PACKAGING MATERIAL USED IN ISOTROPIC HYDROSTATIC PRESSURE FORMING METHOD 等方静水圧成形法に用いる包装材 - 特許庁
ISOTROPIC PRESSURE PRESSURIZING DEVICE AND METHOD 等方圧加圧装置および等方圧加圧処理方法 - 特許庁
SELF-FASTENING TYPE SEALING DEVICE, AND ISOTROPIC PRESSURE DEVICE 自己締付け型シール装置及び等方圧加圧装置 - 特許庁
SELECTIVE ISOTROPIC ETCHING PROCESS FOR TITANIUM-BASED MATERIAL チタンベース材料の選択的等方性エッチングプロセス - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL RESIN-REINFORCED ISOTROPIC FILM 液晶樹脂強化等方性フィルムの製造方法 - 特許庁
ISOTROPIC SHEET FOR OPTICAL USE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 光学用等方性シートおよびその製造方法 - 特許庁
The polarization reflecting plate includes an isotropic medium layer consisting of an isotropic medium and an anisotropic medium layer which is stacked on the isotropic medium and has refractive index anisotropy. 偏光反射板は、等方性媒体からなる等方性媒体層、およびこの等方性媒体層に積層され、屈折率異方性を有した異方性媒体層を含む。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING OPTICALLY ISOTROPIC PITCH WITH HIGH SOFTENING POINT 高軟化点光学的等方性ピッチの製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING ISOTROPIC GAS 同位体ガス分離方法および同位体ガス分離装置 - 特許庁
For the isotropic retardation plate, a spinel is used for a substrate. 基板にスピネルを用いている等方性位相差板。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC POWDER, MANUFACTURING METHOD FOR ISOTROPIC BONDED MAGNET, MAGNETIC POWDER, AND ISOTROPIC BONDED MAGNET 磁石粉末の製造方法、等方性ボンド磁石の製造方法、磁石粉末および等方性ボンド磁石 - 特許庁
ISOTROPIC CONCENTRATED HEATING METHOD OF ROD-LIKE MEMBER BY LASER レーザによる棒状部材の等方的集中加熱法 - 特許庁
COMPOUND ISOTROPIC BONDED MAGNET AND ROTARY MACHINE USING THE MAGNET 複合型等方性ボンド磁石およびそれを用いた回転機 - 特許庁
The method for producing an optical anisotropic film comprises: a step where an isotropic layer comprising a lyotropic liquid crystalline compound and exhibiting an isotropic phase is formed; and a step where a magnetic field is applied to the isotropic layer. 本発明の光学異方膜の製造方法は、リオトロピック液晶性化合物を含み且つ等方相を示す、等方層を形成する工程と、該等方層に磁場を印加する工程と、を有する。 - 特許庁
At 25°C, the composition comprises an isotropic surfactant continuous phase or a polyphase system comprising an isotropic surfactant continuous phase and another phase. (A)両性界面活性剤(B)アニオン界面活性剤(C)モノ2−エチルヘキシルグリセリルエーテルまたはモノ2−エチルヘキサン酸グリセリド(D)水 - 特許庁
In the process, the isotropic etching does not attain to the second insulation film 22. この際、等方性エッチングは第2絶縁膜22には及ばない。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING FIRED BODY USED FOR HOT ISOTROPIC PRESSURE DEVICE 熱間等方圧加圧装置に用いられる焼成体の製造方法 - 特許庁
DRY ASHING METHOD FOR ASHING TiN LAYER WITHOUT ISOTROPIC ETCHING TiN層を等方性エッチングなしにアッシングするドライアッシング方法 - 特許庁
POLYIMIDE-BASED RESIN BELT HAVING ISOTROPIC DIELECTRIC CONSTANT IN DIRECTION OF PLANE 面方向に等方性の誘電率を持ったポリイミド系樹脂ベルト - 特許庁
ISOTROPIC POLYIMIDE FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD 等方的なポリイミドフィルムの製造方法および等方的なポリイミドフィルム。 - 特許庁
ANISOTROPIC RETARDATION PLATE, ISOTROPIC RETARDATION PLATE AND APPARATUS USING THE SAME 異方性位相差板、等方性位相差板およびこれらを用いた装置 - 特許庁
SYSTEM FOR DETERMINING TOTAL ISOTROPIC SENSITIVITY (TIS), AND RELATED METHOD THEREFOR 全等方感度(TIS)を決定するシステムおよびその関連方法 - 特許庁
TEMPERATURE CONTROL METHOD AND TEMPERATURE CONTROL DEVICE OF WARM ISOTROPIC PRESSURE PRESSURIZING DEVICE 温間等方圧加圧装置の温度制御方法及び温度制御装置 - 特許庁
ISOTROPIC POWDERY MAGNET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND BONDED MAGNET 等方性の粉末磁石材料、その製造方法およびボンド磁石 - 特許庁
FLATTENING OF SHALLOW TRENCH ISOLATION BODY USING SELF- ALIGNMENT ISOTROPIC ETCHING 自己整合等方的エッチングを用いた浅いトレンチ分離体の平坦化 - 特許庁
OPTICALLY ISOTROPIC ACRYLIC RESIN FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD 光学等方性アクリル樹脂フィルムの製造方法およびその製造方法 - 特許庁
Besides, isotropic etching can be used for widening the uppermost layer. また最上層の幅を広げるために等方エッチングを用いることができる。 - 特許庁
The isotropic conductive bonding sheet 1 is provided with a parting film 2, and an isotropic conductive bonding agent layer 3 formed on the surface of the parting film 2. 等方導電性接着シート1は、離型フィルム2と、離型フィルム2の表面に形成された等方導電性接着剤層3とを備えている。 - 特許庁
The heating temperature of the cholesteric liquid crystal 30 is specified to be a temperature higher than the room temperature and lower than the isotropic temperature, preferably a little lower than the isotropic temperature. コレステリック液晶30の加熱温度は、室温より高く、アイソ化温度より低い温度とするが、アイソ化温度より幾分低い温度が好適である。 - 特許庁
Thereafter, the oxidized film 12 is removed from the silicon substrate 11 and isotropic etching is effected on the trenches 14 and the silicon substrate 11 in an isotropic etching process. その後、酸化膜12をシリコン基板11から除去し、等方性エッチング工程でトレンチ14及びシリコン基板11表面に等方性エッチングを行う。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ISOTROPIC GRAPHITE MATERIAL HAVING HIGH COEFFICIENT OF THERMAL EXPANSION AND GRAPHITE TOOL AND GRAPHITE BASE MATERIAL EACH CONSISTING OF THE ISOTROPIC GRAPHITE MATERIAL 高熱膨張係数を有する等方性黒鉛材の製造方法および該等方性黒鉛材からなる黒鉛製治具ならびに黒鉛製基材 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF OPTICAL ISOTROPIC CELLULOSE ACYLATE FILM AND PHASE DIFFERENCE FILM 光学等方性セルロースアシレートフィルムならびに位相差フィルムの製造方法 - 特許庁