If a voltage comparator in a control IC1 detects a high level ("H") of a voltage Vds in measuring a response deviation, an HMOS is turned on by a gate driver circuit in the control IC1. 応答ズレ計測時に、制御IC1内の電圧比較器が電圧Vdsのハイレベル(“H”)を検出すると、制御IC1内のゲートドライバ回路によりHMOSがオンされる。 - 特許庁
In this case, a timer 5 measures a time difference T1 between an output timing of a high level ("H") detection signal of the voltage Vds from the voltage comparator 3 and an on-timing of the HMOS. このとき、タイマ5が、電圧比較器3からの電圧Vdsのハイレベル(“H”)検出信号の出力タイミングとHMOSのオンタイミングとの時間差T1を計測する。 - 特許庁
An oxynitirde film 5 is formed in a low breakdown voltage transistor LMOS region and an oxide film 7 which becomes the gate insulating film of high breakdown voltage transistor HMOS is formed through a thermal oxidation processing. 低耐圧トランジスタLMOS領域に酸窒化膜5を形成した後、熱酸化処理によって高耐圧トランジスタHMOSのゲート絶縁膜となる酸化膜7を形成する。 - 特許庁
The measuring result of the response deviation is input into the control IC1, and response time of a response time varying circuit is changed by the value so as to correct the response deviation when the LMOS and the HMOS are turned on. これらの応答ズレの計測結果を制御IC1に入力し、この値によって応答時間可変回路の応答時間を変えることによりLMOS、HMOSのオン時の応答ズレを補正することができる。 - 特許庁