROMIGRATION RESISTANCE
銅への改善された接着性および銅エレクトロマイグレーション耐性 - 特許庁 - METHOD OF INCREASING ELECTROMIGRATION LIFETIME IN METAL INTERCONNECT
金属インタ—コネクトでのエレクトロマイグレ—ション寿命を増加させる方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF COLOR TRANSFORMATION LIGHT-EMITTING SUBSTANCE EQUIPMENT USING ELECTROMIGRATION
電気泳動を用いた色変換発光体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR EVALUATING ELECTROMIGRATION OF METAL WIRING
金属配線のエレクトロマイグレーション評価方法及び評価装置 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which suppresses electromigration.
エレクトロマイグレーションの抑制が図られた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To improve resistance to electromigration in a wiring using copper.
銅を用いた配線におけるエレクトロマイグレーション耐性を向上させる。 - 特許庁 - The liner-to-liner contact impedes abrupt electromigration failures and enhances electromigration resistance of the metal interconnect structure.
ライナ・ライナ間接触は、急激なエレクトロマイグレーションによる故障を抑制し、金属相互接続構造体のエレクトロマイグレーション耐性を強化する。 - 特許庁 - MICROSTRUCTURE HAVING ELECTROMIGRATION RESISTANCE AND MANUFACTURE THEREOF
エレクトロマイグレ—ション抵抗力を有する微細構造及びその製造方法 - 特許庁 - Further, breakage or burnout due to the electromigration can be prevented.
また、エレクトロマイグレーションに起因する破損や断線等を防止することができる。 - 特許庁 - To provide an interconnection with an improved electromigration life.
改善されたエレクトロマイグレーション寿命を有する相互接続部を提供する。 - 特許庁 - Thus, the electromigration of the heat conductive layer 21 can be suppressed.
これにより前記発熱導体層２１のエレクトロマイグレーションを抑制できる。 - 特許庁 - To provide an electromigration evaluation device that allows simple and efficient electromigration reliability testing of a via in an LSI to be performed.
ＬＳＩにおけるビアのエレクトロマイグレーション信頼性試験を簡単にかつ効率的に行なうエレクトロマイグレーション評価装置を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁 - Restrictions on the driving capability of a standard cell by electromigration are lifted thereby.
従って、エレクトロマイグレーションによるスタンダードセルの駆動能力の制限がなくなる。 - 特許庁 - To provide an electromigration verification device capable of improving verification accuracy.
検証精度を高めることのできるエレクトロマイグレーション検証装置を提供する。 - 特許庁 - To suppress electromigration of a Cu ion from copper wiring to an insulating film.
銅配線から絶縁膜へのＣｕイオンの電界拡散を抑制させること。 - 特許庁 - To provide an electromigration evaluation circuit and a method, wherein an acceleration time is shortened and an evaluation of high accuracy can be performed.
加速時間を短縮すると共に高精度の評価を可能とする。 - 特許庁 - To obtain an interconnection part for an integrated circuit with improved electromigration characteristics.
エレクトロマイグレーション特性を向上させた集積回路のための相互接続部を得る。 - 特許庁 - To reduce wiring width, while effectively controlling electromigration.
エレクトロマイグレーションを効果的に抑制しつつ配線幅を従来に比べて縮小する。 - 特許庁 - SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUS FOR PREVENTING ELECTROMIGRATION BETWEEN PLASMA GUN ELECTRODES
プラズマ銃電極間のエレクトロマイグレーションを防止するためのシステム、方法、および装置 - 特許庁 - To provide a semiconductor device which can prevent the resistance to the electromigration from deteriorating.
エレクトロマイグレーションの耐性が劣化することを防止可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device having excellent electromigration (EM) resistance.
エレクトロマイグレーション（ＥＭ）耐性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR ELECTROMIGRATION VERIFICATION OF CHIP INCLUDING DATA PATH, AND RECORDING MEDIUM
データパスを含んだチップのエレクトロマイグレーション検証方法及び装置並びに記録媒体 - 特許庁 - To provide a semiconductor device that is improved in tolerance to electromigration, and also to provide its manufacturing method.
エレクトロマイグレーション耐性を向上させた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, short circuit caused by the electromigration between the wirings 8 can be prevented.
これにより、配線８相互間のエレクトロマイグレーションに起因するショートを防止することができる。 - 特許庁 - To provide a wiring structure superior resistance to electromigration and can elongate the service life of wiring.
エレクトロマイグレーション耐性に優れ、配線寿命の増大を図り得る配線構造を提供する。 - 特許庁 - The divided Al wirings have a length L which is smaller than the critical length of electromigration.
分断されたＡｌ合金配線の長さＬが、エレクトロマイグレーションの臨界長以下になっている。 - 特許庁 - ELECTROMIGRATION EVALUATING DEVICE AND METHOD OF EVALUATING RELIABILITY OF WIRING OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
エレクトロマイグレーション評価装置およびそれを用いた半導体装置の配線信頼性評価方法 - 特許庁 - Thereby, the short circuits due to the electromigration between the wirings 8 can be prevented.
これにより、配線８相互間のエレクトロマイグレーションに起因するショートを防止することができる。 - 特許庁 - Consequently, the electromigration tolerance and the stress migration tolerance of the Cu wiring can be improved.
これにより、Ｃｕ配線のエレクトロマイグレーション、ストレスマイグレーション耐性を向上することができる。 - 特許庁 - To enable a multilayer wiring structure with improved resistance to electromigration and further made small in size.
多層配線構造において、エレクトロマイグレーション耐性の向上及びより一層の微細化を図る。 - 特許庁 - To provide systems, methods, and apparatus for preventing electromigration between plasma gun electrodes.
プラズマ銃電極間のエレクトロマイグレーションを防止するためのシステム、方法、および装置の提供。 - 特許庁 - To provide a reliable semiconductor device that has buried wiring with superior electromigration resistance.
エレクトロマイグレーション耐性に優れた埋め込み配線を有する信頼性の高い半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sputtering target having excellent oxidation resistance, corrosion resistance, electromigration resistance and stress migration resistance.
耐酸化性、耐腐食性、耐エレクトロマイグレーション性、耐ストレスマイグレーション性に優れたスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - To lift restrictions on the driving capability of a standard cell by electromigration in a semiconductor integrated circuit.
半導体集積回路において、エレクトロマイグレーションによるスタンダードセルの駆動能力の制限をなくす。 - 特許庁 - TAILORING OF WETTING/BARRIER LAYER TO REDUCE ELECTROMIGRATION IN ALUMINUM INTER-ELEMENT CONNECTION
アルミニウム素子間配線におけるエレクトロマイグレーションを減少させるためのウエッティング／バリヤー・レイヤーの適合方法。 - 特許庁 - To manufacture a semiconductor device having a practically sufficient operating speed and electromigration resistance.
実用上十分な動作速度およびエレクトロマイグレーション耐性を有する半導体装置を製造する。 - 特許庁 - The crystal of the wiring layer 15 is predominantly oriented in a (111) orientation, in which electromigration hardly occurs.
また、配線層１５の結晶配向は、エレクトロマイグレーションの起こりにくい（１１１）配向が支配的である。 - 特許庁 - To enable arrangement and wiring of a clock tree, to ensure the EM(electromigration) tolerance without changing the wiring width.
配線幅を変えることなくＥＭ耐性が保証できるクロックツリーの配置配線を可能とする。 - 特許庁
- 特許庁
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