「In Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 928 929 930 931 932 933 934 935 936 .... 999 1000 次へ＞- To provide a dry etching method which allows low taper angle by employing an inclined structure of two steps or more in the etching sidewall, and simplification of the peeling process after etching.
本発明は、エッチング側壁を２段以上の傾斜構造にしてテーパー角を低角度にするとともに、エッチング後の剥離工程を簡素化できるドライエッチング方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - In a crushing process for crushing a niobium crude powder by a crusher, a crusher is used which is equipped with crushing media having at least one of a tantalum layer, a niobium layer, and a tantalum-niobium layer on the surface.
ニオブ粗粉末を粉砕機で粉砕する粉砕工程において、少なくとも表面にタンタル層、ニオブ層、タンタルーニオブ合金層のいずれかを有する粉砕メディアを備えた粉砕機を使用する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of achieving ideal device characteristics by reducing plasma damage, especially plasma damage in a process after metal film formation, with simple configurations and processes.
簡単な構成且つ工程で、プラズマダメージ、特に金属膜形成以降の工程におけるプラズマダメージを低減して好適なデバイス特性を実現することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Therefore, plasma with overall uniformity is formed in the process chamber 40, so that the occurrence of failures for etching rate, linewidth, uniformity, etc., of the wafer to be processed can be prevented.
従って、工程チャンバ４０の内部に全体的に均一なプラズマを形成することで、工程対象ウェハのエッチング率、線幅及び均一度等の要素に不良が発生することを防止することができる。 - 特許庁 - To properly determine the shooting possibility of a firearm at a target by incorporating determination based on geographic information into an effectiveness calculating process for calculating effectiveness in harmony with actual environment.
有効度算定の過程に地形情報に基づく判定を取り入れることで、より実環境に即した有効度の算定を行い、目標に対する火器の射撃の可能性を適切に判定する。 - 特許庁 - In more generous modes of this invention, an undesired material arranged on the bonding interface of two silicon-contained semiconductor materials can be removed by a similar annealing process.
本発明の更なる一般的な態様において、類似したアニール処理を用いて、２つのシリコン含有半導体材料の接合境界面に配置された望ましくない材料を除去することができる。 - 特許庁 - To provide a header for displaying a fabric sample in which it is absolutely unnecessary to fitting a cardboard to the fabric sample or to process perforation, and fitting of the fabric sample can be simply performed by one touch.
布地サンプルに対する厚紙の取り付けや孔あけ処理が全く不要であり、しかも布地サンプルの取り付けがワンタッチで簡単にできるような布地サンプル陳列用ヘッダーを提供する。 - 特許庁 - Thus, many dedicated decoders or large capacity ROMs normally required to process a plurality of kinds of signal processing data in a conventional CD player are made unnecessary and the hardware constitution is made simpler.
従って、ＣＤプレーヤにおいて、複数種類の信号処理データを処理するための、多数の専用デコーダ或いは大容量のＲＯＭなどが不要となるので、ハードウェアが単純な構成となる。 - 特許庁 - To ensure that there are few joints after assembling, and it has superior electromagnetic wave shielding effect (EMI), and it has high intensity without pouring an insulated resin material into a metal protection cover in the manufacturing process.
組み立てた後の継ぎ目が少なく、電磁波シールド効果（ＥＭＩ）が優れて、製造過程において絶縁樹脂材を金属保護カバー内に注入しなくても高い強度を確保できるようにする。 - 特許庁 - To provide a sludge treatment process which involves an ozone treatment of concentrated sludge to, enables solubilization of the sludge to enhance the decomposition rate of anaerobic digestion of the sludge, increases of the amount of a digestion gas generated in the anaerobic digestion and accordingly reduces the volume the sludge.
濃縮汚泥に対してオゾン処理することによって、汚泥を可溶化させ、嫌気性消化の分解率を高め、消化ガスの発生量の増加を図り、もって汚泥の減容化率を高める。 - 特許庁 - To exactly measure the position deviation values of a lower layer circuit pattern and an upper layer resist pattern caused by the lens aberration of a stepper to be used for exposure in the lithography of a semiconductor manufacturing process.
半導体製造工程のリソグラフィー工程において、露光に使用されるステッパーのレンズ収差に起因する下層回路パターンと上層レジストパターンとの位置ずれ量を正確に計測する。 - 特許庁 - The system for supporting the operation of the water treatment plant has a constitution provided with a controller in the water treatment plant having a process for draining treated water from a treatment water tank by two or more pumps.
本実施形態によれば、水処理プラントの運転支援システムは、複数のポンプにより処理水槽から処理水を排水するプロセスを有する水処理プラントにおいて、コントローラを備えた構成である。 - 特許庁 - In an inspection process, an inspecting device 8 obtains conversion error voltage ΔV from ideal voltage Vr and output voltage Vo to the external digital data S1 and digitizes it by an A/D converter 12.
検査工程において、検査装置８は、外部ディジタルデータＳ１に対する理想電圧Ｖｒと出力電圧Ｖｏとから変換誤差電圧ΔＶを求め、それをＡ／Ｄ変換器１２によりディジタル化する。 - 特許庁 - To polish the conductor used for a barrier layer at a high rate, by using the polishing fluid having a low abrasive grain concentration and a low metal anticorrosive concentration, in a wiring process for semiconductor devices.
低砥粒濃度、低金属防食剤濃度の研磨液を用いることにより、半導体デバイスの配線形成工程において、バリア層に用いられる導体を高い研磨速度で研磨できる。 - 特許庁 - To provide a processor which does not require any sample hold circuit and can process the input signals of a plurality of input channels in a phase error-free state even when no complicated arithmetic processing is performed by means of a control section.
サンプルホールド回路が不要であって、且つ制御部での複雑な演算処理がなくても、位相誤差のない状態で複数の入力チャンネルの信号処理を行うことを可能にする。 - 特許庁 - To manufacture a base material for a multilayer substrate by which inter-layer connection base on conductive paste is performed at low resistance and high reliability without generating chipped defects on a projection part of the conductive paste in a manufacturing process.
製造過程で、導電性ペーストの突起部に欠損不良が生じることがなく、導電性ペーストによる層間導通を、低抵抗で、信頼性高く行う多層基板用基材を製造すること。 - 特許庁 - In the process for generating the control pulse, when the environmental temperature of a pattern formation device changes, a prescribed length of the signal outputted from the linear scale means is changed, corresponding to the temperature change.
この制御用パルスを生成する過程で、パターン形成装置の環境温度が変化した場合、その温度変化に応じてリニアスケール手段から出力される信号の所定長が変化する。 - 特許庁 - This image forming device does not cause interference of the brush pattern and a dithering pattern used by the application when performing a dithering process in half-tone screening which uses frequency modulation multi-value dots.
画像形成装置は、周波数変調方式多値ドットを使用するハーフトーンスクリーニングにおいて、ディザ処理の際に、アプリケーションが使用するブラシパターンとディザパターンとの干渉が発生しないことを特徴とする。 - 特許庁 - When a shortcircuit part is generated between the storage capacitance electrode 6 and the drain bus line 2 in the manufacturing process, the shortcircuit part is not cut by using a laser but the connection part 11 is cut.
そして、製造過程において、蓄積容量電極６とドレインバスライン２との間に短絡部が発生した場合には、レーザを用いて短絡部を切断するのではなく、連結部１１を切断する。 - 特許庁 - This reflectance function is used in the process of machine vision, by allowing a machine to optimize the reflectance function and arrive at an optimal rendered image of the object model, relative to an input image.
この反射関数は、マシンが反射関数を最適化し、入力画像に対して、物体モデルの最適な描画画像に達することを可能にすることによって、マシン・ビジョンの処理に使用される。 - 特許庁 - In this gear treatment method, a shot peening is applied to at least one tooth flank of a first gear and a second gear after they are hardened by a thermal process, engaged with each other, and rotated.
歯車の処理方法は、熱処理により硬化されており互いに噛み合わせて回転させられた後の第１歯車と第２歯車との少なくとも一方の歯面に対してショットピーニング処理を施す。 - 特許庁 - The hydrating process of the cadmium oxide of an electrode plate is conducted in a hydrated solution added with a phosphate and/or a silicate to a potassium hydroxide aqueous solution with the specific gravity of 1.25 or below at 25°C.
電極板の酸化カドミウムの水和処理を、２５℃における比重が１.２５以下の水酸化カリウム水溶液に燐酸塩及び／又は珪酸塩を添加して調製された水和液の中で行なう。 - 特許庁 - When heating after alignment as a post-process is performed for this substrate W, a flow of the gas in an inversive direction to the specific direction at the time of heating before alignment is formed.
この基板Ｗに対し、後工程である露光後加熱処理を行うときには、露光前加熱処理時における前記特定方向とは逆向きの気流の流れを基板Ｗ上に形成する。 - 特許庁 - To obtain a plasma etching method for forming a fine contact hole having reduced aperture by limiting spreading of top diameter in etching process, and a method for forming a contact hole employing the plasma etching method.
エッチングの過程におけるトップ径の拡がりを抑制し、口径が縮小された微細コンタクトホールを形成することができるプラズマエッチング方法、およびこれを用いたコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁 - The ring is fitted to a neck part between a pineapple being in process of growth and its top leaves, so that the ring cannot be detached from the neck part because of following growth of the pineapple and top leaves.
成長過程のパイナップルとその頂頭葉との間の首部にリングを嵌挿しておき、その後のパイナップルと頂頭葉の成長によって、リングが首部から離脱不能な状態にする。 - 特許庁 - Thus, problems of an optical system, high cost, a large-scale, and increase in the weight or the like are not caused different from the provision of two cameras and the single camera can process two images.
そのため２つのカメラを設けた場合のように、光学系の問題や高コスト化、大型化、重量増大等の問題を生じることがなく、１つのカメラで２つの画像処理が可能となる。 - 特許庁 - To provide a crystallizer for shortening the time required for crystallization by starting the crystal growth process at the point of time when a predetermined amount of a concentrated liquid is stored in a concentrated liquid storage chamber having a small volume.
小容積の濃縮液収容室に所定量の濃縮液が溜まった時点から結晶成長プロセスを開始することにより晶析に要する時間を短縮できる、晶析装置提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of a fiber-reinforced resin molded article which can acquire the reinforcement effectiveness by fiber effectively by inhibiting that the fiber takes the shape of incidental looping in the fiber-reinforced resin molded article.
繊維強化樹脂成形品において、繊維が糸玉状になることを抑制し、繊維による補強効果を効果的に得ることができる繊維強化樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To enable the level shift operation to be surely executed in a level shift circuit, even when the supply voltage of an input signal is made low, without increasing the circuit area or the process cost.
レベルシフト回路において、回路面積の増加やプロセスコストの増大を招くことなく、入力信号の電源電圧を低電圧化した場合にも、レベルシフト動作を確実に実行可能にする。 - 特許庁 - To provide a vacuum deposition device capable of continuously and uniformly forming a mixed film composed of different elements and having prescribed compositional ratios and objective thickness on the surface of a film in the process of running.
走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁 - With a printer driver positioned at the intermediate point of a print process for grasping the state change of each piece of software as a center, what type of processing is being performed by each piece of software is displayed in parallel.
印刷過程の中間点に位置しており各ソフトウェアの状態変化が把握可能なプリンタドライバが中心となって、各ソフトウェアが今何の処理をしているのかを並列に表示する。 - 特許庁 - To obtain lower resistance of a p-type contact layer, and to obtain a current constriction structure without applying a ridge-like process to the p-type semiconductor layer in a semiconductor laser element.
ｐ型コンタクト層の低抵抗化を図れるようにすると共に半導体レーザ素子においてはｐ型半導体層にリッジ状の加工を施すことなく電流狭窄構造を実現できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a wring substrate, a semiconductor device, a method for manufacturing the device, a circuit substrate and electronic apparatus, which can improve light shielding performance in a manufacturing process.
製造プロセスにおいて半導体チップの遮光性を高めることができる配線基板の製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することである。 - 特許庁 - To reduce the physical load on an agricultural work by applying an agrochemical in the process of a seeding work with a seeder to simplify the applying work, when the agrochemical to be applied on the seeding is used.
播種機による種播き作業の過程で農薬の散布を行い、播種時散布の農薬を使用する場合の散布作業の簡略化を図ることで農作業の身体的な負担を軽減する。 - 特許庁 - That is, if only the shutter key has been depressed without the focus holding key being depressed, a focus following mode is set, so that consecutive photographing involving the auto-focus process is carried out in S105.
よって、フォーカスホールディングキーが押下されずに、シャッターキーのみが押下中である場合には、フォーカス追従モードが設定されて、Ｓ１０５でのオートフォーカス処理を伴う連続撮影が実行される。 - 特許庁 - To satisfactorily perform CMP without generating a remaining film, dishing, or the like even if performing CMP by a fixed abrasive grain method in a process for manufacturing a semiconductor device having an STI structure.
ＳＴＩ構造の半導体装置の製造過程において固定砥粒方式によるＣＭＰを行う場合であっても、残膜やディッシング等が生じることなく良好にＣＭＰを行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a polyimide film which is excellent in heat resistance, colorless transparency, moldability (easiness when molded into a film and smallness of a process load), and optical properties (a high refractive index, a low birefractive index, etc) and which is inexpensive.
耐熱性、無色透明性、成形性（フィルム状に成形する際の容易さ、プロセス負荷の小ささ）、光学特性（高屈折率、低複屈折率等）に優れ、低コストであるポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a hollow structure which enables a fine hollow structure having openings on both upper and lower sides to be formed stably and rapidly in a single process of forming the hollow structure.
上下両側に開口を有する微細な中空構造体を中空構造体形成の工程内で安定して迅速に形成することができる中空構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for effectively removing a coarse particle generated mainly in the polymerization process and producing a high-quality vinyl chloride-based resin and also to provide a vinyl chloride-based resin obtained by using the same.
主に重合工程中で生成する粗粒子を効率的に除去し、高品質の塩化ビニル系樹脂を製造する方法及びこれを用いて得られる塩化ビニル系樹脂を提供する。 - 特許庁 - The spherical head part 23 of the ball stud 18 is formed via a cutting process, and a processing mesh 45 formed on its outside surface extends in the substantially orthogonal direction to the rocking direction D1 of the ball stud 18.
ボールスタッド１８の球頭部２３は、切削工程を経て形成されており、その外表面に形成された加工目４５は、ボールスタッド１８の揺動方向Ｄ１に略直交する方向に延びている。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device for manufacturing the semiconductor device having no deterioration of forward voltage (VF) characteristics and peak surge current (IFS) characteristics in a comparatively short process.
比較的短いプロセスで、順電圧（ＶＦ）特性や尖頭サージ電流（ＩＦＳ）特性の劣化のない半導体装置を製造することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the toner supply roller includes a short fiber body formation process in which the short fiber is electrostatically planted onto the surface of the elastic porous layer formed on the periphery of the core.
また、本発明のトナー供給ローラの製造方法は、芯材の周面に形成された弾性多孔質層表面に、短繊維を静電力により植毛する短繊維体形成工程を備える。 - 特許庁 - To provide a method for producing a polyvinyl chloride glove made by flocking piles on the internal surface of the glove, aiming at omitting a conventional process of soaking a gloves in a resin solution to bond piles thereto.
手袋本体の内面にパイルを植毛して成る塩化ビニル製手袋の製造方法に関し、従来行なわれていたパイルを接着するための樹脂溶液に浸漬する工程を省くことである。 - 特許庁 - During a process in which a spawn of Grifola gargal is inoculated into a medium and cultured to grow mycelia, an aromatic component containing cinnamaldehyde and/or benzaldehyde is separated from the culture.
培地にグリフォーラ・ガルガル（Ｇｒｉｆｏｌａ ｇａｒｇａｌ）の種菌を接種し、培養して、菌糸体を生育させる過程で、培養物からシンナムアルデヒド及び／又はベンズアルデヒドを含有する芳香成分を分離した。 - 特許庁 - To provide a ridge type semiconductor laser element, in which an electrode on the ridge section side can be installed stably on a fixed mounting surface surely without complicating a manufacturing process.
製造工程を複雑化することなくリッジ部側の電極を所定の取り付け面に安定かつ確実に取り付けることができる信頼性の高いリッジ型の半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁 - To provide a processing plate correction method of a spherical lens polishing machine, shortening a process downtime of the spherical lens polishing machine and always conducting a correction operation accurately in a stable state.
球面レンズ研磨機の加工の中断時間を短縮でき、常に安定した状態で精度良く修正作業を行うことのできる球面レンズ研磨機の加工皿修正方法を提案すること。 - 特許庁 - To provide an electrostatic charge image developing toner which can be used in a low temperature fixing process and ensures contradictory functions such as hot storage resistance, mechanical strength and environmental stability of a charged state.
低温定着プロセスに用いることが出来、更には、耐熱保管性、機械的強度および帯電環境安定性といった相反する機能を確保した静電荷像現像用トナー提供すること。 - 特許庁 - To provide an organic thin film transistor indicating panel which minimizes influence given to an organic semiconductor in process and is capable of improving the property of an organic thin film transistor, and its manufacturing method.
工程中の有機半導体に与える影響を最小化すると同時に、有機薄膜トランジスタの特性を改善することができる有機薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - From the stage of the layout routing processing, a wirable area rate is given to a region excluding existing wiring for an arbitrary unit area, and layout design is performed in consideration of timing and a process area rate.
配置配線処理の段階から、任意の単位面積に対して既存配線を除いた領域に配線可能面積率を与えて、タイミングとプロセス面積率を考慮してレイアウト設計を行う。 - 特許庁 - The ink 16 is printed on a plurality of places so that the ink 12a, 12b forming a pair and including portions not printed with the resist 13 in the preceding process is connected to each other.
次いで、先の工程で第１レジスト１３を印刷しなかった部分であって、かつ対になる導伝性インク１２ａ，１２ｂをそれぞれ接続するように、サージ吸収インク１６を複数位置に印刷する。 - 特許庁
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