「Formation Process」を含む例文一覧(2477)

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  • Then, each crystal wafer is classified into the frequency groups G1, G2, G3 based on central frequency of the crystal wafers measured after the electrode formation process.
    そして、電極形成工程後に測定した水晶ウエハの中心周波数に基づいて、各水晶ウエハを周波数グループＧ１、Ｇ２、Ｇ３に分類する。 - 特許庁
  • In a film formation process, at least part of an interconnection and/or an electronic element and/or an electrode for display is formed on a transparent substrate.
    成膜工程において、透明基板上に、配線、電子素子及び表示用電極の少なくともいずれかにおける少なくとも一部を形成する。 - 特許庁
  • To provide a production process of a semiconductor device that controls deterioration of yield related to formation of a via hole and furthermore, improves throughput.
    ビアホールの形成に関連する歩留まりの低下を抑制し、また、スループットを向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • In addition, since formation of the end electrode 6 and connection to the end electrode 6 of the lead member 4 are performed in the same process, manufacturing cost can be lowered.
    また、端部電極６の形成と、リード部材４の端部電極６への接続とが同一工程で行われるので、製造コストを低減できる。 - 特許庁
  • ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE FOR IMAGE FORMATION USING THE ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR
    電子写真感光体及びその製造方法、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成用プロセスカートリッジ - 特許庁
  • To provide a specific film formation process which is hardly affected by external environment, for example, by using a droplet discharge method or the like.
    液滴吐出法等を用いることにより、例えば外部環境の影響を受けにくいなどの効果を奏する特異な成膜プロセスを提供する。 - 特許庁
  • To simplify a formation process of a retardation layer, in a liquid crystal display panel which constitutes a semi-transmissive liquid crystal display, with a built-in the retardation layer.
    位相差層を内蔵した半透過型液晶表示装置を構成する液晶表示パネルにおける該位相差層の形成プロセスを簡略化する。 - 特許庁
  • According to the process, width of the wafer becoming useless due to formation of the isolation trench, and the like, can be reduced by at least 30-40 μm.
    この様な工法により、分離溝の形成等によって無駄になるウエハの幅を少なくとも３０〜４０μｍ程度は削減することができる。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can secure the stability of a polishing process for the formation of landing plugs.
    ランディングプラグを形成するための研磨工程時に研磨工程の安定性を確保することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process for manufacturing a device which can eject droplets onto predetermined positions in the formation of a predetermined pattern on a substrate using a multi-nozzle head.
    マルチノズルヘッドを用いて基板上に所定のパターンを形成する際、所望の位置に液滴を吐出できるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pigment composition free from lowering of the contrast ratio even when a color filter formation process is carries out at high temperature; and to provide a method for producing the same.
    カラーフィルター形成工程を高温で行っても、コントラスト比が低下することのない顔料組成物、および、その製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Consequently, a mixer which has very excellent characteristics at low frequencies can be provided through a simple very small-size electronic resistance formation process.
    本発明は、簡単な超小型電子抵抗形成プロセスにより、低周波数において非常に良好な性能を有するミキサを提供することができる。 - 特許庁
  • To provide a process cartridge reproduction method and a development device reproduction method which enable easy reproduction and high quality image formation.
    簡易に再生産が可能で、かつ、高品質な画像形成を可能とする、プロセスカートリッジの再生産方法及び現像装置の再生産方法を提供する。 - 特許庁
  • FORMATION PROCESS OF QUANTUM WIRE OR QUANTUM WELL LAYER, AND DISTRIBUTED FEEDBACK LASER
    量子細線または量子井戸層の形成方法、及び該形成方法により形成された量子細線または量子井戸層を用いた分布帰還半導体レーザ - 特許庁
  • Thereby, the time required for formation is short compared with a process in which a silicon oxide film or silicon oxide nitride film is formed without depending on the thickness of the silicon nitride film.
    このため、シリコン窒化膜１２の厚さに拘らずシリコン酸化膜またはシリコン酸化窒化膜を形成する場合に比べて、この形成のための時間が短い。 - 特許庁
  • To reduce the number of particles adhering to a processing object when repeatedly performing a SiO_2 film formation process to the processing object using Si source gas and oxidizing species.
    Ｓｉソースガスと酸化種を用いて被処理体へのＳｉＯ_２膜成膜処理を繰り返し行う際に、被処理体に付着するパーティクル数を低減すること。 - 特許庁
  • To provide a layer forming method and a layer forming apparatus hardly causing cracks on a lens base material even in the firing process after layer formation by a spin coating method.
    スピンコート法による層形成後の焼成工程においても、レンズ基材にクラックが生じにくい層形成方法および層形成装置を提供すること。 - 特許庁
  • The controller uses the computerization model of mathematical expression of a network restricted view of an unwrapped glass product formation process and analyzes the model as a restricted optimization problem.
    アンラップ・ガラス製品形成プロセスのネットワーク拘束図の数学的表現であるコンピュータ化モデルが用いられ、該モデルを拘束最適化問題として解析する。 - 特許庁
  • In the formation process of the as-grown-p-type active group III-V nitride compound layer, a board is introduced into a reaction chamber, and is heated.
    ａｓ−ｇｒｏｗｎｐ型活性ＩＩＩ−Ｖ族窒化化合物層の形成工程において、反応チャンバ内に基板を導入し、加熱する。 - 特許庁
  • To use the spin-coating method in a process of applying a photosensitive resin after thin film formation in a ceramic substrate having a plurality of through-holes.
    複数の貫通孔を有するセラミックス基板において、薄膜を形成した後、感光性樹脂を塗布する場合、スピンコート法による塗布が可能となる。 - 特許庁
  • To provide a scale that can abbreviate a pattern formation process and has the same functions as conventionally, and to provide an inexpensive optical detector using the scale.
    パタン形成工程が省略可能であり、かつ従来と同じ機能を持つスケール、およびこのスケールを用いた安価な光学式検出器を提供する。 - 特許庁
  • In the film formation process, a polyimide film comprising a resin matrix of polyimide and the additive dispersed in the matrix is formed on the surface of the porous substrate.
    成膜工程においては、ポリイミドからなる樹脂マトリックス中に添加物が分散されてなるポリイミド膜を多孔質基板の表面に形成する。 - 特許庁
  • Also the method for manufacturing the toner for image formation includes the process to make the inorganic fine particles A adhere to the toner mother particle via wet processing.
    また、当該無機微粒子Ａを湿式処理によりトナー母体粒子に付着させる工程を含む画像形成用トナーの製造方法である。 - 特許庁
  • TONER FOR IMAGE FORMATION, SINGLE-COMPONENT DEVELOPER OR TWO-COMPONENT DEVELOPER HAVING THE TONER, AND IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE USING THE TONER
    画像形成用トナーとその一成分現像剤または二成分現像剤、並びにトナーを用いた画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ - 特許庁
  • In the formation process of the Edo bakufu through the Muromachi, Sengoku, and Azuchi-Momoyama period, the area where the bushi were in charge of the official authority gradually and continuously increased.
    室町時代・戦国時代(日本)・安土桃山時代を経て江戸幕府成立に至る過程で、次第に武士が公権力を担う領域は拡大し続けた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • During the formation process of the Yi Dynasty Korea, the land system was reformed, the rank-land system (kwajonbop) and the "office land" (chikchon) system were introduced and lots of existing manors were confiscated.
    李氏朝鮮成立の過程で土地制度の改革が行われ、科田制及び職田制が導入され、多くの既存荘園が没収されていった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The method of manufacturing the semiconductor device carries out the formation of a dam 21 for damming the outflow of underfill material simultaneously with the forming process of an electrode pad 4.
    本発明の半導体装置の製造方法は、アンダーフィル材の流出を堰き止めるダム２１の形成を電極パッド４の形成工程と同時に行う。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which enable the formation of an MIM capacitor together with a metal wiring without using additional complicated process.
    複雑な工程を追加することなく、金属配線とともにＭＩＭ型キャパシタを形成することが可能な、半導体装置及びその製造方法を得る。 - 特許庁
  • The heating processes can be provided only after the respective grating formation process SN2 and Si2 of the grating 20N lastly manufactured and at least one other grating 20i.
    最後に作製されるグレーティング２０_Nおよび他の何れか１以上のグレーティングそれぞれのグレーティング形成工程の後に加熱工程を設けるだけでもよい。 - 特許庁
  • An etching resistant mask TiN film 42a for upper electrode formation is formed on the upper surface of the Ir layer 40a and a first dry etching process is carried out.
    このＩｒ層４０ａの上面に上部電極形成のための耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａを形成して、第１のドライエッチング工程を実施する。 - 特許庁
  • In the image forming processing, the pretreatment is performed or omitted according to the set state of the flag before the electrostatic latent image formation process on the photoreceptor drum.
    画像形成処理の際は、感光体ドラムへの静電潜像形成処理前に、フラグのセット状態に応じて前処理を実行したり省略したりする。 - 特許庁
  • In a first discharge process, liquid droplets are discharged with a pitch larger than the diameter of a liquid droplet after landing at a substrate over the whole wiring formation region.
    第１吐出工程では、液滴を配線形成領域全体に前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで吐出する。 - 特許庁
  • In the light-sensitive polyimide, a mask process due to a projection aligner can be made as in resist, and film thickness formation of 10 to 40 μm can also be made easily.
    この感光性ポリイミドは，レジストと同様露光装置によるマスクプロセスが可能であり，１０〜４０μｍの厚膜形成も容易に行うことができる。 - 特許庁
  • A parallel algorithm for saving discontinuity by avoiding crack formation caused in a process of independent lattice division of each lattice element is also included.
    また、各格子要素がそれぞれ独立に格子分割を行う過程で発生するクラックの形成を回避し、不連続性を保存する並列アルゴリズムも開発した。 - 特許庁
  • To improve the yield of wiring by preventing faulty connection, while increasing the EM resistance and SM resistance during the formation of a multilayer wiring structure by damascene process.
    ダマシン法で多層配線構造を形成する際に、ＥＭ耐性およびＳＭ耐性を高めつつ、接続不良を防いで配線の歩留まりを向上させる。 - 特許庁
  • A printing method comprises a process of forming dot data showing the formation state of a dot to each printing pixel by performing half-tone processing.
    本発明の印刷方法は、ハーフトーン処理を行うことによって各印刷画素へのドットの形成状態を表すドットデータを生成する工程を備える。 - 特許庁
  • A semiconductor device, wherein an interlayer insulation film comprising boron nitride films 7, 9, 11 whose dielectric is less than 4 is formed in a wiring formation process, is manufactured.
    配線形成工程において、誘電率が４未満の窒化ホウ素膜７，９，１１からなる層間絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a method and apparatus for ion plating whereby the evaporation surface of a vapor deposition material is almost uniformly decreased in a film formation process.
    蒸着材料の蒸発面を成膜過程において略均一に減少させることができるイオンプレーティング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process which produces a light hydrocarbon oil by the thermal decomposition of a heavy oil at a relatively low pressure while inhibiting the formation of coke.
    比較的低圧において、コークスの発生を抑制しつつ、重質油を熱分解してより軽質な炭化水素油を製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • Thus, the formation of the electrostatic latent images with two laser beams accelerates the process speed without increasing the rotation number of a polygon mirror.
    このように、２本のレーザビームによって静電潜像を形成するので、ポリゴンミラーの回転数を増加させずに、プロセススピードを増加させることができる。 - 特許庁
  • A capacitor formation region 14 includes a wiring layer 13 in other vias and wiring regions formed in the same process as a lower electrode 131.
    容量形成領域１４は、同一工程で形成される他のビアや配線領域における配線層１３を下部電極１３１として含む。 - 特許庁
  • Alternatively, a method comprises a heat treatment process which is performed at temperature higher than film formation temperature of the amorphous oxide layer after forming the amorphous oxide layer on the substrate.
    または、基板上に、非晶質酸化物層を形成する後に、非晶質酸化物層の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁
  • In the process C, the metastable cubic GaN layer is formed, by suppressing the formation of a stable hexagonal GaN layer by introducing an argon-containing gas.
    アルゴンを含むガスをプロセスＣにおいて導入することで、安定な六方晶ＧａＮの形成を抑制し、準安定な立方晶ＧａＮを形成する。 - 特許庁
  • In addition, the annealing temperature optimum to the formation of the alloy can be set, so the semiconductor process can be made efficient, and a yield can be improved.
    さらに、その合金の形成に最適なアニール温度を設定することができるので、半導体プロセスの効率化や歩留まりの向上を図れる。 - 特許庁
  • Accordingly, a semiconductor laser with high ESD resistance can be obtained because of the film formation process of the semiconductor laser manufacturing method.
    したがって、本発明に係る半導体レーザ製造方法における成膜工程によれば、ＥＳＤ耐性の高い半導体レーザを得ることができる。 - 特許庁
  • According to this process, satisfactory punch pushing is attainable without causing the buckling of the pipe, the deformation in the end face or the crack formation.
    この加工法によれば、金属パイプを座屈させたり端面を変形させたり、あるいは割れを発生させる事なく、良好に軸押しするがことできる。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an electronic device which effectively prevents the formation of voids in an underfill and shortens a manufacturing process and a time required for manufacturing.
    アンダーフィル内のボイドの発生を効果的に防止し、かつ、製造工程および製造にかかる時間を短縮した電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A process where a mesa 5 is formed on a semiconductor substrate 1 and the formation of an entire oxide film 13 and the etching of the entire face are repeated at least not less than twice is provided.
    半導体基板上にメサを形成後、酸化膜の全面成膜と全面エッチングとを少なくとも２回以上繰り返す工程を設ける。 - 特許庁
  • To prevent vapor of a solvent from being brought to a succeeding process after a thin film layer is made from a solution containing a film formation constituent and the solvent.
    膜形成成分と溶媒を含有する溶液から薄膜層を形成した後、この溶媒の蒸気を後工程に持ち込まないようにする - 特許庁
  • To provide an image formation device capable of carrying out image forming motion under a process condition most suitable for a recording medium without troubling a user.
    ユーザーの手を煩わせることなく記録媒体に最適なプロセス条件で画像形成動作を行うことが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
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