「Films」を含む例文一覧(13275)

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  • The fuel cell separator comprises: a stainless steel substrate 11 having recesses 11a, 11b and projections 11c, 11d formed by electrolytic etching; nickel build-up parts 18 formed on surfaces 11e, 11f of the projections 11c, 11d; and gold films 21 formed on the exposed surfaces of the stainless substrate 11 and the nickel build-up parts 18.
    燃料電池セパレータは、電解エッチングによって凹部１１ａ，１１ｂ及び凸部１１ｃ，１１ｄが形成されたステンレス基材１１と、その凸部１１ｃ，１１ｄの頂面１１ｅ，１１ｆに積層されたニッケル肉盛部１８と、ステンレス基材１１及びニッケル肉盛部１８の露出面に形成された金皮膜２１とを備えている。 - 特許庁
  • To provide an optical display device manufacturing system and manufacturing method for bonding, using two material rolls having the same anisotropy of an absorption axis or other axis oriented in the same direction, optical films to both surfaces of an optical display unit so that the optical anisotropies are orthogonal to each other, and to provide a material roll set and a method for manufacturing the material roll set.
    吸収軸等の光学異方性が同じ方向の２つのロール原反を使用して、光学異方性が直交するように光学フィルムを光学表示ユニットの両表面に貼り合わせることができる光学表示装置の製造システム及び製造方法、並びに、ロール原反セット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A working curve is created from relative relation between the obtained radiation dose and the intensity of fluorescence by irradiating the known dose that serves as a reference in another film of the same kind, and then radiation dose distribution in a large area under the radiation environment is measured, by comparing the working curve with the intensity of fluorescence of the films removed from the radiation environment.
    一方同種の別のフィルムで基準となる既知線量を照射して、得られた放射線線量と蛍光強度との相対関係から検量線を作成し、前記検量線と放射線環境から取り外したフィルムの蛍光強度を比較することにより、放射線環境下の大面積放射線線量分布を測定する。 - 特許庁
  • The IC card has a circuit board 101 which is made of a flexible sheet material and has a circuit pattern 102 formed, a card substrate which has the IC chip 103 connected through an insulating film sheet 100 on the top surface of the circuit board, and protection films 107 and 108 which are joined covering the top and reverse surfaces of the card substrate.
    可撓性のシート材料からなり、回路パターン１０２の形成された回路基板１０１と、前記回路基板表面に、前記絶縁性のフィルムシート１００を介して接続されたＩＣチップ１０３とを有するカード基板と、前記カード基板の表面及び裏面を覆うように接合せしめられた保護フィルム１０７，１０８とを備えている。 - 特許庁
  • The gate electrode of a second P-channel MOSFET (MP2) for cutting stand-by leakage currents is formed of a non-doped silicon film (non-doped silicon gate), and the gate electrodes of a first P-channel MOSFET (MP1) and an N-channel MOSFET (MN1) constituting an input amplifier are formed of impurity-doped silicon films.
    スタンバイ時のリーク電流カット用の第２のＰチャネル型ＭＯＳＦＥＴ（ＭＰ２）については、そのゲート電極を不純物をドープしないシリコン膜で形成し（ノンドープト・シリコンゲート）、入力アンプを構成する第１のＰチャネル型ＭＯＳＦＥＴ（ＭＰ１）及びＮチャネル型ＭＯＳＦＥＴ（ＭＮ１）については、不純物をドープしたシリコン膜で形成する。 - 特許庁
  • In the sealing ring 30 for crack stoppers, namely a laminated structure formed on a semiconductor substrate 11 outside the integrated circuit region 31, first, second, and third dummy metal layers 20, 21, 22 are laminated while sandwiching first, second, and third interlayer insulating films 12, 14, 16, respectively.
    クラックストッパ用シールリング３０は、集積回路領域３１の外の半導体基板１１上に形成された積層構造体であり、第１ダミー金属層２０、第２ダミー金属層２１、第３ダミー金属層２２が、それぞれ、第１層間絶縁膜１２、第２層間絶縁膜１４、第３層間絶縁膜１６を間に挟んで積層されている。 - 特許庁
  • A glass chop is contained in the building panel 1, a panel body 2 is constituted by burying a glass-chopped strand mat or a glass net etc. in a porous foaming cement solidifying object 3 having a large number of independent bubbles, and water resisting layers 5 are formed on both sides by laminating water resisting paper 6 coating synthetic resin films 7 on the surfaces with adhesives 8.
    建築用パネル１は、ガラスチョップを含有し、多数の独立気泡を有する多孔質の発泡セメント固化物３内にガラスチョップドストランドマット又はガラスネット等３を埋設してパネル本体２を構成し、その両面に、接着剤８により、表面に合成樹脂フィルム７がコートされた耐水紙６を積層して耐水層５を形成してある。 - 特許庁
  • An alignment control film 132 formed on a glass substrate 102 in an observer's side between a pair of alignment control films 131, 132 formed on a pair of substrates 101, 102 is made of a material prepared by adding a photo-isomerization compound to a photosensitive polymer, and the film shows absorption anisotropy over the entire visible wavelength range (about 400 to 750 nm).
    一対の基板１０１，１０２に形成された一対の配向制御膜１３１，１３２のうち、観察者側のガラス基板１０２に形成された配向制御膜１３２が、感光性高分子に光異性化化合物を添加した材料から構成され、可視波長域（約４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）全体に吸収異方性をもつ。 - 特許庁
  • The infrared ray shielding filter comprises: a light-transmissive substrate; an alternate multilayer film part made by alternately laminating a transparent infrared ray absorbing film and a dielectric film; and a dielectric multilayer film part which is disposed so as to adjoin to the alternate multilayer film part and is made by alternately laminating at least two or more kinds of dielectric films.
    透光性の基板と、透明な赤外線吸収膜と誘電体膜とが交互に積層されてなる交互多層膜部分と、この交互多層膜部分に隣接するようにして設けられた、少なくとも２種以上の誘電体膜が交互に積層してなる誘電体多層膜部分とから赤外線遮蔽フィルタを構成する。 - 特許庁
  • To provide a mulch film substitute for agriculture decomposable by microorganisms in soil at extremely high speed compared with mulch film for agriculture made of a biodegradable resin and effective for suppressing the increase of ground temperature and the germination of weed seeds comparable to the suppressing effect attained by mulch films for agriculture made of a synthetic resin, a method for producing the mulch film substitute and a production kit for the method.
    生分解性樹脂製の農業用マルチフィルムよりも遙かに迅速に土中の微生物によって分解されるとともに、合成樹脂製の農業用マルチフィルムと同等に地温の上昇抑制および雑草種子の発芽抑制の効果を有する農業用マルチフィルム代替物、その製造方法、及びその製造キットを提供する。 - 特許庁
  • The optical part 6 is provided with a wavelength selective film 2 which transmits the light beam of a first wavelength and also reflects the light beam of a second wavelength and a reflecting film 4 which reflects the light beam of the first wavelength, and both films are arranged at a prescribed interval so that the light beam of the first wavelength and the light beam of the second wavelength pass through the same path.
    光学部品６は、第一波長の光線を透過すると共に第二波長の光線を反射する波長選択性膜２と、第一波長の光線を反射する反射膜４とを有し、両膜は第一波長の光線と第二波長の光線が同じ経路を通るように所定の間隔を開けて配置されている。 - 特許庁
  • The method for forming a multi-layer coating film wherein the primer, intermediate, and top coating films are successively applied to a material having a rough surface texture or a material having a partially worsened surface texture caused by a molding process or the like, employes an active energy beam curable paint as a primer paint.
    表面形状の粗い素材、または成形加工等により部分的に表面形状が悪化した素材に対し、プライマー塗膜、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次形成する複層塗膜形成方法において、プライマー塗料として活性エネルギー線硬化型塗料を用いることを特徴とする複層塗膜形成方法。 - 特許庁
  • It is preferable that the protruded pattern is formed of two kinds of ultraviolet-curing films which are different in Martens' hardness and the interior of the protruded pattern is formed mainly of an ultraviolet-curing film whose Martens' hardness is soft and the exterior of the protruded pattern is formed mainly of an ultraviolet-curing film whose Martens' hardness is hard when the protruded pattern is viewed from the vertical section.
    また、凸模様がマルテンス硬さの異なる２種類の紫外線硬化膜により形成されており、凸模様を縦断面でみたときに、凸模様の内部は主にマルテンス硬さが柔らかい紫外線硬化膜で形成されており、また、凸模様の外部は主にマルテンス硬さが硬い紫外線硬化膜で形成されていることが好ましい。 - 特許庁
  • The traveling-wave optical modulator is equipped with a substrate 2 consisting of a ferroelectric electro-optic single crystal and having a pair of principal planes facing each other, optical waveguides 5A, 5B formed on one principal plane 2a of the substrate, and at least a pair of electrode films 6 to apply a voltage to modulate the light propagating in the optical waveguides.
    進行波形光変調器は、強誘電性の電気光学単結晶からなり、相対向する一対の主面を備えている基板２、基板の一方の主面２ａ側に形成されている光導波路５Ａ、５Ｂ、および光導波路中を伝搬する光を変調するための電圧を印加するための少なくとも一対の電極膜６を備える。 - 特許庁
  • To provide a vaporizing/supplying apparatus and a vaporizing/supplying method wherein in formation of ferroelectric films such as PZT, BST, SBT, and PLZT, vaporization is effectively achieved with one vaporizer without causing deterioration of each CVD stock material and adhesion of solid matter, and vaporized gas is supplied to a semiconductor manufacturing apparatus to ensure a high quality high purity semiconductor film.
    ＰＺＴ、ＢＳＴ、ＳＢＴ、ＰＬＺＴ等の強誘電体膜等の成膜において、各々のＣＶＤ原料の劣化や固形物の付着を起こすことなく１個の気化器で効率よく気化し、半導体製造装置へ供給して、高品質、高純度の半導体膜が得られる気化供給装置及び気化供給方法を提供する。 - 特許庁
  • In a probe card where a probe substrate 3 is disposed on a sub substrate 2 and the sub substrate 2 and the probe substrate 3 are electrically connected, electric plating background films 17, 18 formed on the probe substrate 3 are separated from each other, a bonding electrode 12 is formed on the background film 17, and a contact probe 11 is formed on the background film 18.
    サブ基板２上にプローブ基板３が配設され、サブ基板２及びプローブ基板３が電気的に接続されたプローブカードにおいて、プローブ基板３上に形成された電気めっき用の下地膜１７，１８が互いに分離され、下地膜１７上にボンディング電極１２が形成され、下地膜１８上にコンタクトプローブ１１が形成される。 - 特許庁
  • A position in the material roll before the optical films F11, F21 bonded to the optical display unit W are cut is specified based on the panel information corresponding to the optical display unit W of the optical display device determined by the inspection of an inspecting apparatus 30 that a defect exists, and the roll information coordinated to the panel information.
    検査装置３０の検査により欠点があると判断された光学表示装置の光学表示ユニットＷに対応するパネル情報と、当該パネル情報に対応付けられたロール情報とに基づいて、当該光学表示ユニットＷに貼り合せられている光学フィルムＦ１１，Ｆ２１が切断される前のロール原反における位置を特定する。 - 特許庁
  • A charge storage film 15 is formed on a semiconductor substrate 11, and a plurality of element isolation insulating films which extend in a memory string direction are formed at an upper-layer part of the semiconductor substrate 11 to part the electric charge storage film 15 in an electrode direction and also to section the upper-layer part of the semiconductor substrate 11 into a plurality of semiconductor parts 13.
    半導体基板１１上に電荷蓄積膜１５を形成し、半導体基板１１の上層部分にメモリストリング方向に延びる複数本の素子分離絶縁膜を形成することにより、電荷蓄積膜１５を電極方向に分断すると共に、半導体基板１１の上層部分を複数本の半導体部分１３に区画する。 - 特許庁
  • The forming method of the multi-layered mirror for the manufacture of a micro-cavity of a light emitting device comprises a process of forming the buffer layer on a transparent base plate of the light emitting device, and a process of forming the multi-layered mirror by sputtering a plurality of thin films having different refractive index from each other on the buffer layer.
    発光装置のマイクロキャビティ構造用の多層ミラーの形成方法であって、発光装置の透明基板上にバッファ層を形成する工程と、前記バッファ層上に異なる屈折率の複数の薄膜をスパッタリングし、多層ミラーとする工程とからなることを特徴とする上記方法、及びマイクロキャビティ構造用の多層ミラー。 - 特許庁
  • In a method of forming storage electrodes of a semiconductor device and also a method of forming a semiconductor, the composition and vapor-deposition conditions of each of a bit line hard mask nitride film and a bit line nitride film spacer are varied so that the two nitride films are formed to have different compositions and also to have different etching ratios.
    本発明は半導体素子の格納電極形成方法に関し、ビットラインハードマスク窒化膜と窒化膜スペーサそれぞれの成分と蒸着条件を変化させることにより、前記２つの窒化膜の組成が異なるよう形成され互いに異なる食刻比率を有するようにする半導体素子の形成方法に関するものである。 - 特許庁
  • In the case 1 for housing the game machine, the case 1 is formed with a combination of metal plate-like members and configured by providing detachably, on outer surfaces of the metal plate-like members 11, 31, 41 forming at least one plane of the case 1, protection panels 12, 13, 14 made of a synthetic resin or protection films for covering the outer surfaces.
    ゲーム機器を収容する筐体１において、該筐体１を金属製板状部材の組合せで形成すると共に、該筐体１の面の少なくとも一つを形成する前記金属製板状部材１１，３１，４１の外表面に、該外表面を覆う合成樹脂製の保護パネル１２，３１，４２又は保護膜体を着脱可能に設けて構成する。 - 特許庁
  • To obtain a tire lustering coating composition which imparts good luster to tires to give excellent external appearance and is reduced in the adhesion of dirt without surface tackiness and can form high quality films excellent in durability, adhesion and water resistance, and moreover, can protect the surfaces of tires for a long period of time to inhibit the occurrence of cracks.
    タイヤに良好な艶が付与されて優れた外観を与え、べとつかないで汚れの付着が少なく、耐久性、密着性、耐水性に優れた高品位の塗膜を形成し、しかも長期間タイヤ表面を保護してタイヤ表面の劣化を抑止し、クラックの発生を防止することができるタイヤ用艶出し塗料組成物を提供する。 - 特許庁
  • The chip resistor is equipped with an insulating board 11, the resistor 15 formed on the surface of the insulating board 11, a pair of electrodes 13 and 13 connected to the resistor 15, and a first protective film 17a and a second protective film 17b covering the resistor 15, and a metal film 16 is interposed between the protective films 17a and 17b.
    絶縁性基板１１と、該絶縁性基板の表面に形成された抵抗体１５及びこれに接続する一対の電極１３，１３と、抵抗体を被覆する第１の保護膜１７ａと第２の保護膜１７ｂと、を備えたチップ抵抗器であって、第１の保護膜１７ａと第２の保護膜１７ｂの間に金属膜１６を備えた。 - 特許庁
  • In the card having an embossing processed surface, the invention aims to materialize a card so as its protection layer dose not split using a film type protection layer, on a substrate, which comprises crystalline resin films such as biaxial stretching polyethylene terephthalate film as a protection layer and using a buffer coat between a card substrate and a film type protection layer at an area where embossing process is performed.
    エンボス加工を施してなるカードにおいて、基材上に保護層として二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの結晶性樹脂フィルムからなるフィルム状保護層を用い、エンボス加工を施してなる部分においてカード基材とフィルム状保護層の間に緩衝層を用いることにより保護層の割れなどのないカードとするものである。 - 特許庁
  • To obtain a pressure-sensitive adhesive composition for optical member surface protective films, meeting basic physical properties including pot-life, blister resistance, transparency and wettability, slight in the speed dependency of peel force, thus declining in no workability in high-speed peeling, and to prepare an optical member surface protective film coated with this adhesive composition.
    光学部材の表面保護フィルム用感圧接着剤組成物であって、ポットライフ、耐フクレ特性、透明性、濡れ性等の基本物性を満足し、かつ、剥離力の速度依存性が少なく、高速剥離において作業性が低下することがない感圧接着剤組成物 および該感圧接着剤組成物を塗布した表面保護フィルムを提供すること。 - 特許庁
  • A liquid crystal device 60 having a liquid crystal layer 50 sandwiched between a couple of substrates 10 and 20 is constituted by forming water-repellent layers 80 and 90 on surfaces of transparent electrodes 9 and 21 for applying an electric field to the liquid crystal layer 50 and organic alignment films 16 and 22 aligning liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 50 on surfaces of the water-repellent layers 80 and 90.
    一対の基板１０，２０により液晶層５０が挟持された液晶装置６０であって、液晶層５０に電界を印加する透明電極９，２１の表面に撥水層８０，９０を形成し、その撥水層８０，９０の表面に、液晶層５０の液晶分子を配向させる有機配向膜１６，２２を形成した。 - 特許庁
  • In the vacuum heat insulation material including the core material and the outer coating material 21 having gas barrier films 23a, 24a and having an inside of the outer coating material decompressed and sealed, the core material is composed of fiber polymer and/or foam made of plastic material and the outer coating material 21 is laminated film without metal foil composed of a plurality plastic film layers 22-25.
    芯材とガスバリヤ膜２３ａ，２４ａをもつ外被材２１とを有し、外被材内を減圧して密封した真空断熱材において、芯材は、プラスチック材料からなる繊維集合体および／または発泡体から構成され、外被材２１は、複数のプラスチックフィルム層２２〜２５からなる金属箔レスのラミネートフィルムであるもの。 - 特許庁
  • The hydrophobic treatment is such that the surfaces of the respective components are coated with resin containing fluorine, water- repellent films are applied to the surfaces of the respective components, or the surfaces of the respective components are coated with fluorocarbon-system water-repellent paint and, after the surfaces of the respective components are dried, fluorocarbon polymer layers are formed on the surfaces of the respective components by a heat treatment.
    この疎水処理は、各構成部品の表面にフッ素を含有する樹脂をコーティングし、各構成部品の表面にフッ素で終端処理された撥水フィルムを貼付しまたは各構成部品の表面にフロロカーボン系の撥水塗料を塗布し、乾燥させた後に熱処理をしてフロロカーボン系ポリマーを形成することによって行われる。 - 特許庁
  • In the semiconductor package device that chips 10 with a group of bonding pads mounted on one side on lead frames 11 and sealed with a resin 15; the lead frames 11 have a pair of inside lead groups 11a, 11b, and the chips 10 are mounted on the longer inside lead group 11b and hanging pins 11f through organic insulating films 12 of the back.
    たとえば、ボンディングパッド群が一辺に設けられたチップ１０をリードフレーム１１上に搭載し、樹脂１５で封止した半導体パッケージ装置において、リードフレーム１１は一対の内部リード群１１ａ，１１ｂを有し、チップ１０は裏面の有機系絶縁膜１２を介して、長い方の内部リード１１ｂ群および吊りピン部１１ｆ上に搭載されている。 - 特許庁
  • The silicon nitride film as the first layer is made to contain the Si-H group more to make it harder to desorb H_2 from the silicon nitride film and the CAP effect that the film density of the silicon nitride film as the second layer is increased to prevent H_2 from being discharged to the outside is increased to enhance H_2 passivation of the antireflection film of the silicon nitride films.
    第１の層の窒化シリコン膜のＳｉ−Ｈ基の含有の程度を高めることによってＨ_２が窒化シリコン膜から脱離し難くし、また、第２の層の窒化シリコン膜の膜密度を高くすることによってＨ_２の外部への放出を防ぐＣＡＰ効果を高めることによって、窒化シリコン膜の反射防止膜のＨ_２パッシベーションを高める。 - 特許庁
  • The higher performance of the logic circuits and their higher integration are achieved by forming cobalt-siliciding films 11 on the source/drain regions 7a and 7b for the transistors in logic-circuit regions in regions not coated with the USGs and the upper sections of the gate electrodes 4 by depositing cobalt on the whole surface of a wafer by a sputtering method and conducting a thermal treatment such as a lump annealing.
    コバルトをスパッタ法によりウエハ全面に成膜してランプアニール等の熱処理を行うことにより、ＵＳＧに覆われていない領域のロジック回路領域のトランジスタのソース／ドレイン領域７ａ、７ｂとゲート電極４上にコバルトシリサイド膜１１を形成することにより、ロジック回路の高性能化及び高集積化が可能となる。 - 特許庁
  • To provide surface protective films for a resin plate having sufficient initial adhesion to the surface of a resin plate, capable of readily being released from the surface of the resin plate even after heat treatment, reduced in the staining of the surface of the resin plate when released, showing good wetting characteristics, and simultaneously showing excellent shearing and cutting properties by a rotary saw blade.
    樹脂板表面に対する十分な初期粘着性を有し、加熱処理が施された後も樹脂板表面から容易に剥離し得るものであり、剥離後の樹脂板表面の汚染が少なく、良好な濡れを示し、且つ、優れたシャーリングや回転ノコ歯による切断性を示す樹脂板用表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁
  • The method for forming a lubricating film 15 used in warm forging includes: conducting the steps of forming a chemical conversion film and forming the lubricant film; and thereby forming a phosphated chemical-conversion film 11 which contains zinc phosphate or a refractory metal and zinc phosphate, and lubricant films 12 and 13 which contain a non-electrolyte component, on the surface of a material 1 to be forged.
    化成皮膜形成工程と潤滑剤皮膜形成工程とを行うことにより、被鍛造材１の表面に、リン酸亜鉛又は高融点金属とリン酸亜鉛とを含有するリン酸塩化成皮膜１１と非電解質成分を含有する潤滑剤皮膜１２、１３とから構成される温間鍛造潤滑膜１５を形成する方法である。 - 特許庁
  • To provide an adhesive composition for keypad elastic which greatly improves he adhesion between keypad elastic bodies and films and completely inhibits the generation of signals by the displacement of keypads when the keys are pressed, obscure signals or torsion of odd matters, and a process for bonding keypad elastic bodies using this.
    キーパッド弾性体と薄膜との貼り付けの密着性を大幅に向上でき、キーが押される場合にキーパッドの位置変位による信号を生じないことや信号が不明確になることや雑質が侵入することが一切生じないキーパッド弾性体接着剤組成物と当該組成物によるキーパッド弾性体接合方法を提供する。 - 特許庁
  • The nonvolatile memory device includes: a semiconductor substrate; columnar gate electrodes formed on the semiconductor substrate; source/drain diffusion layers formed nearby a surface of the semiconductor substrate; nitride films for charge storage, formed on side surfaces of the gate electrodes; and element isolation regions formed in the semiconductor substrate.
    本発明に係る不揮発性メモリ装置は、半導体基板と；前記半導体基板上に形成された柱状のゲート電極と；前記半導体基板の表面付近に形成されたソース／ドレイン拡散層と；前記ゲート電極の側面に形成された電荷蓄積用の窒化膜と；前記半導体基板に形成された素子分離領域とを備える。 - 特許庁
  • Consequently, the magnetic particulates covered with a first organic thin film, and the magnetic particulates covered with a second organic thin film, are mixed and covalently bonded to each other via the organic thin films and are further solidified and molded.
    本発明は、第１の反応性を備えた磁性微粒子と第２の反応性を備えた磁性微粒子を混合し鋳型に入れて加圧加温反応させることにより、第１の有機薄膜で被われた磁性微粒子と第２の有機薄膜で被われた磁性微粒子が混合されて互いに前記有機薄膜を介して共有結合して固化成形されている磁石を提供する。 - 特許庁
  • Next, his first color motion picture, 'Kaidan,' which was based on Yakumo KOIZUMI's novel and adapted to film in an omnibus style, was a huge film of three hours that created an unearthly fantasy world, received another Jury Special Prize from the Cannes International Film Festival, and was then nominated for the Academy Awards, Best Foreign Film, and highly praised as one of the best Japanese films ever.
    続いて小泉八雲の原作をオムニバス方式で映画化した初のカラー作品「怪談」は3時間の大作で、この世のものとは思えぬ幻想的な世界を作り上げ、二度目のカンヌ国際映画祭審査員特別賞を受けた他、アカデミー賞外国語映画賞にノミネートされ、日本映画史上屈指の名作と絶賛された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A capacitor lower electrode 110, multilayer dielectric films 112, 113 containing relatively more Ti component than Zr component on the upper part and a capacitor upper electrode 114 are successively formed on the first insulating film 106 on a semiconductor substrate 100 so as to form a capacitor.
    本発明は、キャパシタ及びその製造方法に関するものであり、半導体基板１００上に形成された第１絶縁膜１０６上にキャパシタ下部電極１１０、上部にＺｒ成分より相対的にＴｉ成分をより多く含む多層誘電膜１１２，１１３、そしてキャパシタ上部電極１１４が順に形成されてキャパシタが形成される。 - 特許庁
  • CIPRO' means the Companies and Intellectual Property Registration Office that constitutes a combined administrative office for the various registration offices established or deemed to be established under the Act, the Patents Act, 1978 (Act 57 of 1978), the Designs Act, 1993 (Act 195 of 1993), the Registration of Copyright in Cinematograph Films Act, 1977 (Act 62 of 1977), the Close Corporations Act, 1984 (Act 69 of 1984) and the Companies Act, 1973 (Act 61 of 1973);
    「CIPRO」とは，法，1978年特許法(1978年法57)，1993年意匠法(1993年法195)，1977年映画用フィルム著作権登録法(1977年法62)，1984年非公開会社法(1984年法69)及び1973年会社法(1973年法61)に基づいて設立された又は設立されたとみなされる諸登録庁のための総合行政庁を構成する会社及び知的所有権登録庁をいい， - 特許庁
  • In this magnetic sensor having a magnetoresistant pattern with the magnetoresistor thin films formed on a substrate, wherein the magnetoresistant pattern is constituted of an A-phase magnetoresistant pattern and a B-phase magnetoresistant pattern for outputting two signals different in phases by 90°, the magnetoresistant pattern is formed by combining the two substrates.
    磁気抵抗体薄膜が基板上に形成された磁気抵抗パターンを有し、この磁気抵抗パターンは、９０°位相の異なる２個の信号を出力するＡ相磁気抵抗パターンとＢ相磁気抵抗パターンとから構成される磁気センサにおいて、その磁気抵抗パターンは、２個の基板が組み合わされて形成されることを特徴とする。 - 特許庁
  • The first ITO film and the second ITO film are electrically connected by short-circuiting conductive films 5b formed along peripheral edges of the first translucent electrode pattern 11 and second translucent electrode pattern 12 to thus reduce the electrical resistance of the first translucent electrode pattern 11 and second translucent electrode pattern 12.
    第１のＩＴＯ膜と第２のＩＴＯ膜とは、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の外周縁に沿うように形成された短絡用導電膜５ｂで電気的に接続されているので、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の電気抵抗が低い。 - 特許庁
  • The ferroelectric memory is equipped with a plurality of capacitors 19 which are provided above a silicon substrate 1 comprising lower electrodes 13, ferroelectric films 14, and upper electrodes 15; and a poly silazane film 21 which is provided on the capacitors 19 and among a plurality of the capacitors 19, and in a gap between the capacitors 19 so as to fill it up.
    強誘電体メモリは、シリコン基板１の上方に設けられ、下部電極１３、強誘電体膜１４および上部電極１５を含む複数のキャパシタ１９と、複数のキャパシタ１９上および複数のキャパシタ１９間に設けられ、かつ、複数のキャパシタ１９間の隙間を埋め込む、ポリシラザン膜２１とを備えている。 - 特許庁
  • The photomask 100 has a mask pattern on one main surface of a transparent substrate, wherein the entire surface on the one main surface including the mask pattern and the entire surface of the other main surface opposite to the first main surface are covered with ion-impermeable thin films 104a, 104b, respectively, having a high transmittance for exposure light.
    透明基板の一方の主面側にマスクパターンを有するフォトマスク１００において、少なくとも前記マスクパターンを含む一方の主面側全面と前記一方の主面に相対する他方の主面側全面とが、露光光に対して透過率の高いイオン不透過性の薄膜１０４ａ、１０４ｂで覆われていることを特徴とする。 - 特許庁
  • When a pressure is applied upon one planar vibrating body in which an electrode film 12 for generating vibration, an electrode film 14 for detecting vibration, and a common electrode film 14 are integrated, a pressure sensor detects the vibrational characteristic of the vibration body at a prescribed frequency between the electrode films 12 and 14.
    振動発生用電極膜１２、振動検出用電極膜１３および共通電極膜１４を集積した一つの面状振動体に圧力が印加されると前記圧力に応じて変化する前記面状振動体の所定の周波数での振動特性を振動検出用電極膜１２と共通電極膜間１４で検出している。 - 特許庁
  • This makes the catalyst electrode composition material which is involved in the micelle deposited on the surfaces of the pair of the conductive substrates 4, allows thin films 6 to be formed on the surfaces of the pair of the conductive substrates 4 at the same time, and can improve the productivity of catalyst electrode 1 manufactured by the micelle electrolytic process.
    これにより、ミセルに内包されている触媒電極構成材料は一対の導電性基板４の表面に交互に堆積するため、一対の導電性基板４の表面に同時に薄膜６を形成することが可能になるので、ミセル電解法により作製される触媒電極１の生産性を向上させることができる。 - 特許庁
  • To provide a developer which is a chlorine-free organic solvent, causes slight swelling in development, dissolves both polyamide and cellulose protective films, is excellent in preservation stability at low temperature and is used in the formation of an image form a photosensitive elastomer composition with high environmental and hygienic safeties and a plate making method using the developer.
    非塩素系有機溶剤であり、現像時の膨潤が少なく、またポリアミド系、セルロース系両方の保護膜を溶解し、低温での保存安定性に優れ、さらに環境、衛生、保安上の安全性が高い感光性エラストマー組成物より画像を形成するときに用いられる現像剤と、それを用いた製版方法を提供する。 - 特許庁
  • The gate electrode GA of MOSQA for a peripheral circuit is constituted by the same gate electrode structure as a nonvolatile memory cell of a two-layer gate electrode structure, and a contact hole SC connecting between conductive films 4 and 6 which constitute the gate electrode GA is arranged in a position where it flatly overlaps an active area LA in the plane of the gate electrode GA.
    ２層ゲート電極構造の不揮発性メモリセルと同じゲート電極構造によって周辺回路用のＭＯＳＱＡのゲート電極ＧＡを構成し、そのゲート電極ＧＡを構成する導体膜４，６間を接続するコンタクトホールＳＣを、そのゲート電極ＧＡの平面内において活性領域ＬＡと平面的に重なる位置に配置した。 - 特許庁
  • To provide a selective shield characteristic film, as well as manufacturing method thereof, of good selective shield characteristic and industrial productivity by employing a specific means wherein a conductive layer such as a metal thin layer between two film layers is irradiated with laser beam so that a slit channel is formed with no damage on both films.
    ２つのフィルム層の層間にある金属薄層のような導電性層にレーザビームを照射して、両フィルムを損傷することなくスリット溝を形成するという特定の手段を講じることにより、良好な選択シールド性を有し、しかも工業的生産性の点でも有利である選択シールド性フィルムおよびその製造法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A method of manufacturing a liquid crystal panel having negative permittivity anisotropy includes a step of hermetically sealing a liquid crystal layer 30 between a TFT substrate 10 and a CF substrate 20 through vertical alignment films 11 and 21, and a step of exposing the entire surface of the liquid crystal layer 30 to light while a voltage V is applied between the substrates 10 and 20.
    この液晶パネルの製造方法は、負の誘電率異方性を有する液晶パネルの製造方法であり、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０との間に垂直配向膜１１，２１を介して液晶層３０を封止する工程と、基板１０，２０間に電圧Ｖを印加した状態で液晶層３０の全面を露光する工程とを含む。 - 特許庁
  • In this manufacturing method of an electrode substrate for a plasma display panel, a transparent conductive film formed on a surface of a transparent substrate 10 is irradiated with a laser beam L for eliminating the transparent conductive film to form many parallel and linear gaps 21, and the transparent conductive films remained between the parallel and linear gaps 21 are used as filament electrodes.
    透明基板１０の表面に形成された透明導電膜にレーザ光Ｌを照射し、透明導電膜を消失させて多数の平行な直線状空隙２１を形成し、この直線状空隙２１の間に残った透明導電膜を線状電極とする、プラズマディスプレイパネルの電極基板を製造する方法である。 - 特許庁
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