「IFR」を含む例文一覧(19)

  • The interface block 13 includes a carrying mechanism IFR for interface.
    インターフェースブロック１３はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。 - 特許庁
  • The interface block 14 includes a carrying mechanism IFR for interface.
    インターフェースブロック１４はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。 - 特許庁
  • Aeroplane intended to fly by IFR with the alternate airport etc. indicated on flight plan
    計器飛行方式により飛行しようとするものであつて、代替空港等を飛行計画に表示するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • Aeroplane intended to fly by IFR with no alternate airport indicated on flight plan
    計器飛行方式により飛行しようとするものであつて、代替空港等を飛行計画に表示しないもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • (iv) Aeroplane intended to fly by IFR (excluding aircraft used for air transport services).
    四　計器飛行方式により飛行しようとする飛行機（航空運送事業の用に供するものを除く。） - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • (v) Rotorcraft intended to fly by IFR (excluding those used for air transport services).
    五　計器飛行方式により飛行しようとする回転翼航空機（航空運送事業の用に供するものを除く。） - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The interface block 13 includes a drying section 95 having two drying units, and a carrying mechanism IFR for interface.
    インターフェースブロック１３は２つの乾燥処理ユニットを含む乾燥処理部９５およびインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。 - 特許庁
  • An interface block 16 contains a seventh center robot CR7; a feed buffer section; a conveyance mechanism IFR for interfaces; and an edge exposure section EEW.
    インターフェースブロック１６は、第７のセンターロボットＣＲ７、送りバッファ部、インターフェース用搬送機構ＩＦＲおよびエッジ露光部ＥＥＷを含む。 - 特許庁
  • The slit part 11 is disposed more inside than a sealant 4 so as to extend along a side (lower side) on the side of the interface region IFR of a display part DP.
    スリット部１１は、表示部ＤＰのインターフェース領域ＩＦＲ側の辺（下辺）に沿って延在するように、シール剤４よりも内側に配設されている。 - 特許庁
  • A substrate W, subjected to exposure in the aligner 14, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 95.
    露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。 - 特許庁
  • A substrate W, subjected to exposure in the aligner 15, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 80.
    露光装置１５において基板Ｗに露光処理が行われた後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部８０に搬送される。 - 特許庁
  • The post-injection timing IFR is set slower by approx. 10° (CA) than a normal post-injection timing IF, and the post-injection amount QFR is 15% or more of the main injection amount QmR.
    後噴射時期Ｉ_FRは正規の後噴射時期Ｉ_Fより略１０゜（ＣＡ）遅角設定とし、後噴射量Ｑ_FRは主噴射量Ｑｍ_Rの１５％以上とする。 - 特許庁
  • A substrate W, subjected to exposure in the aligner 14, is carried by the carrying mechanism IFR for interface to the drying section 95.
    露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５の乾燥処理ユニットに搬送される。 - 特許庁
  • When the substrate W exposed by the exposure device 14 is carried from the exposure device 14 to a substrate mounting section PASS 10, a hand H6 on the lower side of the interface carrying mechanism IFR is used.
    また、露光装置１４による露光処理後の基板Ｗを露光装置１４から基板載置部ＰＡＳＳ１０へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの下側のハンドＨ６が用いられる。 - 特許庁
  • When a substrate W not yet exposed by an exposure device 14 is carried from a substrate mounting section PASS 9 to the exposure device 14, a hand H5 on the upper side of an interface carrying mechanism IFR is used.
    露光装置１４による露光処理前の基板Ｗを基板載置部ＰＡＳＳ９から露光装置１４へと搬送する際には、インターフェース用搬送機構ＩＦＲの上側のハンドＨ５が用いられる。 - 特許庁
  • A slit part 11 is disposed within a surface of a peripheral part black matrix 3 of a region on the side of an interface region IFR out of a region corresponding to a panel peripheral region PR of a color filter substrate 1.
    カラーフィルタ基板１のパネル周辺部ＰＲに対応する領域のうち、インターフェース領域ＩＦＲ側となる領域の周辺部ブラックマトリクス３の表面内に、スリット部１１が配設されている。 - 特許庁
  • The concentration of the element in an interface region IFR containing an interface 25 between the first metallic layer and the second semiconductor layer is set to be higher than a first metallic internal region 51c separated from the interface in the first metallic layer.
    第１金属層と第２半導体層との界面２５を含む界面領域ＩＦＲにおける前記元素の濃度は、第１金属層のうちの界面から離れた第１金属内部領域５１ｃよりも高い。 - 特許庁
  • In a carry-in/carry-out block 15b of the interface block 15, hands H1 and H2 of an interface conveying mechanism IFR are driven independently of each other with the substrate W before the exposure treatment conveyed by the hand H1 and the substrate W after the exposure treatment conveyed by the hand H2.
    また、インターフェースブロック１５の搬入搬出ブロック１５ｂにおいて、インターフェース用搬送機構ＩＦＲのハンドＨ１，Ｈ２がそれぞれ独立に駆動され、露光処理前の基板ＷがハンドＨ１により搬送され、露光処理後の基板ＷがハンドＨ２により搬送される。 - 特許庁
  • As a hydrocarbon adsorbent, 12-membered ring and/or 10-membered ring of one-dimensional cage-type microporous zeolite, including IFR zeolite such as ITQ-4 or SSZ-42, SFE zeolite such as SSZ-48, SFF zeolite such as SSZ-44, and STF zeolite such as SSZ-35, is used.
    炭化水素吸着材として、例えばＩＴＱ−４やＳＳＺ−４２のようなＩＦＲ構造ゼオライト、ＳＳＺ−４８のようなＳＦＥ構造ゼオライト、ＳＳＺ−４４のようなＳＦＦ構造ゼオライト、ＳＳＺ−３５のようなＳＴＦ構造ゼオライトといった１２員環及び／又は１０員環から構成されるケージ型の１次元細孔構造を有するゼオライトを使用する。 - 特許庁

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